国泰真空GTRF-17/GTRF-23射频离子源直流源网灭弧采用特殊保护方式,可以在有效的保护网板的时候不停机,不会导致客户产品报废。栅网采用独特的加工工艺,确保栅网之间的曲率和平行度,网孔的中心距也做精密的调整,使得投射出来的离子束更均匀。射频中和器采用L型接法匹配:匹配速度快,效率高,点火更优。源头和中和器结构经常拆解部分的内六角进行电镀及消气处理,防止拆卸过程卡死,备件及耗品重复利用率高。射频电源及控制部分单独装配在一个电柜内,RF线缆做防辐射和泄漏处理,避免对通讯、控制信号的干扰,同时也做良好的散热处理。真空镀膜机的升级改造。吉林离子束清洗射频离子源专业生产
国泰真空射频离子源采用通用的LC高频谐振原理,使用可调电容快速调谐,使整个负载阻抗匹配到50Ώ,从而使功率输出比较大,电离化效率比较高,调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位,并带锁止和记忆功能,以满足负载在不同的真空环境、不同国泰射频离子源采用通用的LC高频谐振原理,使用可调电容快速调谐,使整个负载阻抗匹配到50Ώ,从而使功率输出比较大,电离化效率比较高,调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位,并带锁止和记忆功能,以满足负载在不同的真空环境、不同阻抗快速点火。射频部分匹配采用了硬件反馈和软件提前记忆并预判的技术;直流引入快速灭弧技术,同时提高了射频和直流部分的稳定性,软件设置了自检和自诊断功能,即:使用前系统自检,使用中即时刷新,对非调整性输入的变化提前警报并告知客户做好预案。福建光学镀膜射频离子源制造生产真空镀膜机的培训资料。
【真空镀膜机冲洗工艺之反应气体冲洗】这种方法特别适用于da型超高不锈钢真空系统的内部洗(去除碳氢化合物污染)。通常对于某些da型超高真空系统的真空室和真空元件,为了获得原子态的清洁表面,消除其表面污染的标准方法是化学清洗,真空炉焙烧、辉光放电清洗及原能烘烤真空系统等方法。以上的清洗和除气方法常用于真空系统安装前及装配期间。在真空系统安装后(或系统运行后),由于真空系统内的各种零部件已经被固定,这时对它们进行除气处理就很困难,一旦系统受到(偶然)污染(主要是da原子数的分子如碳氢化合物的污染),通常要拆卸后重新处理再安装.而用反应气体工艺,可以进行原位在线除气处理.有效地除去不锈钢真空室内的碳氢化合物的污染.其清洗机理:在系统中引述氧化性气体(O2、N0)和还原性气体(H2、NH3)对金属表面进行化学反应清洗,消除污染,以便获得原子态的清洁金属表面。表面氧化/还原的速率取决于污染的情况及金属表面的材质,表面反应速率的da小通过调整反应气体的压力和温度来控制。对于每一种基材而言,精确的参数要通过实验来确定.对于不同的结晶取向,这些参数是不同的。
【真空镀膜机清洗工艺之真空加热清洗】将工件放置于常压或真空中加热.促使其表面上的挥发杂质蒸发来达到清洗的目的,这种方法的清洗效果与工件的环境压力、在真空中保留时间的长短、加热温度、污染物的类型及工件材料有关。其原理是加热工件.促使其表面吸附的水分子和各种碳氢化合物分子的解吸作用增强。解吸增强的程度与温度有关。在超高真空下,为了得到原子级清洁表面,加热温度必高于450度才行.加热清洗方法特别有效。但有时,这种处理方法也会产生副作用。由于加热的结果,可能发生某些碳氢化合物聚合成较da的团粒,并同时分解成碳渣。真空镀膜机公司的排名。
【真空镀膜机清洗工艺之放电清洗】利用热丝或电极作为电子源,在其相对于待清洗的表面加负偏压可以实现离子轰击的气体解吸及某些碳氢化合物的去除。清洗效果取决于电极材料、几何形状及其与表面的关系。即取决于单位表面积上的离子数和离子能量,从而取决于有效电功率。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(典型的如Ar气),可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。该方法中,惰性气体被离化并轰击真空室内壁、真空室内的其它结构件及被镀基片,它可以使某些真空系统免除被高温烘烤。如果在充入的气体中加入氧气,对某些碳氢化合物可以获得更好的清洗效果。因为氧气可以使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气体而容易被真空系统排除。不锈钢高真空和超高真空容器表面上杂质的主要成分是碳和碳氢化合物。离子真空镀膜机是什么?成都射频离子源自主研发设计生产
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【真空镀膜之水转印】水转印是利用水压将转印纸上的彩色纹样印刷在三维产品表面的一种方式。随着人们对产品包装与表面装饰要求的提高,水转印的用途越来越广fan。适用材料:所有的硬材料都适合水转印,适合喷涂的材料也一定适用于水转印。常见的为注塑件和金属件。工艺成本:无模具费用,但需要利用夹具将多件产品同时进行水转印,时间成本一般每周期不会超过10分钟。环境影响:和产品喷涂比较而言,水转印更充分的应用了印刷涂料,减少了废料泄漏和材料浪费的可能。吉林离子束清洗射频离子源专业生产
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