模压成型适用于小型、简单形状钼坩埚(直径≤100mm),采用钢质模具,上下模芯表面镀铬(厚度 5μm),提高耐磨性和脱模性。成型时将钼粉装入模具型腔,采用液压机进行单向或双向压制,压制压力 150-200MPa,保压时间 2 分钟。为改善坯体密度均匀性,常采用 “多次压制 - 多次脱模” 工艺,每次压制后脱模旋转 90°,再进行下一次压制,使坯体各向密度差异≤2%。等静压复合工艺结合模压和冷等静压优势,用于高精度坩埚生产。首先通过模压制成预成型坯(密度 5.0g/cm³),然后将预成型坯装入弹性模具,进行冷等静压二次成型(压力 220MPa,保压 4 分钟),终生坯密度可达 6.2g/cm³,密度均匀性提升至 98% 以上。该工艺能有效减少成型缺陷,使后续烧结后的坩埚变形量≤0.3%,满足半导体行业对尺寸精度的严苛要求(公差 ±0.1mm)。不同类型钼坩埚,如机加、焊接等,依据具体应用场景设计,适配多样工艺需求。常州钼坩埚的市场

为满足钼坩埚生产过程中的高温、高真空需求,新型加热与真空系统不断涌现。在加热方面,采用感应加热技术替代传统电阻丝加热。感应加热利用交变磁场在钼坯体中产生感应电流,实现快速、高效加热,加热速度可达每分钟数百度,且加热均匀性好,避免了局部过热现象。同时,新型真空系统采用分子泵与罗茨泵组合,可获得更高的真空度,极限真空度能达到 10⁻⁶ - 10⁻⁷Pa,有效减少钼在高温下与气体的反应,提高产品纯度。在大型钼坩埚烧结过程中,新型加热与真空系统协同工作,能更好地控制烧结气氛与温度场,保证产品质量稳定,且能耗较传统系统降低 15% - 20%,符合节能环保的产业发展趋势。常州钼坩埚的市场钼坩埚在半导体材料制备中,为材料熔化和成型提供稳定条件。

在冶金与稀土行业,高温熔炼是工艺,钼坩埚成为理想的承载容器。在冶金工业中,用于熔炼特种合金、贵金属等,面对高温金属熔体的冲刷与侵蚀,钼坩埚凭借度与化学稳定性,保障熔炼过程顺利进行,且不影响合金成分与纯度。在稀土行业,稀土金属提炼与加工需在高温、复杂化学环境下完成,钼坩埚能有效抵抗稀土金属及其化合物的腐蚀,精确控制熔炼温度,助力稀土元素的分离、提纯,对于生产高性能稀土永磁材料、稀土发光材料等至关重要,是推动冶金与稀土行业技术升级、产品化的关键装备。
光伏产业是钼坩埚的重要应用领域,主要用于硅单晶生长炉,在拉晶过程中盛放硅熔体。随着光伏产业技术不断进步,高效 N 型硅片成为发展主流,其对硅晶体质量要求更高,需要更大尺寸、更质量的钼坩埚。大尺寸钼坩埚(≥24 英寸)可提高硅锭产量,降低单位成本,但制造难度大,目前国产化率 40% 左右。同时,光伏产业对钼坩埚的使用寿命也有较高要求,通过技术创新,如采用新型涂层技术、优化结构设计,延长钼坩埚使用寿命,可降低光伏企业生产成本,提升产业竞争力,推动光伏产业向高效、低成本方向发展。机械加工行业利用钼坩埚熔炼特殊合金,满足特殊零部件制造需求。

耐高温与度是钼坩埚为突出的性能。在高温环境下,多数材料会出现强度下降、软化变形等问题,但钼坩埚凭借钼的高熔点特性,能够在 1700℃甚至更高温度下保持稳定固态结构。例如,在蓝宝石单晶生长炉中,长时间处于 1800℃左右高温,钼坩埚依旧能维持形状,为蓝宝石晶体生长提供稳定空间。同时,钼坩埚具有较度,其抗拉强度可达 350MPa 以上,屈服强度约 200MPa,在承受高温物料的重力、热应力以及机械操作过程中的外力时,不易发生破裂、变形,确保了生产过程的连续性与安全性,在高温工业领域展现出强大的适用性 。机加钼坩埚的表面经过精细处理,减少物料与坩埚的粘附。常州钼坩埚的市场
用于石英玻璃熔炼炉的钼坩埚,能耐受高温玻璃液,确保玻璃熔炼质量。常州钼坩埚的市场
在半导体产业这一前沿科技领域,钼坩埚扮演着举足轻重的角色。从单晶硅、多晶硅的生长,到化合物半导体(如碳化硅、氮化镓)的制备,钼坩埚都是关键装备。在单晶硅生长过程中,需在超净环境下精确控制温度与生长条件,钼坩埚的高纯度、化学稳定性确保不会向硅熔体引入杂质,影响单晶硅电学性能。对于碳化硅等化合物半导体,生长温度高达2300℃左右,钼坩埚凭借耐高温特性,稳定承载熔体,助力高质量半导体晶体生长,为芯片制造提供质量基础材料,是推动半导体产业技术进步的保障之一。常州钼坩埚的市场