碳化硅靶材的基本特性中的物理特性:高密度...
碳化硅靶材的基本特性中的物理特性:高密度...
靶材是用于物理或化学蒸发过程的源材料,在...
若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射...
靶材由“靶坯”和“背板”焊接而成。(1)...
ITO靶材,氧化铟锡(Indium Ti...
ITO靶材就是氧化铟和氧化锡粉末按一定比...
靶材是半导体、显示面板、异质结光伏领域等...
主要PVD方法的特点:(3)溅射镀膜:在...
靶材主要用于生成太阳能薄膜电池的背电极,...
靶材间隙对大面积镀膜的影响除了致密化,如...
陶瓷靶材的制备工艺烘料:称量前将起始原料...