某智能机器人实验室采用 Polos 光刻机制造了磁控微纳机器人。其激光直写技术在镍钛合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋桨结构,机器人在旋转磁场下的推进速度达 50μm/s,转向精度小于 5°。通过自定义三维运动轨迹,该机器人在微流控芯片中成功实现了单个红细胞的捕获与转运,操作成功率从传统方法的 40% 提升至 85%。其轻量化设计(质量 < 1μg)还支持在活细胞表面进行纳米级手术,相关成果入选《Science Robotics》年度创新技术。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。环保低能耗设计:固态光源能耗较传统设备降低30%,符合绿色实验室标准。江苏桌面无掩模光刻机

对于纳 / 微机械系统的研究与制造,德国 Polos 光刻机系列展现出强大实力。无掩模激光光刻技术赋予它高度的灵活性,科研人员能够快速将创新设计转化为实际器件。在制造微型齿轮、纳米级悬臂梁等微机械结构时,Polos 光刻机可precise控制激光,确保每个部件的尺寸和形状都符合设计要求。 借助该光刻机,科研团队成功研发出新型微机械传感器,其灵敏度和响应速度远超传统产品。并且,由于系统占用空间小,即使是小型实验室也能轻松引入。Polos 光刻机以其低成本、高效率的特性,成为纳 / 微机械系统领域的制造先锋,助力科研人员不断探索微纳世界的奥秘。安徽POLOSBEAM-XL光刻机可以自动聚焦波长图案灵活性:支持 STL 模型直接导入,30 分钟完成从设计到曝光全流程。

某基因treatment团队采用 Polos 光刻机开发了微米级 DNA 递送载体。通过 STL 模型直接导入,在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窝状微孔结构,载体的 DNA 负载量达 200μg/mg,较传统电穿孔法提升 5 倍。动物实验显示,该载体在肝脏靶向递送中,基因转染效率达 65%,且免疫原性降低 70%。其无掩模特性支持根据不同细胞表面受体定制载体形貌,在 CAR-T 细胞treatment中,CAR 基因导入效率从 30% 提升至 75%,相关技术已申请国际patent。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。
低成本桌面化光刻:SPS POLOS µ的科研普惠!Polos系列在微流体领域实现复杂3D流道结构的快速成型。例如,中科院理化所利用类似技术制备跨尺度微盘阵列,研究细胞浸润行为,为组织工程提供新策略3。Polos的高精度与灵活性支持仿生结构批量生产,推动医疗诊断芯片研发,如tumor筛查与药物递送系统的微型化64。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。微流体3D成型:复杂流道快速曝光,助力tumor筛查芯片与药物递送系统研发。

德国 Polos 光刻机系列以其紧凑的设计,在有限的空间内发挥着巨大作用。对于研究实验室,尤其是空间资源紧张的高校和初创科研机构来说,设备的空间占用是重要考量因素。Polos 光刻机占用空间小的特点,使其能够轻松融入各类实验室环境。 尽管体积小巧,但它的性能却毫不逊色。无掩模激光光刻技术保障了高精度的图案制作,低成本的优势降低了科研投入门槛。在小型实验室中,科研人员使用 Polos 光刻机,在微流体、电子学等领域开展研究,成功取得多项成果。从微纳结构制造到新型器件研发,Polos 光刻机证明了小空间也能蕴藏大能量,为科研创新提供有力支持。工业4.0协同创新:与弗劳恩霍夫ILT合作优化激光能量分布,提升制造精度。广东德国PSP-POLOS光刻机光源波长405微米
材料科学:超疏水表面纳米图案化,接触角 165°,防腐蚀性能增强 10 倍。江苏桌面无掩模光刻机
某revolution生物医学研究机构致力于开发快速、precise的疾病诊断技术。在研发一种用于早期tumor筛查的微流体诊断芯片时,采用了德国 Polos 光刻机。利用其无掩模激光光刻技术,科研团队成功制造出拥有复杂微通道网络的芯片。这些微通道能精确控制生物样本与检测试剂的混合及反应过程,极大提高了检测的灵敏度和准确性。以往使用传统光刻技术制备此类芯片,不only周期长,且精度难以保证。而 Polos 光刻机使制备周期缩短了近三分之一,助力该机构在tumor早期诊断研究上取得重大突破,相关成果已发表在国际authority医学期刊上。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。江苏桌面无掩模光刻机
针对碳化硅(SiC)功率模块的栅极刻蚀难题,Polos 光刻机的激光直写技术实现了 20nm 的边缘粗糙度控制,较传统光刻胶工艺提升 5 倍。某新能源汽车芯片厂商利用该设备,将 SiC MOSFET 的导通电阻降低 15%,开关损耗减少 20%,推动车载逆变器效率突破 99%。其灵活的图案编辑功能支持快速验证新型栅极结构,使器件研发周期从 12 周压缩至 4 周,助力我国在第三代半导体领域实现弯道超车。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助...