共集放大电路（射极输出器）以集电极接地，输入信号加在 BC 间，输出信号从 BE 间取出。NPN 型小功率管在该电路中工作在放大区， 重要特点是电压放大倍数≈1（Av<1），输出与输入同相（无反相），输入电阻高（ri≈βRL，RL 为负载电阻）、输出电阻低（ro≈ri/β）。虽无电压放大能力，但带负载能力强，常用于多级放大电路的输入级、输出级或隔离级。例如在传感器信号采集电路时，共集电路作为输入级，高输入电阻可减少对传感器输出信号的衰减；在 LED 驱动电路中，作为输出级，低输出电阻可稳定 LED 工作电流。教学实验中，测 IB、IC 绘 β 曲线，助理解电流放大原理。可焊接NPN型晶体三极管定制
共射放大电路的失真，有截止失真和饱和失真：截止失真是因静态工作点过低，输入信号负半周使三极管进入截止区，输出信号正半周被削波，解决方法是减小 RB（增大 IBQ）或提高 VCC；饱和失真是因静态工作点过高，输入信号正半周使三极管进入饱和区，输出信号负半周被削波，解决方法是增大 RB（减小 IBQ）、减小 RC 或降低 VCC。例如当输入正弦信号时，若示波器显示输出波形顶部被削，为截止失真，可将 RB 从 100kΩ 调至 80kΩ，增大 IBQ；若底部被削，为饱和失真，可将 RC 从 2kΩ 调至 3kΩ，降低 ICQ。可焊接NPN型晶体三极管定制手机等小型设备用贴片三极管，高安装密度适配设备小型化。
PN 型小功率晶体三极管的输入特性曲线直接影响电路静态工作点的设置。该曲线以集电极 - 发射极电压 VCE 为固定参量（通常需满足 VCE≥1V，消除 VCE 对曲线的影响），描述基极电流 IB 与基极 - 发射极电压 VBE 之间的关系，其形态与二极管正向伏安特性高度相似，存在明显的 “死区” 与 “导通区” 划分。对于硅材料三极管，当 VBE＜0.5V 时，发射结未充分导通，IB 近似为 0，三极管处于截止状态，此为死区；当 VBE 突破 0.5V 死区电压后，IB 随 VBE 的增大呈指数级快速上升，且在正常工作范围内，VBE 会稳定在 0.6-0.7V 的狭窄区间，这一特性成为电路设计的关键依据。例如在共射放大电路中，设计师需利用这一稳定区间，通过基极偏置电阻（如分压式偏置中的 RB1、RB2）精确控制 VBE，将 IB 锁定在合适数值，确保静态工作点落在放大区中心。
温度对 NPN 型小功率三极管参数影响比较明显：一是 VBE 随温度升高而减小，每升高 1℃，VBE 下降 2-2.5mV，可能导致 IB 增大、IC 漂移；二是 β 随温度升高而增大，每升高 10℃，β 增大 10%-20%，加剧 IC 不稳定；三是集电极反向饱和电流 ICBO（发射极开路时 CB 反向电流）随温度升高呈指数增长，每升高 10℃，ICBO 翻倍，而 ICEO（基极开路时 CE 反向电流）≈(1+β) ICBO，变化更剧烈。例如在高温环境（如汽车电子）中，需通过温度补偿电路（如并联二极管）抵消温度对参数的影响。电流源电路用共基电路，低输入阻抗减负载影响，高输出阻抗稳电流。
NPN 型小功率晶体三极管是电子电路中常用的半导体器件，其 重要结构由三层半导体材料构成，分别为发射区、基区和集电区。发射区采用高掺杂的 N 型半导体，目的是提高载流子（自由电子）的浓度，便于后续载流子的发射；基区为 P 型半导体，其掺杂浓度低，而且物理厚度极薄，通常有几微米到几十微米，这种设计能让发射区注入的载流子快速穿过基区，减少在基区的复合损耗；集电区同样是 N 型半导体，面积比发射区大得多，主要作用是高效收集从基区过来的载流子。三个区域分别引出三个电极，对应发射极（E）、基极（B）和集电极（C），电极的引出方式和位置会根据三极管的封装形式有所差异，常见的封装有 TO-92、SOT-23 等，这些封装既能保护内部半导体结构，又能方便在电路中焊接安装。变压器耦合可阻抗匹配，适合高频功率放大，却体积大、成本高。上海贴片式NPN型晶体三极管通信基站设备应用询价
选型时需结合电路需求，考虑封装形式、频率特性及温度稳定性，优先选适配参数的常用型号。可焊接NPN型晶体三极管定制
用万用表检测三极管好坏：第一步测 PN 结正向导通性，红表笔接 B，黑表笔接 E、C，均应显示 0.6-0.7V（硅管），若显示 “OL” 或压降异常，说明发射结 / 集电结损坏；第二步测反向截止性，黑表笔接 B，红表笔接 E、C，均应显示 “OL”，若有导通压降，说明 PN 结反向漏电；第三步估测 β，将万用表调至 “hFE 档”，根据三极管类型（NPN）插入对应插槽，显示 β 值，若 β<10 或无显示，说明三极管放大能力失效。例如检测 9013 管，若 B-E、B-C 正向压降正常，反向截止，β=80-120，说明三极管完好。可焊接NPN型晶体三极管定制
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