废水浓缩设备对热敏性液体特别友好，无热损伤。通常适用于切削液废水，垃圾渗滤液废水，膜浓缩液废水，清洗废水，印染废水和其他危废产生企业。相对于传统的蒸发器，废水浓缩设备采用模块化设计，装配操作更加方便，占用空间更小，保持了热敏性材料的成分，同时减少了腐蚀材料对设备的危害，延长了使用寿命。废水浓缩设备是采用什么原理?废水浓缩设备是采用单效和热... 【查看详情】

IC封装药液注意事项：有机酸为柠檬酸、酒石酸、苹果酸、绿原酸、草酸、苯甲酸、水杨酸、咖啡酸中的任意一种。使用的甘油是从可降解材料中提炼出的，如植物甘油。所述添加剂SI一1为制酸剂，其主要成分为碘化钠，其主要作用为在酸性环境中，使混合溶液产品转换为具有防锈性质的环保IC除锈剂。产品特性：本品减少了使用强酸生产IC除锈剂的繁琐操作过程和易造成... 【查看详情】

废水浓缩设备主机设备结构紧凑，占地面积较小，可以实现24小时连续自动运转，减轻作业人员的劳动负荷。首先从废液桶中吸入废液，同事加热罐体的压力为负压，在低温低压的状态下，通过加热蒸发废液产生水蒸气。如果有气泡产生，可以在加热的同时添加消泡剂，防止加热过程产生泡沫影响参数，产生的蒸汽上升流到冷却系统中，使之成为再生水，然后将再生水储存在机器内... 【查看详情】

影响ITO碱性氯化铜蚀刻液蚀刻速率的因素：1、Cu2+离子浓度的影响：Cu2+是氧化剂，所以Cu2+的浓度是影响蚀刻速率的主要因素。研究铜浓度与蚀刻速率的关系表明：在0~82g/L时，蚀刻时间长；在82~120g/L时，蚀刻速率较低，且溶液控制困难；在135~165g/L时，蚀刻速率高且溶液稳定；在165~225g/L时，溶液不稳定，趋向... 【查看详情】

ITO导电膜玻璃是在钠钙基或硅硼基基片玻璃的基础上，利用磁控溅射的方法沉积二氧化硅（SiO2）和氧化铟锡（通称ITO）薄膜加工制作成的。ITO是一种具有良好透明导电性能的金属化合物，具有禁带宽、可见光谱区光透射率高和电阻率低等特性，普遍地应用于平板显示器件、太阳能电池、特殊功能窗口涂层及其他光电器件领域，是目前LCD、PDP、OLED、触... 【查看详情】

废水浓缩设备包括废水原液储罐，废水原液储罐通过原液管道与一级冷凝装置连接，一级冷凝装置通过进液管道和出液管道与负压蒸发装置连接，负压蒸发装置通过排液管与浓缩液接收装置连接，一级冷凝装置通过一级浓水管道与一级浓水接收装置连接，一级冷凝装置通过排气管道与二级冷凝装置连接，二级冷凝装置与冷却水管道连接，二级冷凝装置通过二级浓水管道与二级浓水接收... 【查看详情】

一些科学家针对含油废水水温较高，容汽效果差，含油和悬浮物浓度高，油水密度相近的特点，第1次将汽液机泵用于高温含油废水的汽浮处理中。该实验终证明，此操作与其他处理方式相比来说，具有设备简单，工程造价较低，运费合理等诸多优点，且除油效果良好，高达95%，在一定程度上使油的回收率增加，减少了污染。废水浓缩设备设备的来历和损害分析：我国的废水浓缩... 【查看详情】

废水浓缩设备适用于污水处理厂、自来水厂以及造纸、印染、皮革、化工、屠宰、制药、电镀、冶金、建材、酿造、食品等行业废水处理后工序的污泥脱水，也可作为工业生产的固液分离设备。与传统废水浓缩设备相比，具有处理能力大、能耗低、占地面积小、劳动强度低、操作简单、维修方便等优点。除先进的设备技术以外，废水浓缩设备还包括成熟的应用技术，可靠的运转性能，... 【查看详情】

废水浓缩设备的原理是将含有不挥发性的溶质的溶液在抽真空的情况下，在40°C左右使溶液沸腾汽化，此时溶液中的溶质溶度会升高，这就是低温蒸发的原理。在工业生产中有很多的低温蒸发浓缩的现象，比如说果汁的浓缩，医药的浓缩，工业废水的浓缩，废水浓缩设备是主要面向工业废水开发的，我们的设计浓缩率在90%以上,具体的浓缩率还得根据原液的情况来看，一般含... 【查看详情】

废水浓缩设备设备产品应用了先进的射流加药凝聚法，高速射流制造溶气水的气浮分离法等新技术，与其它同类产品相比具有以下优点：化学药剂采用可控制定比自动追踪投加，克服了凭经验投加药剂的缺点，省去了用计量泵加药的老方法，从而保证了絮凝、破乳、中和的效果；利用高速射流技术使大气与水直接混合而生成溶气水的新技术，使生成的溶气水质量稳定，提高了气浮分离... 【查看详情】

炼铁、炼钢、轧钢等过程中的冷却水和冲铸件、轧件的水污染不大；洗涤水是污染物较多的废水，如除尘、净化烟气等，往往含有大量的悬浮物，需要沉淀后才能回收利用，但酸性废水和含有重金属离子的水受到污染。各种化学状态或化学状态的重金属在进入环境或生态系统后会残留、积累和迁移，造成危害。化工废水是指化工厂生产产品过程中生产的废水，如乙烯、聚乙烯、橡胶、... 【查看详情】

钛蚀刻剂TFT是设计用来蚀刻通常在微电子产品中作为连结层和阻挡层的蒸发法薄膜的蚀刻剂。这种蚀刻剂光刻胶匹配性良好、分辨率高、边下蚀现象低。钛蚀刻剂TFTN用来蚀刻玻璃或SiO2基板上的Ti沉积膜。TFTN并不含有氢氟酸。性质TFTTFTN外观澄清水溶液澄清水溶液PH11闪点不可燃不可燃贮存室温室温有效期1年1年毒性强酸强酸操作蚀刻容器聚乙... 【查看详情】