金相显微镜规格尺寸

聚焦离子束（FIB）显微镜

随着纳米科技的发展，纳米尺度制造业发展迅速，而纳米加工就是纳米制造业的重要部分，纳米加工的代表性方法就是聚焦离子束。近年来发展起来的聚焦离子束（FIB）技术利用聚焦离子束对材料进行纳米加工，配合扫描电镜（SEM）等高倍数电子显微镜实时观察，成为了纳米级分析、制造的主要方法。目前已广泛应用于半导体集成电路修改、切割和故障分析等。

技术特征

1、比较高束流可以达到100nA,且加工性能优异。可以实现快速切割和纳米加工。

2、最高分辨率小于3nm，可以实现精细加工，并显示优异的FIB成像质量。

3、电压范围在500V-30KV可调，可以实现精细抛光，降低样品表面非晶层厚度。

4、离子源比较稳定，使用寿命长。行业内**长离子源寿命1500小时（3000uAh），72小时束流变化在5%以内。5、与SEM镜筒完美配合，可以实现FIB加工过程中可以利用SEM进行实时观察。 体视显微镜的放大倍数一般在5-100倍之间， 一般有透射光，斜射光和外部环形光源等照明方式。金相显微镜规格尺寸

显微镜的观察方式，你知道几种？霍夫曼调制相差（HMC）利用斜射光照射到标本产生折射、衍射，光线通过物镜光密度梯度调节器产生不同阴影，从而使透明标本表面产生明暗差异，增加观察对比度。霍夫曼调制相差不会因在光路中使用双折射材料而受到阻碍，因此该技术对于检查由聚合材料制成的容器中的样本更为有用。而它不利的一面是，HMC会产生许多光学伪像，使该方法用于在玻璃盖玻片上进行贴壁细胞成像时比相差或DIC效果差。当斜射光照射到标本产生折射、衍射，通过物镜相衬板产生不同阴影，从而使透明标本表面产生明暗差异，增加观察对比度。江苏共聚焦显微镜共聚焦显微镜是由显微镜光学系统、激光光源、扫描器及检测及处理系统4部分组成；

扫描探针显微镜控制器通过扫描器在竖直舛由方向移动样品以使探针和样品之间的距离(或相互作用的物理量)稳定在某一固定值;同时在x-y水平平面移动样品，使探针按照扫描路径扫描样品表面。扫描探针显微镜在稳定探针与样品间距的情况下，检测系统检测探针与样品之间相互作用的相关物理量信号;在稳定相互作用物理量的情况下，则通过竖直方向礴由位移传感器检测探针与样品之问距离。图像系统则根据检测信号(或探针与样品间距)对样品表面进行成像等图像处理。

工业测量显微镜广泛应用于多个行业，尤其在电子行业，它是观察电路板的构造和精确测量距离的“得力”仪器。

根据不同的照明方式，观察成像也不同，因此需要根据不同的工件以及测量部位选择适合的照明方式。透射照明是采用透过轮廓光观察的方法，特别是观察测量轮廓时使用，边缘清晰易于观察。垂直反射照明是垂直照射测量工件的表面，适合用来表面性状的观察和测量。外部照明是用斜射的光来照射测量工件的表面，能够实现立体的、颜色重复性良好的观察。 透射电镜主要应用于半导体和芯片研发、缺陷分析和工业检测等方面。

共聚焦显微镜扫描时用的是激光光源，激光的穿透力强，可对样本进行一定深度的光学断层，从而获得高标准的连续光学切片，由此做Z轴光学切片后重组出3D效果就能立体地展示样品里荧光的空间分布。配有高精度电动载物台和图像拼接软件，能完美解决放大倍数和整体成像这一问题。可做时间序列拍摄，实时监测荧光变化，可以把荧光变化的过程以动态的形式展示出来。

共聚焦的应用很广，像离体细胞、组织切片、物理材料、模式生物等荧光样本都可以用共聚焦进行拍摄，除了常规的荧光图片拍摄进行定性定位外，还可以进行荧光的半定量分析、共定位分析、荧光漂白恢复（FRAP）、荧光共振能量转换(FRET)等，但也要注意一下，常规405-647nm之间的激发波长都可以支持。 体视显微镜的性能特点；南昌显微镜常见问题

激光扫描共聚焦显微镜的扫描成像技术。金相显微镜规格尺寸

透射电镜的工作过程与光学显微镜类似。在光学显微镜中聚焦后的可见光射向样品，穿过样品的光经过物镜、目镜等光学系统聚焦后被眼睛接收。在电子显微镜中，可见光由电子枪发射出来的电子束所代替,在阳极加速电压的作用下，电子经过2、3个电磁透镜会聚为电子束，用来照明样品薄片 (电子的穿透能力很弱，因此样品必须很薄)，穿过样品薄片的电子携带了样品本身的结构信息，经物镜、中间镜和投影镜所组成的成像系统的接力聚焦放大以图像或衍射谱的形式显示于荧光屏或感光材料上。金相显微镜规格尺寸

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