北京射频离子源自主研发设计生产

【真空镀膜之水转印】水转印是利用水压将转印纸上的彩色纹样印刷在三维产品表面的一种方式。随着人们对产品包装与表面装饰要求的提高，水转印的用途越来越广fan。适用材料：所有的硬材料都适合水转印，适合喷涂的材料也一定适用于水转印。常见的为注塑件和金属件。工艺成本:无模具费用，但需要利用夹具将多件产品同时进行水转印，时间成本一般每周期不会超过10分钟。环境影响:和产品喷涂比较而言，水转印更充分的应用了印刷涂料，减少了废料泄漏和材料浪费的可能。关于真空镀膜机，你知道多少？北京射频离子源自主研发设计生产

【真空镀膜机检漏之气压检漏】气压检漏被检零部件内腔充以气体(一般为空气)，充气压力的高低视零部件的强度而定，一般为(2~4)×105帕。充压后的零部件如发出明显的嘶嘶声，音响源处就是漏孔位置。用这种方法可检较小漏率为5帕·升/秒的漏孔。如不能用声音直接察觉漏孔，则用皂液涂于零部件可疑表面处，有气泡出现处便是漏孔位置。用这种方法较小可检漏率为5×10-3帕·升/秒的漏孔。此外，还可将充气的零部件浸在清净的水槽中，气泡形成处便是漏孔位置。用水槽显示漏孔，方便可靠，并能同时全部显示出漏孔位置。如气泡小、成泡速度均匀、气泡持续时间长，则为×10-2~13帕·升/秒漏率的漏孔。如气泡da、成泡持续时间短，则为13~103帕·升/秒漏率的漏孔。辽宁离子束清洗射频离子源制造生产厂家真空镀膜机的操作视频。

【真空镀膜之磁控溅射】在阴极靶表面形成一正交电磁场，在此区电子密度高，进而提高离子密度，使得溅镀率提高(一个数量级)，溅射速度可达0.1—1um/min膜层附着力较蒸镀佳，是目前实用的镀膜技术之一。其它有偏压溅射、反应溅射、离子束溅射等镀膜技术溅镀机设备与工艺溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和控制系统组成。溅射源又分为电源和溅射qiang（sputtergun）。磁控溅射qiang分为平面型和圆柱型，其中平面型分为矩型和圆型，靶材料利用率30-40%，圆柱型靶材料利用率>50%溅射电源分为：直流（DC）、射频（RF）、脉冲（pulse），直流：800-1000V（Max）导体用，须可灾弧。射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出

国泰真空射频离子源采用通用的LC高频谐振原理，使用可调电容快速调谐，使整个负载阻抗匹配到50Ώ，从而使功率输出比较大，电离化效率比较高，调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位，并带锁止和记忆功能，以满足负载在不同的真空环境、不同国泰射频离子源采用通用的LC高频谐振原理，使用可调电容快速调谐，使整个负载阻抗匹配到50Ώ，从而使功率输出比较大，电离化效率比较高，调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位，并带锁止和记忆功能，以满足负载在不同的真空环境、不同阻抗快速点火。射频部分匹配采用了硬件反馈和软件提前记忆并预判的技术；直流引入快速灭弧技术，同时提高了射频和直流部分的稳定性，软件设置了自检和自诊断功能，即：使用前系统自检，使用中即时刷新，对非调整性输入的变化提前警报并告知客户做好预案。射频离子源可用于制备纳米材料、薄膜、光学器件等高科技产品。

【真空镀膜真空的基本概念】：真空的划分：粗真空760Torr~10E&3Torr高真空10E&4Torr~10E&8Torr超高真空10E&9~10E&12Torr极高真空<10E&12Torr流导（导通量）：表示真空管道通过气体的能力，单位为升/秒（L/S）。一般情况下，管道越短，直径越da，表面越光滑，越直的管道流导也越da。流量：单位时间内流过任意截面的气体量，单位为Torr·L/s或Pa·L/s。抽气速率：在一定的压强和温度下，单位时间内由泵进气口处抽走的气体称为抽气速率，简称抽速。单位一般为L/S或m3/hr或CFM。极限真空：真空容器经充分抽气后，稳定在某一真空度，此真空度称为极限真空。广东真空镀膜机厂家。四川离子束辅助沉积射频离子源厂家

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【真空镀膜之金属拉丝】金属拉丝：是指通过研磨产品在工件表面形成线纹，并且起到装饰效果的一种表面处理手段。根据拉丝后纹路的不同可分为：直纹拉丝、乱纹拉丝、波纹、旋纹适用材料：几乎所有的金属材料都可以使用金属拉丝工艺工艺成本：工艺方法简单，设备需求简单，材料消耗比较少，成本比较低廉，经济效益尤其高环境影响：纯金属制品，表面无油漆等任何化学化工物质，600度高温不燃烧，不会产生有毒气体，符合消防标准的环保要求北京射频离子源自主研发设计生产