印刷废气处理方案

自动清理陶瓷过滤系统，自动清理陶瓷过滤系统(Self-cleaningCeramicFilter)系依排风量，污染物种类和所需补及过滤效率有关。系统操作运行时，排自工艺废气(含有冷或热有机粒状物/有机凝结物质或VOCs)。被抽引至陶瓷过滤器中。废气通过依粒状物之例径大小及捕集效率大小而设计选用的陶瓷板，一组燃烧器，间歇或连续加热此一陶瓷板，使被捕集于此一陶瓷板的有机粒状物挥发而进到焚烧炉中，任何无机物被烧成无机灰并掉至腔体底部而予以收集。经挥发的有机物导至焚烧炉中(如催化剂式焚烧炉，直燃式焚烧炉)经焚烧转化为二氧化碳，水气和热气。废气处理工程旨在降低空气中有害物质的浓度。印刷废气处理方案

所以，有机废气处理的氧化法分为以下方法：催化氧化法。现阶段，催化氧化法使用的催化剂有两种，即贵金属催化剂和非贵金属催化剂。贵金属催化剂主要包括Pt、Pd等，它们以细颗粒形式依附在催化剂载体上，而催化剂载体通常是金属或陶瓷蜂窝，或散装填料;非贵金属催化剂主要是由过渡元素金属氧化物，比如MnO2，与粘合剂经过一定比例混合，然后制成的催化剂。为有效防止催化剂中毒后丧失催化活性，在处理前必须彻底清理可使催化剂中毒的物质，比如Pb、Zn和Hg等。如果有机废气中的催化剂毒物、遮盖质无法清理，则不可使用这种催化氧化法处理VOC。上海VOCs废气处理设备废气处理技术包括物理、化学、生物等多种方法。

直燃式焚烧炉的设计是依废气风量，VOCs浓度及所需知破坏去除效率而定。操作时含VOCs的废气用系统风机导入系统内的换热器，废气经由换热器管侧(Tubeside)而被加热后，再通过燃烧器，这时废气已被加热至催化分解温度(650~1000℃)，并且有足够的留置时间(0.5~2.0秒)。这时会发生热反应，而VOCs被分解为二氧化碳及水气。之后此一热且经净化气体进入换热器之壳侧(shellside)将管侧(tubeside)未经处理的VOC废气加热，此换热器会减少能源的消耗(甚至于某适当的VOCs浓度以上时便不需额外的燃料)，然后，净化后的气体从烟囱排到大气中。

光催化法，光催化法指使用半导体金属氧化物(主要是二氧化钛、氧化锌、三氧化钨、二氧化三铁 等)或是金属与金属氧化物混合物质作为催化剂，这些催化剂可在紫外辐射下活化，产生反 应性高的电子-空穴对，使得吸附在光催化剂表面上的挥发性有机物分别发生氧化或还原反 应。在环境领域应用较普遍的光催化剂是二氧化钛，其物理、化学性质稳定，成本低，无毒 性，耐腐蚀。光催化可在室温下操作，且光催化剂对各种污染物具有普遍活性、非选择性。这种方法的缺点是：效率相对较低、所需停留时间长。废气处理技术的发展需要关注其对生态系统的影响，确保处理过程的环境友好性。

低温等离子技术，低温等离子技术比较适用于低浓度、小分子废气物的处理，它是继固、液、气这三者之后的第四态，当外加电压至气体着火点电压时，气体击穿，产生一新混合体。之所以成为低温等离子是由于，在放电的过程中虽然电子的温度达到很高，但重粒子温度缺很低，致使整个体系呈现低温状态。光催化技术，光催化技术是适用于低浓度废气物的处理方式之一，它是将TiO2作为催化剂，反应条件比较温和，光解速度较快，光催化的产物：CO2、H2O或其它，它的应用范围比较广，包括醛、酮、氨等有机物废气物，都可利用TiO2进行光催化清理。其主要机理是：催化剂吸收光子，与表面的水反应产生一种比较主要的活性物质，他对光催化的氧化起着决定性作用的羟基自由基(·OH)。还会产生一种活性氧物质(·O，H2O2)。废气处理领域不断引入新技术，提高废气处理效率和净化效果。上海生物滴滤废气处理

废气处理系统会根据废气特性不同选用不同的处理方法。印刷废气处理方案

光催化氧化工艺：（1）光催化氧化工艺简介，光化学和光催化氧化法是目前研究较多的一种高级氧化技术。光催化反应即在光的作用下进行的化学反应。分子吸收特定波长的电磁辐射后，是分子达到激发态，然后发生化学反应，产生新的物质，或成为热反应的引发剂。（2）光催化氧化工艺原理及流程，Ti02作为一种半导体材料其自身的光电特性决定了它可以用作光催化剂。半导体的能带结构通常是一个电子填充低能量价带（VB）和一个空的高能量的导带（CB），导带和价带之间的区域被称为禁带。当照射半导体的光能量等于或大于禁带宽度时，其价带电子被激发，跨过禁带进入导带，并在价带中产生相应空穴。电子从价带激发到导带，激发后分离的电子和空穴都有一部分进一步进行反应。印刷废气处理方案