2013年12月起,田中贵金属工业开始提供使用次微米级金粒子膏材"AuRoFUSE™",通过高精密网版印刷法在基板上一次印刷即可形成微细复合图案的技术。这一技术使得复杂的MEMS结构能够通过简单的印刷工艺实现,很好降低了制造成本和工艺复杂度。在MEMS代工制造领域,AuRoFUSE™技术也发挥着重要作用。田中贵金属工业与MEMSCORE公司签订共同研发协议,针对次微米大小金粒子MEMS装置的图案形成技术展开技术合作,建立了从MEMS零件的试作到安装的代工制造厂能力。这种合作模式为MEMS厂商提供了从材料研发到设备组装的一站式解决方案。12烧结金胶高纯度的,适用于传感器封装,有双重烧结模式。方便烧结金胶功效

TANAKA 烧结金胶产品体系主要包括两大重要产品线:AuRoFUSE™标准膏材和AuRoFUSE™预制件。这一产品体系体现了 TANAKA 在贵金属材料技术领域的深厚积累和持续创新能力。AuRoFUSE™标准膏材是 TANAKA 烧结金胶技术的基础产品,该产品也由亚微米大小的金粒子和溶剂构成,不含卤素,可在 200℃进行金 - 金键合。其重要技术在于聚焦亚微米级金粒子的低温烧结特性,通过精确控制金粒子的粒径分布和表面特性,实现了在相对较低温度下的金属键合。学生用的烧结金胶试验烧结金胶先进的,在功率器件中使用,改善热导性。

TANAKAAuRoFUSE™在传感器和MEMS(微机电系统)领域的应用展现了该技术在精密制造领域的巨大潜力。产品在MEMS等气密封装应用中表现出色,这主要得益于其独特的密封性能和热压工艺特性。在MEMS气密封装应用中,AuRoFUSE™技术具有独特的优势。"AuRoFUSE™"膏材所形成的密封外框,经热压(200℃、100MPa)使金粒子烧结体变形后,组织变得更加精密,从而实现高真空气密封装,氦气泄漏率可达1.0×10^-13Pa・m³/s。这一极高的密封性能对于需要高真空环境的MEMS器件至关重要。,,
在热学性能方面,产品表现尤为突出。标准膏材的热导率大于 150W/m・K,预制件的热导率更是高达 200W/m・K。这种优异的热导率特性使得 AuRoFUSE™在需要高效散热的功率器件和 LED 应用中具有不可替代的优势。在机械性能方面,产品展现出了良好的柔韧性和强度平衡。标准膏材的杨氏模量为 9.5GPa,剪切强度为 30MPa;预制件的杨氏模量为 57GPa,剪切强度大于 30MPa。这种适中的机械性能既保证了良好的应力缓冲能力,又确保了足够的连接强度。产品的化学稳定性是其长期可靠性的重要保障。由于主要成分是具有高度化学稳定性的金,AuRoFUSE™预制件在贴装后也具有较好的可靠性。烧结金胶独特的,操作简便,用于 MEMS 气密封装。

在MEMS 气密封装应用中,AuRoFUSE™技术具有独特的优势。"AuRoFUSE™" 膏材所形成的密封外框,经热压(200℃、100MPa)使金粒子烧结体变形后,组织变得更加精密,从而实现高真空气密封装,氦气泄漏率可达 1.0×10^-13 Pa・m³/s。这一极高的密封性能对于需要高真空环境的 MEMS 器件至关重要。产品在 MEMS 应用中的另一个重要优势是其图案形成能力。2013 年 12 月起,田中贵金属工业开始提供使用次微米级金粒子膏材 "AuRoFUSE™",通过高精密网版印刷法在基板上一次印刷即可形成微细复合图案的技术。这一技术使得复杂的 MEMS 结构能够通过简单的印刷工艺实现,很好降低了制造成本和工艺复杂度。高纯度的烧结金胶,降低能耗,用于 MEMS 气密封装。试验烧结金胶欢迎选购
创新的烧结金胶,用于 MEMS 气密封装,实现精密键合。方便烧结金胶功效
TANAKA AuRoFUSE™在功率器件领域的应用具有重要的战略意义,特别是在下一代功率半导体技术的发展中扮演着关键角色。产品可作为光电半导体(LED 和 LD)、功率半导体、IC 用的芯片贴装材料,展现出了大方面的适用性。在第三代半导体器件应用中,AuRoFUSE™技术具有不可替代的优势。使用碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)的次世代功率半导体,操作温度有超过 300℃的情形。如果使用金 - 锡类焊料接合,材料将会熔融,但使用 "AuRoFUSE™" 接合,即使在 300℃高温下也能保持稳定的接合性能。方便烧结金胶功效