自动化电镀设备产业

滚镀机的工作原理

将小工件装入带孔的滚筒（聚氯乙烯或不锈钢材质），滚筒浸入电解液后缓慢旋转（5~15 转 / 分钟），通过滚筒壁的孔洞使电解液流通，同时工件在滚筒内翻滚，确保镀层均匀附着。

优势：

高效率：单次可处理数千件小工件，产能远超挂镀（适合单件或少量）。

低成本：减少人工挂卸成本，滚筒导电杆统一通电，能耗相对较低。

均匀性：工件在滚筒内动态接触电解液，避免屏蔽效应（挂镀中工件相互遮挡导致镀层不均）。

与生产线其他环节的配合

前处理：需先通过除油、酸洗去除工件表面油污和氧化皮，否则影响镀层结合力（滚镀机不具备前处理功能，依赖生产线前段设备）。

后处理：滚镀完成后，工件随滚筒吊出，进入水洗槽、钝化槽或封闭槽（如镀锌后的蓝白钝化），终干燥（生产线后段设备完成）。

自动化控制：滚镀机的转速、电镀时间、电流电压等参数由生产线 PLC 系统统一控制，与传输装置（如行车）联动，实现 “上料→前处理→滚镀→后处理→下料” 全流程自动化。 在线监测设备搭载 AI 算法，实时分析镀层缺陷（如麻点、漏镀），自动调整电流参数提升良品率。自动化电镀设备产业

酸雾净化塔是高效处理工业酸性废气的设备，广泛应用于电镀、化工等行业，通过中和反应去除硫酸雾、盐酸雾等污染物，确保废气达标排放。

一、原理与结构

废气由抽风设备引入塔底，自下而上流动，塔内喷淋系统喷洒碱性吸收液（如氢氧化钠溶液），与酸性气体发生中和反应，生成无害盐类和水。塔内填料层增大接触面积，强化传质效率；除雾装置去除尾气中夹带的液滴，洁净气体终排放。设备主体采用耐酸碱材料（PP、玻璃钢等），包含喷淋系统、填料层、除雾装置及循环系统，确保长期稳定运行。

二、分类与适用场景

填料塔：适用于中等风量、高净化需求（如电镀酸洗废气）；喷淋塔：结构简单，适合大流量、低浓度酸性废气；旋流板塔：通过湍动增强反应，处理高浓度酸雾更高效。广泛应用于电镀酸洗、化工生产、电子清洗等工序，针对性去除各类酸性污染物。

三、优势与系统配合

净化效率可达90%~95%，耐腐蚀性强，吸收液循环使用降低成本，且可根据废气特性定制塔体参数。常与抽风设备、集气罩等组成完整处理系统，实现从废气收集到净化排放的全流程控制，是工业酸性废气治理的关键设备，助力企业满足环保标准，实现清洁生产。编辑分享 广东医疗器材电镀设备镀铜设备的阳极磷铜板定期活化处理，维持表面活性，稳定铜离子浓度，保障镀层沉积速率。

