随着技术节点的发展，光刻曝光源已经从g线（436nm）演变为当前的极紫外（EUV，13.5nm），关键尺寸也达到了10nm以下。痕量级别的金属含量过量都可能会对半导体元件造成不良影响。碱金属元素与碱土金属元素如Li、Na、K、Ca等可造成对元器件漏电或击穿，过...

2026/01/10 查看详细

对比度：对比度高的光刻胶在曝光后形成的图形具有陡直的侧壁和较高的深宽比。显影曲线的斜率越大，光刻胶的对比度越高。对比度直接影响光刻胶的分辨能力，在相同的曝光条件下，对比度高的光刻胶比对比度低的光刻胶具有更陡直的侧壁。抗刻蚀比：对于干法刻蚀工艺，光刻胶作为刻蚀掩...

2026/01/07 查看详细

喷印油墨过滤器的结构原理：喷印油墨过滤器是一种可以过滤油墨中杂质和颗粒的设备，它一般由主体过滤器和辅助过滤器两部分组成。主体过滤器是过滤油墨中较重要的组成部分，它由过滤网、载荷块和外壳等部分组成。油墨从过滤器的进口进入，经过过滤网的过滤，杂质和颗粒会被拦截下来...

2026/01/04 查看详细

水性油墨过滤器是印刷行业的关键设备，能有效去除杂质，确保印刷质量。环保水性油墨虽优势明显，但杂质可能导致喷头堵塞等问题。选择合适的过滤器需考虑材料兼容性、过滤精度、流量与容量及易维护性，以提升印刷效率和质量。水性油墨过滤器是用于去除水性油墨中的杂质和颗粒，确保...

2026/01/01 查看详细

墨水过滤器应用领域：墨水过滤器普遍应用于各种印刷设备中，如喷墨打印机、喷码机、数码印花机等。在印刷过程中，墨水过滤器能够有效地去除墨水中的杂质和颗粒物，保证打印质量和设备的稳定运行。此外，墨水过滤器还应用于其他需要液体过滤的领域，如化工、制药、食品等行业。综上...

2025/12/29 查看详细

解析油墨过滤器的作用：油墨过滤器是印刷行业中常用的设备之一，其作用主要是过滤油墨中的杂质和杂质，确保油墨的质量和稳定性。在印刷过程中，油墨中常常会有一些颗粒、纤维或其他杂质混入，如果不及时清理，会影响印刷品的质量，甚至导致印刷机器的损坏。因此，油墨过滤器的使用...

2025/12/26 查看详细

在现代化水质管理体系中，自清洗过滤器通过动态监测—智能决策—精确执行的闭环机制，重构了传统被动管理模式，实现效率的跨代升级工作原理：自清洗过滤器是一种高效的水处理设备，通过滤网拦截水中的杂质，并在必要时自动启动清洗功能，恢复过滤器的正常工作。当水流通过过滤器时...

2025/12/23 查看详细

光刻胶是半导体制造的关键材料，其质量直接影响芯片性能和良率。近年来，国内半导体产业快速发展，光刻胶行业迎来发展机遇，但也面临诸多挑战，尤其是在高级光刻胶领域与国际先进水平差距较大。我国光刻胶产业链呈现“上游高度集中、中游技术分化、下游需求倒逼”的特征，上游原材...

2025/12/20 查看详细

初始压差反映新过滤器的流动阻力，通常在0.01-0.05MPa范围内。低压差设计有利于保持稳定涂布，特别是对于高粘度光刻胶或低压分配系统。但需注意，过低的初始压差可能意味着孔隙率过高而影响过滤精度。容尘量与寿命决定过滤器的更换频率。深度过滤器通常比膜式过滤器具...

2025/12/17 查看详细

随着技术节点的发展，光刻曝光源已经从g线（436nm）演变为当前的极紫外（EUV，13.5nm），关键尺寸也达到了10nm以下。痕量级别的金属含量过量都可能会对半导体元件造成不良影响。碱金属元素与碱土金属元素如Li、Na、K、Ca等可造成对元器件漏电或击穿，过...

2025/12/14 查看详细

自动反洗过滤器运行及控制不需外接任何能源就可以自动反洗过滤，自动排污。反洗期间不断流，清洗过滤周期可以调节，清洗过滤损失水量只占过滤水量的1%；工作压力1.0-6.4Mpa；单台处理能力：3200m3/h。可立式、卧式、倒置任意方向任意位置安装，适用于工业、农...

2025/12/11 查看详细

初始压差反映新过滤器的流动阻力，通常在0.01-0.05MPa范围内。低压差设计有利于保持稳定涂布，特别是对于高粘度光刻胶或低压分配系统。但需注意，过低的初始压差可能意味着孔隙率过高而影响过滤精度。容尘量与寿命决定过滤器的更换频率。深度过滤器通常比膜式过滤器具...

2025/12/08 查看详细