便携式储能MOSFET选型参数推荐型号

结构优势

电场优化与高耐压：

屏蔽栅的电场屏蔽作用：屏蔽栅将漏极的高电场从控制栅下方转移至沟槽侧壁，避免栅氧化层因电场集中而击穿。

横向电场均匀化：通过电荷平衡技术（类似超结原理），漂移区的电场分布从传统结构的“三角形”变为“矩形”，***提升击穿电压（BV）。

BV提升实例：在相同外延层参数下，SGT的BV比传统沟槽MOS提高15%-25%（例如原设计100V的器件可达120V）。

低导通电阻（Rds(on)）：

垂直电流路径：消除平面MOS中的JFET效应，漂移区电阻（Rdrift）降低40%-60%。

短沟道设计：分栅结构允许更短的沟道长度（可至0.1μm以下），沟道电阻（Rch）降低30%-50%。 无锡商甲半导体保障产品性能、产能与成本优势， 为客户提供稳定的高性价比产品与技术服务。。便携式储能MOSFET选型参数推荐型号

General Description

The JP4606 uses advanced trench technology to provide excellent RDS(ON),low gate charge and operation with gate voltages as low as ±4.5V.This device is suitable for use as a wide variety of applications.

Features

●Low Gate Charge

●High Power and current handing capability

●Lead free product is acquired

Application

●Battery Protection

●Power Management

●Load Switch

SJP4606采用先进的沟槽技术，提供良好的RD(ON)值、低极电荷，并且能够以低至士4.5V的栅极电压进行操作。该器件适用于各种应用场合。

特性

●低栅极电荷

●高功率和电流处理能力

●获得无铅产品应用·电池保护

●电源管理

●负载开关 便携式储能MOSFET选型参数推荐型号无锡商甲半导体提供种类齐全MOSFET产品组合,满足市场对高效能导通和灵活选择的需求。

SGT技术：突破传统MOS的性能瓶颈

MOS管（金属氧化物半导体场效应晶体管）是开关电源、逆变器、电机控制等应用的**开关器件。传统平面MOS和早期沟槽MOS在追求更低导通电阻 (Rds(on)) 和更快开关速度时，往往会面临开关损耗 (Qg, Qgd) 增大、抗冲击能力下降等矛盾。

商甲半导体采用的 SGT 结构技术，正是解决这一矛盾的关键：

屏蔽栅极结构： 在传统的栅极沟槽结构基础上，创新性地引入了额外的“屏蔽电极”（通常是源极电位）。这一结构能有效屏蔽栅极与漏极之间的米勒电容 (Cgd)，大幅降低栅极电荷 (Qg, 特别是 Qgd)。

**栅极电荷 (Qg)： 降低Qg意味着驱动电路更容易驱动MOS管，***减少开关过程中的导通和关断损耗，提升系统整体效率，尤其在需要高频开关的应用中优势明显。

优化导通电阻 (Rds(on))： SGT结构通过优化载流子分布和沟道设计，在同等芯片面积下，实现了比传统沟槽MOS更低的导通电阻，降低了导通状态下的功率损耗和发热。

优异的开关性能： 低Qg和优化的电容特性共同带来了更快的开关速度和更干净的开关波形，减少了电压/电流应力，提升了系统稳定性和EMI性能。

高可靠性： 精心设计的结构有助于改善器件的雪崩耐量 (Eas) 和抗闩锁能力，提高了系统在恶劣工况下的鲁棒性。

SOP封装标准涵盖了SOP-8、SOP-16、SOP-20、SOP-28等多种规格，其中数字部分表示引脚数量。在MOSFET的封装中，SOP-8规格被***采用，且业界常将P*部分省略，简称为so（Small Out-Line）。

SO-8采用塑料封装，未配备散热底板，因此散热效果一般，主要适用于小功率MOSFET。

SO-8封装技术**初由PHILIP公司开发，随后逐渐演变为TSOP（薄小外形封装）、VSOP（甚小外形封装）、SSOP（缩小型SOP）以及TSSOP（薄的缩小型SOP）等标准规格。

在这些派生的封装规格中，TSOP和TSSOP这两种规格常被用于MOSFET的封装。同时，QFN-56封装也值得一提。

QFN（QuadFlatNon-leadedpackage）即四边无引线扁平封装，是一种新兴的表面贴装芯片封装技术。其特点在于焊盘尺寸小、体积紧凑，且采用塑料作为密封材料。如今，该技术常被称作LCC。 商甲半导体的功率器件能迅速响应，使电机保持稳定且高效的运转.

平面工艺与Trench沟槽工艺MOSFET区别

由于结构原因，性能区别如下:

1.导通电阻Trench工艺MOSFET具有深而窄的沟槽结构，这可以增大器件的有效通道截面积，从而降低导通电阻，能够实现更高的电流传输和功率处理能力。平面工艺MOSFET的通道结构相对较简单，导通电阻较高

2.抗击穿能力Trench工艺MOSFET通过控制沟槽的形状和尺寸，由于Trench工艺的深沟槽结构，漏源区域的表面积得到***增加。这使得MOSFET器件Q在承受高电压时具有更好的耐受能力，适用于高压应用，如电源开关、电机驱动和电源系统等。平面工艺MOSFET相对的耐电压较低。广泛应用于被广泛应用于数字和模拟电路中，微处理器，放大器，音响，逆变器，安防，报警器，卡车音响喇叭及光伏储能上。

3.抗漏电能力[rench工艺MOSFET通过沟槽内的绝缘材料和衬底之间形成较大的PN结，能够有效阳止反向漏电流的流动，因此，Trench工艺MOSEET在反向偏置下具有更好的抗漏电性能。平面工艺MOSFET的抗漏电能力相对较弱。

4.制造复杂度Trench工艺MOSFET的制造过程相对复杂，包括沟槽的刻蚀、填充等步骤，增加了制造成本。平面工艺MOSFET制造工艺成熟:***NAR平面工艺MOSFET是**早的MOSFET制造工艺之一， 无论是车载充电系统还是充电桩，都离不开商甲半导体 MOSFET。便携式储能MOSFET选型参数推荐型号

商甲半导体作为MOSFET专业供应商，应用场景多元，提供量身定制服务。便携式储能MOSFET选型参数推荐型号

在追求更高效率、更小体积、更强可靠性的电力电子时代，功率半导体器件扮演着至关重要的角色。作为国内功率半导体领域的重要参与者，商甲半导体凭借其先进的半导体工艺和设计能力，推出了性能良好的 SGT (Shielded Gate Trench) MOS管系列产品，为电源管理、电机驱动、新能源等领域提供了高效可靠的国产化解决方案。

  在功率半导体国产化浪潮中，商甲半导体积极投入研发，持续优化其SGT MOS管技术平台。其产品不仅性能对标国际**品牌，更在性价比、本地化服务和技术支持方面具备独特优势。通过提供高性能、高可靠的SGT MOS管解决方案，赋能客户开发出更具竞争力的高效能电子产品。 便携式储能MOSFET选型参数推荐型号

无锡商甲半导体有限公司在同行业领域中，一直处在一个不断锐意进取，不断制造创新的市场高度，多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准。。公司产品齐全，可广泛应用于工控、光伏、储能、家电、照明、5G通信、医疗、汽车等各行业多个领域。

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