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铝碳化硅基本参数
  • 品牌
  • 陶飞仑
  • 型号
  • 铝碳化硅
  • 加工定制
  • 特性
  • 半导体陶瓷,金属陶瓷复合材料
  • 功能
  • 热管理材料
  • 微观结构
  • 陶瓷颗粒增强金属
  • 热导率
  • 230W/(m▪K)
铝碳化硅企业商机

碳化硅颗粒增强铝基复合材料(SiCp/Al)由于其低密度、高比强度、高比刚度、高耐磨性、低热膨胀系数、高热导率及良好的抗腐蚀等优良的物理化学性能,且相对纯致密陶瓷容易加工、制造成本低,成为一种很有前途的高精密结构和散热封装材料,得到迅速发展,并在航空航天、汽车、先进武器、电子封装等领域展现了广阔的应用前景。通过调整复合材料的成分含量、制备工艺及热处理工艺等,可以满足空间工程材料和电子封装等领域的应用要求。高体分铝碳化硅目前已应用于光学反射镜、空间扫描机构主框架及光学平台、卫星箱体及盖板、散热基板领域。高体分铝碳化硅平台

此外,AlSiC可将多种电子封装材料并存集成,用作封装整体化,发展其他功能及用途。研制成功将高性能、散热快的Cu基封装材料块(Cu-金刚石、Cu-石墨、Cu-BeO等)嵌人SiC预制件中,通过金属Al熔渗制作并存集成的封装基片。在AlSiC并存集成过程中,可在**需要的部位设置这些成本相对较高的快速散热材料,降低成本,扩大生产规模,嵌有快速散热材料的AlSiC倒装片系统正在接受测试和评估。另外,还可并存集成48号合金、Kovar和不锈钢等材料,此类材料或插件、引线、密封环、基片等,在熔渗之前插入SiC预成形件内,在AlSiC复合成形过程中,经济地完成并存集成,方便光电器件封装的激光连接。特定铝碳化硅咨询报价杭州陶飞仑新材料有限公司生产的铝碳化硅热膨胀系数较低,比刚度较高。

随着现代化航空航天领域的火热,碳化硅颗粒增强铝基复合材料近年来重新得到关注。铝基碳化硅可制作出光电模块封装要求光学对准非常关键的复杂几何图形,精确控制图形尺寸,关键的光学对准部分无需额外的加工,保证光电器件的对接,降低成本。此外,铝基碳化硅还有优良的散热性能,能保持温度均匀性,并优化冷却器性能,改善光电器件的热管理。与低体分的结构级碳化硅颗粒增强铝基复合材料相比,光学仪表级的中等体分碳化硅颗粒增强铝基复合材料的功能化特性比较突出,不仅具有比铝合金和钛合金高出一倍的比刚度,还有着与铍材及钢材接近的低热胀系数和优于铍材的尺寸稳定性。

铝碳化硅在民用方面均具有迫切的市场需求和广阔的应用前景。将铝碳化硅外壳应用于相控阵雷达的T/R组件中,可以提高雷达性能,并降低成本,减轻重量。而在未来20年内,预计机载、星载、各类反导弹系统等武器装备对T/R组件需求量将达数百万甚至上千万件,由此每年可以带来高额的铝碳化硅封装管壳的需求。在民用市场方面,大功率高可靠性IGBT模块、微处理器芯片、光电子封装、高亮度LED等领域对铝碳化硅电子封装器件有着巨大需求。庞大的内需支撑起了企业的供应链条,为企业提供了很好的发展机遇。杭州陶飞仑新材料有限公司生产的铝碳化硅热导率超过230W/m·K.

目前,铝碳化硅制备工艺中,在制备55vol%~ 75vol% SiC高含量的封装用AlSiC产品时多采用熔渗法,其实质是粉末冶金法的延伸。它通过先制备一定密度、强度的多孔碳化硅基体预制件,再渗以熔点比其低的金属填充预制件,其理论基础是在金属液润湿多孔基体时,在毛细管力作用下,金属液会沿颗粒间隙流动填充多孔预制作孔隙,脱模无需机械加工,在其表面上覆盖有一层0.13mm-0.25mm厚的完美铝层,按用途电镀上Ni、Au、Cd、Ag等,供封装使用。杭州陶飞仑可根据客户产品技术要求定制化制备满足客户要求的铝碳化硅产品。特定铝碳化硅咨询报价

铝碳化硅具有高比刚度、比强度、高尺寸稳定性、低热膨胀系数、高耐磨、耐腐蚀等优异性能。高体分铝碳化硅平台

    A1SiC复合材料一般是铸造法或粉末冶金法等制备,需要进一步的机械加工达到零件所需的精度和表面粗糙度要求。SiC增强体颗粒比常用的刀具(如高速钢刀具和硬质合金刀具)的硬度高得多,在机械加工的过程中会引起剧烈的刀具磨损。PCD金刚石刀具虽然比增强体颗粒的硬度高,但硬度值相差不大,在切削加工高体分(SiC颗粒含量在60%~70%)的颗粒增强AISiC复合材料时仍然会快速磨损,且PCD金刚石刀具成本更高。众多研究表明,随着SiC含量的增大(13%~70%),增强体类型的不同(主要区别是纤维增强还是颗粒增强),可切削性越来越差,加工效率随之降低,生产成本快速增加。若以45#钢的切削性能为1计量,此种材料的切削性能*为0.05~0.3。因此,复合材料的难加工性和昂贵的加工成本限制了AISiC复合材料的广泛应用。 高体分铝碳化硅平台

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