靶材相对密度对大面积镀膜的影响靶材的相对密度是靶材的实际密度与理论密度之比。单组分靶的理论密度为晶体密度。合金或混合物靶材的理论密度由各组分的理论密度及其在合金或混合物中的比例计算得出。热喷涂的靶材结构疏松多孔,含氧量高(即使在真空喷涂中,也很难避免合金靶材中氧化物和氮化物的产生)。表面呈灰色,缺乏金属光泽。吸附的杂质和水分是主要污染源,阻碍了高真空的快速获得,在溅射过程中迅速导致放电,甚至烧毁靶材。同时,靶材溅射表面的高温会迅速导致松散颗粒落下,污染玻璃表面,影响镀膜质量。相对密度越高,成膜速度越快,溅射工艺越稳定。根据靶材制备工艺的不同,铸造靶材的相对密度应在98%以上,粉末冶金靶材应在97%以上才能满足生产使用。因此,应严格控制目标密度,以减少落渣的发生。喷涂靶材的密度低,并且制备成本也低。当相对密度能保证90%以上时,一般不影响使用。在显示面板和触控屏两个产品生产环节需要使用靶材,主要用于ITO玻璃及触控屏电极,用量比较大的是ITO靶材。浙江溅射陶瓷靶材价格咨询
溅射靶材开裂原因生产中使用的冷却水温度与镀膜线实际水温存在差异,导致使用过程中靶材开裂。一般来说,轻微的裂纹不会对镀膜生产产生很大的影响。但当靶材有明显裂纹时,电荷很容易集中在裂纹边缘,导致靶材表面异常放电。放电会导致落渣、成膜异常、产品报废增加。陶瓷或脆性材料靶材始终含有固有应力。这些内应力是在靶材制造发展过程中可以产生的。此外,这些应力不会被退火过程完全消除,因为这是这些材料的固有特性。在溅射过程中,气体离子被轰击以将它们的动量传递给目标原子,提供足够的能量使其从晶格中逃逸。这种放热动量转移使靶材温度升高,在原子水平上可能达到极高的温度。这些热冲击将靶材中已经发展存在的内应力将会增加到许多倍。在这种情况下,如果不适当散热,靶材就可能会断裂。二、溅射靶材开裂应对事项为了防止靶材开裂,需要着重考虑的是散热。需要水冷却机构以从靶去除不需要的热能。另一个需要考虑的问题是功率的增加。短时间内施加过大的功率也会对目标造成热冲击。此外,我们建议将靶材粘合到背板上,这不仅为靶材提供了支撑,而且促进了靶材与水之间更好的热交换。如果目标有一个裂纹,但它是粘接到背板上,仍可以正常使用。浙江智能玻璃陶瓷靶材陶瓷靶材的制备工艺难点;
靶材主要用于生成太阳能薄膜电池的背电极,晶体硅太阳能电池较少用到溅射靶材。太阳能电池主要包括晶体硅太阳能电池和薄膜太阳能电池,晶体硅太阳能电池转化效率较高、性能稳定,且各个产业环节比较成熟,占据了太阳能电池市场的主导地位。而晶体硅太阳能电池按照生产工艺不同可分为硅片涂覆型太阳能电池以及PVD工艺高转化率硅片太阳能电池,其中硅片涂覆型太阳能电池的生产不使用溅射靶材,目前靶材主要用于太阳能薄膜电池领域。靶材溅射镀膜形成的太阳能薄膜电池的背电级主要有三个用途:一,它是各单体电池的负极;二,它是各自电池串联的导电通道;三,它可以增加太阳能电池对光的反射。太阳能薄膜电池用溅射靶材主要为方形板状,对纯度要求没有半导体芯片用靶材要求高,一般在99.99%以上。目前制备太阳能电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶(氧化铝锌)等。其中铝靶、铜靶用于导电层薄膜,钼靶、铬靶用于阻挡层薄膜,ITO靶、AZO靶用于透明导电层薄膜。
从ITO靶材制备方法来看,制备方法多样,冷等静压优势突出。ITO靶材的制备方法主要有4种,分别为热压法、热等静压法、常温烧结法、冷等静压法。冷等静压法制备ITO靶材优点:1)冷等静压法压力较大,工件受力相对更加均匀,尤其适用于压制大尺寸粉末制品,符合ITO靶材大尺寸的发展趋势;2)产品的密度相对更高,更加地均匀;3)压粉不需要添加任何润滑剂;4)生产成本低,适合大规模生产。从冷等静压法主要制备流程看:1)制备粉末,选取氧化铟与二氧化锡(纯度99.99%)进行乳化砂磨。其中加入2%—4%的聚乙烯醇(PVA)和30%的纯水进行砂磨。然后进行喷雾干燥,调节喷雾干燥塔参数,喷雾制备不同松装密度的ITO粉末。再将ITO粉末进行筛网筛分,获得合格的ITO粉末;2)制备素胚,将ITO粉末装入橡胶模具中振实,密封投料口,进行冷等静压,得到靶材素坯;3)结烧,将素坯放置于常压烧结炉中,保温温度为1450—1600℃,采用多个阶段保温烧结,烧结过程中通入氧气。ITO靶材被广泛应用于各大行业之中。
