当激光打标机打标出现重影时，会让标记变得模糊不清，严重影响产品的标识质量。首先要检查的是扫描振镜的工作状态。扫描振镜在长期使用后，可能会出现电机扭矩不足、镜片松动等问题。电机扭矩不足会导致振镜在快速扫描时响应速度跟不上，使得激光束在不该出现的位置留下痕迹，从而...

2025/04/19 查看详细

在刻蚀过程中，无论是湿法刻蚀还是干法刻蚀，都会在晶圆表面留下不同形式的残留物。对于湿法刻蚀，大量的刻蚀液需要被去除干净，否则会继续对晶圆表面已刻蚀出的微观结构造成腐蚀破坏，改变刻蚀的形状和尺寸精度，影响芯片的性能和功能。在干法刻蚀后，虽然没有大量的液态残留，但...

2025/04/16 查看详细

在半导体芯片制造这一精密复杂的微观世界里，显影机作为不可或缺的关键设备，扮演着如同 “显影大师” 般的重要角色。它紧随着光刻工艺中涂胶环节的步伐，将光刻胶层中隐藏的电路图案精 zhun 地显现出来，为后续的刻蚀、掺杂等工序奠定坚实基础。从智能手机、电脑等日常电...

2025/04/13 查看详细

环保理念日益深入人心的当下，激光打标机凭借xian zhu 的环保优势，成为众多企业的理想选择。激光打标机采用非接触式加工，无需使用油墨、溶剂等化学耗材，从根源上杜绝了传统打标方式因耗材产生的环境污染问题。传统油墨打标过程中，挥发的有机溶剂会污染空气，废弃的油...

2025/04/10 查看详细

涂胶机作为半导体制造的关键装备，其生产效率与稳定性的提升直接关乎产业规模化进程。在大规模芯片量产线上，涂胶机的高效运行是保障生产线顺畅流转的关键环节。先进的涂胶机通过自动化程度的飞跃，实现从晶圆自动上料、光刻胶自动供给、精 zhun涂布到成品自动下料的全流程无...

2025/04/07 查看详细

涂胶显影机与刻蚀设备的衔接 刻蚀设备用于将晶圆上未被光刻胶保护的部分去除，从而形成所需的电路结构。涂胶显影机与刻蚀设备的衔接主要体现在显影后的图案质量对刻蚀效果的影响。精确的显影图案能够为刻蚀提供准确的边界，确保刻蚀过程中不会出现过度刻蚀或刻蚀不足的...

2025/04/04 查看详细

狭缝涂布无疑是半导体领域备受瞩目的“精度王 zhe ”，广泛应用于对精度要求极高的前沿制程芯片制造“战场”。其he心原理依托于一块超精密打造的狭缝模头，这块模头犹如一把神奇的“jing 准画笔”，能够将光刻胶在压力的“驱使”下，通过狭缝挤出，均匀细致地涂布在如...

2025/04/01 查看详细

激光打标机由多个关键部件协同运作，实现精 zhun 高效的打标。激光器是其he xin ，犹如“心脏”，作用是产生高能激光束。常见的有光纤激光器、CO₂激光器和紫外激光器。光纤激光器效率高、稳定性好，常用于金属打标；CO₂激光器输出波长较长，在非金属材料加工上...

2025/03/29 查看详细

激光打标机，作为现代工业标识的重要设备，其工作原理基于激光的热效应与光化学效应。激光发生器产生高能量密度的激光束，通过一系列光学元件，如反射镜、聚焦镜等，将激光束精 zhun 聚焦到工件表面。当激光束作用于工件时，瞬间的高温使材料表面迅速熔化甚至气化，从而在物...

2025/03/26 查看详细

半导体涂胶机在长时间连续运行过程中，必须保持高度的运行稳定性。供胶系统的精密泵、气压驱动装置以及胶管连接件能够稳定地输送光刻胶，不会出现堵塞、泄漏或流量波动等问题；涂布系统的涂布头与涂布平台在高速或高精度运动下，依然保持极低的振动与噪声水平，确保光刻胶的涂布精...

2025/03/23 查看详细

激光打标机在工业生产中展现出无可比拟的灵活性优势，能够轻松应对多样化的打标任务。在工件形状方面，无论是规则的平面物体，还是复杂的曲面、异形部件，激光打标机都能精 zhun 作业。例如，在卫浴产品制造中，对于形状各异的水龙头、花洒等，激光打标机通过灵活的光路调整...

2025/03/20 查看详细

涂胶显影机控制系统 一、自动化控制核 xin ：涂胶显影机的控制系统是整个设备的“大脑”，负责协调各个部件的运行，实现自动化操作。控制系统通常采用可编程逻辑控制器（PLC）或工业计算机，具备强大的运算和控制能力。通过预设的程序和参数，控制系统能够精确...

2025/03/17 查看详细