【真空镀膜之离子束溅射镀膜】离子束溅射沉积法在离子源内由惰性气体(通常为氩)产生具有较高能量的离子轰击靶材料,把靶材料沉积到基片上的方法。离子束溅射沉积法的一da优点是基片相对于离子源和靶是du立的,它的温度可以单独控制。基片通常接地位,它和靶与高频电路无关,不会象阴极溅射镀膜那样受到高能电子的轰击,因而温度较低。所以只要配置一台较好的恒温循环器(如HX1050型,控温范围为-10℃~50℃,精度≤0。5℃),实现对样品台的单独控温,就可以根据不同样品的要求以及薄膜生长不同阶段的温度需要进行适当调节。根据现有离子束溅射设备的构造,设计、加工了专门的金属样品架,放上样品后盖上金属压片,用螺丝紧密地固定在镀膜腔体的样品台上,可使样品和控温的样品台有良好的热接触。并在样品架中放置了一个测温铂电阻,用螺丝把金属压片连同其下的铂电阻一起固定压紧,再用导线引出与高精度的万用表相连,以监测薄膜生长过程中的样品温度。真空镀膜机是什么样的?辽宁光学薄膜卷绕真空镀膜定制化设计制造
【真空镀膜机冲洗工艺之反应气体冲洗】这种方法特别适用于da型超高不锈钢真空系统的内部洗(去除碳氢化合物污染)。通常对于某些da型超高真空系统的真空室和真空元件,为了获得原子态的清洁表面,消除其表面污染的标准方法是化学清洗,真空炉焙烧、辉光放电清洗及原能烘烤真空系统等方法。以上的清洗和除气方法常用于真空系统安装前及装配期间。在真空系统安装后(或系统运行后),由于真空系统内的各种零部件已经被固定,这时对它们进行除气处理就很困难,一旦系统受到(偶然)污染(主要是da原子数的分子如碳氢化合物的污染),通常要拆卸后重新处理再安装.而用反应气体工艺,可以进行原位在线除气处理.有效地除去不锈钢真空室内的碳氢化合物的污染.其清洗机理:在系统中引述氧化性气体(O2、N0)和还原性气体(H2、NH3)对金属表面进行化学反应清洗,消除污染,以便获得原子态的清洁金属表面。表面氧化/还原的速率取决于污染的情况及金属表面的材质,表面反应速率的da小通过调整反应气体的压力和温度来控制。对于每一种基材而言,精确的参数要通过实验来确定.对于不同的结晶取向,这些参数是不同的。河南光学镀膜卷绕真空镀膜多少钱国产真空镀膜机哪家好?
【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源,在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除。清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系。即取决于单位表面积上的离子数和离子能量,从而取决于有效电功率。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(典型的如Ar气),可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。该方法中,惰性气体被离化并轰击真空室内壁、真空室内的其它结构件及被镀基片,它可以使某些真空系统免除被高温烘烤。如果在充入的气体中加入氧气,对某些碳氢化合物可以获得更好的清洗效果。因为氧气可以使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气体而容易被真空系统排除。不锈钢高真空和超高真空容器表面上杂质的主要成分是碳和碳氢化合物。一般情况下,其中的碳不能单独挥发.经化学清洗后,需要引入Ar或Ar+O2混合气体进行辉光放电清洗,使表面上的杂质和由于化学作用被束缚在表面上的气体得到qing除。
【真空镀膜机之真空泵的维护和保养】1、经常检查油位位置,不符合规定时须调整使之符合要求。以泵运转时,油位到油标中心为准。2、经常检查油质情况,发现油变质应及时更换新油,确保泵工作正常。3、换油期限按实际使用条件和能否满足性能要求等情况考虑,由用户酌情决定。一般新泵,抽除清洁干燥的气体时,建议在工作100小时左右换油一次。待油中看不到黑色金属粉末后,以后可适当延长换油期限。4、一般情况下,泵工作2000小时后应进行检修,检查桷胶密封件老化程度,检查排气阀片是否开裂,清理沉淀在阀片及排气阀座上的污物。清洗整个泵腔内的零件,如转子、旋片、弹簧等。一般用汽油清洗,并烘干。对橡胶件类清洗后用干布擦干即可。清洗装配时应轻拿轻放小心碰伤。5、有条件的对管中同样进行清理,确保管路畅通。6、重新装配后应进行试运行,一般须空运转2小时并换油二次,因清洗时在泵中会留有一定量易挥发物,待运转正常后,再投入正常工作。7、本系列泵油采用专业用真空泵油。真空镀膜机的生产厂家。
【真空镀膜之水转印】水转印是利用水压将转印纸上的彩色纹样印刷在三维产品表面的一种方式。随着人们对产品包装与表面装饰要求的提高,水转印的用途越来越广fan。适用材料:所有的硬材料都适合水转印,适合喷涂的材料也一定适用于水转印。常见的为注塑件和金属件。工艺成本:无模具费用,但需要利用夹具将多件产品同时进行水转印,时间成本一般每周期不会超过10分钟。环境影响:和产品喷涂比较而言,水转印更充分的应用了印刷涂料,减少了废料泄漏和材料浪费的可能。真空镀膜机的产业集群。辽宁光学薄膜卷绕真空镀膜定制化设计制造
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【真空镀膜的膜层结构分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等树脂类均可成型真空电镀,要求底材为纯原料,电镀级别更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,对基材表面做预处理,为膜层的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情况可酌情加厚;膜层:靶材蒸发的结果,VM膜层可导电,NCVM镀层不导电,且抗干扰性效果很好,膜层厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可与色浆搭配出各类顏色,同時对真空膜层起保护作用,再加上UV、PU的表面装饰,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚!辽宁光学薄膜卷绕真空镀膜定制化设计制造
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