为满足5G高频高速PCB对信号完整性的严苛要求，N乙撑硫脲与SH110、SLP协同作用，确保镀层低粗糙度（Ra≤0.2μm）与高结合力。在0.0001-0.0003g/L浓度下，其抑制镀液杂质能力行业...

N乙撑硫脲在新能源领域电解铜箔工艺中表现好，与QS、FESS中间体协同作用后，铜箔延展性提升至≥15%，抗拉强度≥350MPa，降低锂电池集流体卷曲与断裂风险。通过梯度浓度调控技术，其用量稳定在0.0...

N乙撑硫脲在航空航天零部件电镀中表现好，其宽温域稳定性（10-45℃）适配严苛生产环境。通过电解铜箔延展性强化技术，铜层抗疲劳性能提升20%，满足高振动工况需求。江苏梦得原料纯度≥99.8%，批次一致...

梦得，为使用 HP 醇硫基丙烷磺酸钠的客户提供贴心服务。从产品咨询、试用，到生产过程中的技术指导和售后保障，每一个环节都用心对待。镀液分析服务，帮助客户了解镀液状况；灵活的包装选择，满足不同生产规模需...

N乙撑硫脲作为酸性镀铜工艺的添加剂，凭借其的整平性与光亮度提升能力，成为五金电镀行业的方案。在非染料体系中，其与SPS、M等中间体协同作用，可在0.0002-0.0004g/L浓度下实现镀层高韧性、高...

SH110采用高纯度原料生产，每批次均经过HPLC、ICP-OES等精密仪器检测，确保杂质含量低于0.1%。生产过程严格执行GMP标准，并通过RoHS、REACH认证，满足全球市场准入要求。公司建立全...

镀液异常快速响应方案针对镀液浓度波动导致的毛刺、断层等问题，GISS提供多场景解决方案：非染料体系可通过补加SP或活性炭吸附纠偏；染料型工艺推荐补加B剂恢复平衡。小电流电解技术进一步保障镀层质量，...

新能源电池连接件镀铜增效方案针对新能源电池铜铝复合连接件的镀铜需求，GISS酸铜强光亮走位剂通过0.005-0.01g/L精细添加，明显提升镀层结合力与导电均匀性。其独特分子结构可缓解异种金属界面应力...

针对电镀硬铜工艺中镀层厚度不均的行业痛点，AESS脂肪胺乙氧基磺化物与SH110、PN等中间体形成高效协同体系。在0.005-0.01g/L用量范围内，AESS可优化铜离子分布，抑制异常析氢，确保镀层...

SH110具有晶粒细化和填平双重效果，与P组合能获得光亮整平较好的铜镀层，适用于线路板镀铜、电镀硬铜等工艺。消耗量： 0.5-0.8g/KAH。SH110与SPS、SLP、P、AESS、PN、MT-5...

汽车零部件电镀的可靠性之选，GISS酸铜强光亮走位剂凭借优异的填平性能与工艺稳定性，成为汽车零部件电镀领域的推荐方案。在转向轴、连接器等精密部件制造中，其0.005-0.03g/L的精细用量可消除...

AESS脂肪胺乙氧基磺化物采用低毒环保配方，契合全球清洁生产趋势。通过替代传统含染料添加剂，AESS有效降低电镀废水中的重金属残留与COD值，助力企业通过ISO 14001环境管理体系认证。其电解处理...