背板材料:无氧铜(OFC)–目前经常使用的作背板的材料。因为无氧铜具有良好的导电性和导热性,而且比较容易机械加工。如果保养适当,无氧铜背板可以重复使用10次甚至更多。钼(Mo)–在某些使用条件比较特殊的情况下,如需要进行高温贴合的条件下,无氧铜容易被氧化和发生翘曲,所以会使用金属钼为背板材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金属靶材的热膨胀系数无法与无氧铜匹配,同样也需要使用金属钼作为背板材料。不锈钢管(SST)–目前**常使用不锈钢管作为旋转靶材的背管,因为不锈钢管具有良好的强度和导热性而且非常经济。
背板重复使用大部分背板可以重复使用,尤其是采用金属铟进行贴合的比较容易进行清洁和重新使用。如果是采用其他贴合剂(包括环氧树脂)则可能需要采用机械处理的方式对背板表面处理后才能重复使用。当我们收到用户提供的已使用过的背板后,我们会首先进行卸靶处理(如适用)并且对背板进行完全检查,检查的重点包括背板的平整度,完整性及密封性等。我们会通知用户对背板的检查结果,如我们发现有需要维修的地方会书面通知客户并提供维修报价。 ITO在薄膜太阳能电池中的作用是一种透明导电层,在电池中作为透光层主要用于生成太阳能薄膜电池的背电极。宁夏功能性陶瓷靶材生产企业
从整体上看,ITO在光电综合性能上高于AZO靶材,但AZO靶材的优势或将为靶材带来降本空间。浙江溅射陶瓷靶材价格咨询
主要PVD方法的特点:半导体、显示面板使用溅射镀膜法(1)金属提纯:靶材纯度要求高。金属提纯的主要方式有化学提纯与物理提纯,化学提纯主要分为湿法提纯与火法提纯,通过电解、热分解等方式析出主金属。物理提纯则是通过蒸发结晶、电迁移、真空熔融法等步骤提纯得到主金属。(2)制造加工:塑性变形、热处理、控制晶粒取向:需要根据下游应用领域的性能需求进行工艺设计,然后进行反复的塑性变形、热处理,需要精确地控制晶粒、晶向等关键指标,再经过焊接、机械加工、清洗干燥、真空包装等工序。靶材制造涉及的工序精细繁多,技术门槛高、设备投资大,具有规模化生产能力的企业数量相对较少。靶材制造的方法主要有熔炼法与粉末冶金法。熔炼法主要有真空感应熔炼、真空电弧熔炼、真空电子束熔炼等方法,通过机械加工将熔炼后的铸锭制备成靶材,该方法得到的靶材杂质含量低、密度高、可大型化、内部无气孔,但若两种合金熔点、密度差异较大则无法形成均匀合金靶材。粉末冶金法主要有热等静压法、热压法、冷压-烧结法三种方法,通过将各种原料粉混合再烧结成形的方式得到靶材,该方法优点是靶材成分较为均匀、机械性能好,缺点为含氧量较高。浙江溅射陶瓷靶材价格咨询
ITO靶材就是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加工成型,再高温气氛烧结(1600度,通氧气烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体。ito薄膜是利用ito材作为原材料,通过磁控溅射把ito气化溅渡到玻璃基板或柔性有机薄膜上ito材主要是在平板显示器中得到广的运用,靶材主用是在半导体中运用广。科技发展的迅速,让电子行业在市场中占据很大的份额,直接影响到了人们的工作和生活ITO溅射靶材是一种由氧化铟锡制成的陶瓷射材料。氧化铟锡(ITO)是氧化铟(In203)和氧化锡(SnO2)的固溶体,通常按重量计90%In203、10%SnO2。铟锡氧化物(ITO)因其导电性和光学透明性而成为应用广的...