光刻胶通常由聚合物树脂、光引发剂、溶剂等组成，其在半导体制造、平板显示器制造等领域得到普遍应用。光刻胶的去除液及去除方法与流程是一种能够低衬底和结构腐蚀并快速去除光刻胶的去除液以及利用该去除液除胶的方法。该方法的背景技术是光刻是半导体制造工艺中的一个重要步骤，...

2025/07/07 查看详细

光刻胶过滤器在半导体制造的光刻工艺中具有不可替代的重要作用。它通过去除光刻胶中的杂质，保障了光刻图案的精度和质量，提高了芯片制造的良率，降低了生产成本，同时保护了光刻设备，提升了光刻工艺的稳定性。随着半导体技术不断向更高精度、更小制程发展，对光刻胶过滤器的性能...

2025/07/06 查看详细

在污水处理中的具体应用场景：预处理阶段：用于化工、石油、制药等行业，拦截废水中的悬浮物、胶体、纤维等杂质，避免后续设备堵塞（如反渗透膜、蒸发器）。案例：某化工厂在废水进入生化池前安装自清洗过滤器，过滤精度50μm，有效去除废水中的聚合物颗粒，使生化系统COD去...

2025/07/04 查看详细

光刻胶过滤器的技术原理：过滤膜材质与孔径选择：光刻胶过滤器的主要在于过滤膜的材质与孔径设计。主流材质包括尼龙6,6、超高分子量聚乙烯（UPE）、聚醚砜（PES）等，其选择需兼顾化学兼容性与过滤效率。例如，颇尔（PALL）公司的不对称膜式过滤器采用入口大孔径、出...

2025/07/03 查看详细

加压过滤器则以在悬浮液进口处施加的压力或对湿物料施加的机械压榨力为过滤推动力，适用于要求过滤压差较大的悬浮液。同样，加压过滤器也分为间歇操作和连续操作两种类型。间歇操作的加压过滤器常用于低浓度悬浮液的过滤，而连续操作的转鼓加压过滤机和圆盘加压过滤机则在密闭壳体...

2025/07/01 查看详细