南京铜蚀刻液剥离液

添加剂中含有醇醚化合物、胺化合物、缓蚀剂以及润湿剂；s3：将步骤s1的剥离液废液与添加剂混合，重新制备剥离液新液，制备过程中加入酰胺化合物或醇醚化合物。光刻胶剥离液为纯有机溶剂体系，废液可通过蒸馏回收80-95％有效物，得出纯化液体，而在上述制备方式中，纯化液体所含的组分与添加剂所含的组分之间是具有相重复的，可以认为，添加剂是根据已知的剥离液新液的组分进行配制的，添加剂可以是对纯化液体与剥离液新液之间的组分的差别而进行的添加、补充，使得纯化液体和添加剂混合后，能够具有与剥离液新液相同的组分。那么，可以知道，在预先知道剥离液新液的组分的基础上，可以通过预先配制含有剥离液新液中的某些组分的添加剂，然后在制备回收的剥离液废液得出纯化液体时，可以将添加剂加入纯化液体中，再进行质量分数的调节。纯化液体是将剥离液废液进行加压、蒸馏，去除剥离液废液中的非剥离液新液的组分的物质，然后得出的纯化液体，纯化液体中所含的组分物质，都是剥离液新液所含有的组分物质。进一步技术方案中，所述的步骤1中得出的纯化液体中含有的酰胺化合物的质量分为：45％-60％；含有的醇醚化合物的质量分为：35％-50％。选择剥离液，提升工作效率，降低成本。南京铜蚀刻液剥离液

能够增强亲水性，使得剥离液亲水性良好，能快速高效地剥离溶解光刻胶。润湿剂含有羟基，为聚乙二醇、甘油中的任意一种。下面通过具体实施例对本申请作进一步详细说明。以下实施例对本申请进行进一步说明，不应理解为对本申请的限制。表一：两种不同组分的剥离液配方一和配方二所采用的基础组分基本相同，不同的是配方二中加入有润湿剂，上述所描述的润湿剂是用于增强亲水性的，滴液与产品表面间的夹角为接触角，接触角可用来衡量润湿程度，水滴角测试仪可测量接触角，从润湿角度考虑，接触角＜90°，且接触角越小润湿效果越好加入润湿剂后的配方二所制得的剥离液，在滴落在高世代面板后，通过水滴角测试仪测接触角，检测图如图1所示，三次测试的接触角如下表二：上述两种不同组分的剥离液作接触角测试接触角配方一配方二测试一，加入润湿剂后的配方二所制得的剥离液，其滴落在高世代面板后，其接触角比未加入润湿剂的配方一的剥离液润湿效果更好；请参阅图2所示，将配方一所制得的剥离液以及配方二所制得的剥离液进行光刻胶剥离，图2中的阴影圆点为浸泡时间t1后光刻胶残留，明显地，可以看出配方二中t1时间后光刻胶残留量小，而配方一中产品边缘处光刻胶的残留量大。杭州京东方用的蚀刻液剥离液推荐厂家剥离液，让您的加工过程更加高效。

实施例1～6：按照表1配方将二甲基亚砜、一乙醇胺、四甲基氢氧化铵、硫脲类缓蚀剂、聚氧乙烯醚类非离子型表面活性剂、n-甲基吡咯烷酮和去离子水混合，得到用于叠层晶圆的光刻胶剥离液。表1：注：含量中不满100wt％的部分由去离子水补足余量。以cna披露的光刻胶剥离液作为对照例，与实施例1～6所得用于叠层晶圆的光刻胶剥离液进行比较试验，对面积均为300cm2的叠层晶圆上的光刻胶进行剥离并分别测定剥离周期、金属镀层的腐蚀率和过片量(剥离的面壁数量)。对比情况见表2：表2：剥离周期/s金属腐蚀率/ppm过片量/片实施例1130～15015376实施例2130～15016583实施例3130～15017279实施例4130～15015675实施例5130～15016372实施例6130～15017681对照例180～20022664由表2可知，本用于叠层晶圆的光刻胶剥离液通过加入硫脲类缓蚀剂和聚氧乙烯醚类非离子型表面活性剂，使剥离效率有明显的提升，对金属腐蚀率降低20％以上，而且让过片量提高10％以上。以上所述的*是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。

本发明涉及半导体制造领域，特别是涉及一种用于包括但不限于半导体生产工艺中光刻胶去除步骤的光刻胶剥离去除方法。背景技术：光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的也称为光致抗蚀剂、光阻等，其作用是作为抗刻蚀层保护衬底表面。光刻胶广泛应用于集成电路(ic)、封装(packaging)、微机电系统(mems)、光电子器件光子器件(optoelectronics/photonics)、平板显示其(led、lcd、oled)和太阳能光伏(solarpv)等领域。在半导体制造领域，离子注入层光刻胶(参考图2)在经过高剂量或大分子量的源种注入后(参考图3)，会在光刻胶的外层形成一层硬壳(参考图4)本发明命名为主要光刻胶层。现有的离子注入层光刻胶在经过氧气灰化干法剥离时，由于等离子氧与光刻胶反应速率很高，会有一部分等离子氧先穿透主要光刻胶层到达第二光刻胶层，在与第二光刻胶层反应后在内部产生大量气体，第二层光刻胶膨胀(参考图5)，主要光刻胶层终因承受不住内层巨大的气压而爆裂，爆裂的光刻胶有一定的概率掉落在临近的光刻胶上(参考图6)，导致此交叠的光刻胶不能法剥离干净。在经过后续批作业的湿法剥离后会产生残余物。剥离液的价格哪家比较优惠？

需要说明的是，本发明剥离液中，推荐*由上述成分构成，但只要不阻碍本发明的效果，可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡剂等其它成分。以上说明的本发明剥离液可以通过将上述成分溶于水中来制备。需要说明的是，本发明剥离液的ph若为碱性则没有特别限定，但通常**将上述成分溶于水就成为碱性，因此没有特别必要调整ph。另外，本发明剥离液可以通过将上述成分分别分开预先溶于水，成为抗蚀剂的剥离液套件，将它们混合来制备。具体来说，可以举出以包含含有钾盐的第1液和含有溶纤剂的第2液为特征的抗蚀剂的剥离液套件、其中还包含含有硅酸盐的第3液的抗蚀剂的剥离液套件、进而在其中使上述其它成分适当含有于各液中的抗蚀剂的剥离液套件等。通过使用本发明剥离液对施加有抗蚀剂的基材进行处理，抗蚀剂被细小地粉碎。什么样的剥离液可以保护底部金属？杭州京东方用的蚀刻液剥离液推荐厂家

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