南通晟辉微电子科技有限公司,位于南通苏锡通产业园区未来岛园区12号厂房,面积1755平米。是由上海交大刘鹏博士创办,团队主要人员在等离子和半导体领域有10年以上的工作经验。公司注重研发,拥有专业的研发团队和先进的研发实验室,已经和国内多家高... [ 查看详细 >> ]
去胶过程结束后,设备会自动停止等离子体生成,关闭气体供应,然后通入惰性气体(如氮气)破真空,待腔体压力恢复至大气压后,操作人员打开...
在芯片制造的缺陷修复环节,等离子刻蚀机可对微小缺陷(如多余的材料凸起)进行精细刻蚀去除。通过缩小刻蚀区域、降低粒子能量,实现对缺陷...
按刻蚀机制,等离子刻蚀机主要分为物理刻蚀、化学刻蚀与反应离子刻蚀三类。物理刻蚀依靠等离子体中高能离子的轰击作用,将材料原子从表面撞...