全自动磷化线工作流程

1.前处理：晶圆清洗、去氧化层、活化表面。

2.装载：将晶圆固定于旋转载具，浸入镀液。

3.电镀：

施加电流，金属离子在晶圆表面还原沉积。

旋转载具确保镀液流动均匀，消除厚度差异。

4.后处理：镀层退火、清洗、干燥。

技术特点

1.高均匀性：

旋转+喷淋设计减少“边缘增厚”现象，镀层均匀性达±5%以内。

2.精密控制：电流密度精度：±1 mA/cm²；温度波动：±0.5℃。

3.洁净度保障：设备内建HEPA过滤系统，满足Class 1000以下洁净环境。

4.高效生产：支持多片晶圆同时处理（如6片/批次），UPH（每小时产量）可达50~100片。

应用场景

1.先进封装：2.5D/3D IC的TSV镀铜、Fan-Out封装中的RDL金属化。

2.功率器件：IGBT、MOSFET背面金属化（镀银、镀镍）。

3.传感器与MEMS：微结构表面镀金，提升电气性能与可靠性。

电镀设备是通过电解反应在物体表面沉积金属层的装置，用于形成保护性或功能性涂层。

其系统包括：

电解电源：提供0-24V直流电，电流可达数千安培，适配不同镀种需求；

电解槽：耐腐蚀材质（如PP/PVDF），双层防漏设计，容积0.5-10m³；

电极系统：阳极采用可溶性金属或不溶性钛篮，阴极挂具定制设计，确保接触电阻＜0.1Ω；

控制系统：精细温控（±1℃）、pH监测（±0.1）及镀层厚度管理。

设备分类：

挂镀线：精密件加工，厚度均匀性±5%；

滚镀系统：小件批量处理，效率3-8㎡/h；

连续电镀线：带材/线材高速生产，产能达30㎡/h；选择性电镀：数控喷射，局部镀层精度±3%。技术前沿：脉冲电镀：纳米晶结构（晶粒＜50nm），孔隙率降低60%；

复合电镀：添加纳米颗粒（SiC/Al₂O₃），硬度达HV1200；智能化：机器视觉定位（±0.1mm），大数据实时优化工艺。环保与应用：闭路水循环（回用率＞90%）及重金属回收技术；汽车（耐盐雾＞720h）、PCB（微孔镀铜偏差＜8%）、航空航天（耐温800℃）等领域广泛应用。设备正向高精度、低能耗、智能化发展，纳米电镀等新技术持续突破工艺极限。选型需结合基材特性、镀层需求及成本综合考量。 电镀设备中的挂镀装置，通过挂具悬挂工件，适用于汽车零件等中大件，可实现镀层均匀附着。

全自动龙门式电镀生产线

是一种高效、智能化的电镀生产系统，通过龙门机械手实现工件的全流程自动化传输与精细加工，广泛应用于金属表面处理行业。

一、设备结构与组成龙门架与机械手龙门桁架：横跨电镀槽上方，搭载伺服驱动的机械臂，实现三维空间内的精确定位（重复精度±0.1mm）。夹具系统：根据工件形状（如螺丝、连接器、汽车零件）定制夹具，确保抓取稳固。电镀槽组包含 前处理槽（除油、酸洗）、电镀槽（镀锌、镀镍等）、后处理槽（钝化、烘干）等，槽位数量可按工艺扩展（如8~20槽）。槽内配备液位传感器、温控装置及循环过滤系统，保障镀液稳定性。控制系统PLC+HMI：控制器预设工艺参数（电流、时间、温度），触摸屏实时监控运行状态。智能调度算法：优化机械手路径，减少空载时间，提升产能（如每小时处理500~2000件） 悬挂传输设备以链条或龙门架为载体，实现工件在各槽体间自动转移，减少人工干预并提高生产节奏。山东电镀设备发展

镀镍设备配套活性炭吸附装置，定期去除镀液中有机杂质，防止细孔、麻点等镀层缺陷。自动化电镀设备产业

半导体挂镀设备

1.基本原理与结构

挂镀工艺：晶圆固定在挂具上，浸入电镀液，通过精细控制电流、电压及溶液成分，在表面沉积均匀金属层。

组件：

电镀槽：耐腐蚀材质，配备温控、循环过滤系统，维持镀液均匀性

挂具与阳极：钛或铂金阳极，挂具设计适配晶圆尺寸，确保电场分布均匀

自动化传输：机械臂自动上下料，减少人工污染风险

控制系统：PLC/计算机实时调控电流密度、电镀时间、pH值等参数

2. 关键技术优势

高均匀性：通过脉冲电镀或水平电镀技术（如ECP），减少边缘效应，实现亚微米级镀层均匀性

低缺陷率：镀液杂质控制（＜0.1ppm）与膜厚在线监测，降低孔洞、结节等缺陷

高产能：支持多晶圆并行处理

3. 典型应用场景

芯片制造：

铜互连：在逻辑芯片中沉积多层铜导线，替代传统铝工艺以降低电阻

TSV填充：为3D封装提供垂直导电通道，实现芯片堆叠

先进封装：

凸块电镀：在晶圆表面形成锡、铜柱凸块，用于Flip-Chip键合

RDL（重布线层）：沉积铜层实现芯片I/O端口的重新布局

总结

半导体挂镀设备通过精密电化学控制与自动化技术，解决了纳米级金属沉积的均匀性与可靠性难题，是先进芯片制造与封装的装备。其性能直接关联芯片的导电性、散热及良率 自动化电镀设备产业