上海弥正针对碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等第三代半导体制造，打造专属超高纯气体解决方案，以 “适配宽禁带特性 + 准确工艺控制” 助力功率器件与射频器件量产。方案涵盖超高纯氨气、硅烷、氢气、氩气等重心气体，其中用于 GaN 外延生长的超高纯氨气纯度达 7N 级，金属杂质含量≤0.01ppb；用于 SiC 刻蚀的超高纯氟化物气体纯度达 6N 级，确保材料刻蚀的准确度与表面质量。第三代半导体材料具有耐高温、耐高压、高频的特性，对气体纯度与杂质控制要求远高于传统硅基半导体，该方案通过准确控制氧、碳、金属等杂质含量，有效减少外延层缺陷，提升器件的击穿电压与可靠性。提供外延生长、离子注入、刻蚀、退火等全工艺环节的气体组合，并配备工艺适配团队，协助客户优化气体流量、压力等工艺参数。某专注于 SiC 功率器件的企业应用该方案后，外延片的缺陷密度从 10³cm⁻² 降至 10²cm⁻² 以下，器件的击穿电压提升 20%，成功实现车规级 SiC MOSFET 的稳定量产。超高纯氧气纯度≥99.999%，用于医疗供氧与电子行业氧化反应。氪气超高纯气体芯片制造
上海弥正超高纯氨气（6N 级纯度），专为 OLED、Micro-LED 等新一代显示技术打造，是显示面板化学气相沉积（CVD）工艺的重心原料。通过催化分解与吸附提纯工艺，将水、油、颗粒物等杂质含量控制在 0.5ppb 以下，其中金属杂质（铁、铜、钾等）含量≤0.01ppb，避免影响面板像素发光效率与寿命。在 OLED 面板制造中，超高纯氨气作为氮源，参与有机发光层与电子传输层的沉积过程，直接影响像素点的发光均匀性；在 LCD 面板生产中，可用于硅 nitride 薄膜制备，提升面板抗划伤性能与稳定性。采用耐腐蚀特用气瓶包装，配备高精度流量控制系统，支持连续 24 小时稳定输送，流量调节范围 1-50L/min。某显示面板企业应用后，OLED 面板像素发光均匀度提升 3%，不良品率从 1.2% 降至 0.15%，面板使用寿命延长 10%，完全适配 8.6 代及以上高世代线的大规模生产需求，助力显示产业向高清化、柔性化升级。硼烷超高纯气体生物医药超高纯锑烷纯度≥99.99%，用于半导体掺杂与红外材料制备。
上海弥正严格遵循欧盟 REACH 法规（《化学品注册、评估、授权和限制法规》）要求，确保所有出口欧盟的超高纯气体产品完全合规，为客户进入欧盟市场扫清法规障碍。公司建立了完善的化学品安全信息管理体系，对每款出口产品进行多面的物质特性评估与注册，完成了超过 20 种超高纯气体的 REACH 注册，涵盖氟化物、硅烷等关键品类，并编制符合要求的 SDS（安全技术说明书）与标签。在生产过程中，严格控制 REACH 法规限制的高关注度物质（SVHC）含量，确保产品中 SVHC 含量远低于法规限值。配备专业的合规团队，实时跟踪欧盟法规更新，为客户提供法规咨询与合规性证明文件，协助客户顺利通过欧盟海关检验与市场准入审核。某跨境电子元件企业使用其 REACH 合规超高纯气体生产的产品，顺利进入欧盟市场，未发生任何因化学品合规问题导致的贸易壁垒或处罚，产品在欧洲市场的占有率逐年提升。
上海弥正超高纯磷烷（5N 级纯度），作为半导体制造中关键的 N 型掺杂气体，以 “准确掺杂 + 高安全性” 满足芯片电性能调控需求。通过络合纯化与吸附分离工艺，将杂质总含量控制在 100ppt 以下，其中砷、硼等竞争性掺杂元素含量≤10ppt，确保掺杂精度与芯片性能稳定。在芯片制造的掺杂工艺中，它被精确引入晶圆表层，通过热扩散或离子注入方式，改变半导体材料的导电类型，形成 N 型半导体区域，是构建晶体管源极、漏极及电阻等关键结构的重心材料。针对其高毒性与高反应活性的特点，建立了符合 SEMI 标准的全流程安全管理体系，从生产、检测、包装到运输均配备多重安全防护装置，气瓶采用特制的防爆阀门与泄漏监测系统，确保使用安全。某先进逻辑芯片企业应用该气体后，晶体管开关速度提升 12%，芯片功耗降低 8%，掺杂工艺的均匀性与重复性均达到国际先进水平，产品良率稳居行业前列。超高纯气体输送管道需钝化处理，避免内壁杂质影响气体纯度。
上海弥正秉持绿色制造理念，打造环保型超高纯气体解决方案，从生产、使用到回收全流程降低环境影响。生产过程采用节能型提纯设备，能耗较传统设备降低 25%，同时利用余热回收系统，实现能源循环利用；气体使用后，通过特用回收装置回收反应尾气，如三氟化氮气体回收率达 67%，经处理后可重新用于下游生产，降低资源浪费与环境排放。所有气体包装材料均采用可回收不锈钢材质，回收率达 95% 以上，减少固体废弃物产生；生产车间配备废气处理系统，确保废气排放符合国家环保标准，无有害气体泄漏。为客户提供环保使用指导，优化气体使用工艺，降低单位产品气体消耗量，助力客户实现 “双碳” 目标。某半导体企业应用该环保方案后，年气体消耗量降低 10%，废弃物排放减少 30%，成功通过 “绿色工厂” 认证，环保与经济效益双赢。超高纯氯气（纯度 99.99%）适配半导体刻蚀，准确去除硅基材料。江苏丙二烯超高纯气体芯片制造
超高纯氩气（杂质含量≤1ppm）适配激光切割，提升金属加工切口光滑度。氪气超高纯气体芯片制造
上海弥正低超高纯气体系列（≤-80℃），专为对水分敏感的电子制造、精密仪器等领域设计，以 “干燥 + 高纯度” 杜绝水分导致的生产缺陷。通过深度干燥与吸附提纯工艺，将气体中的水分含量控制在 50ppb 以下，部分产品（如超高纯氮气、氩气）可低至 - 90℃，同时保证气体纯度达 6N 级以上，完全满足半导体光刻、薄膜沉积等工艺对水分的要求。水分是电子制造中的 “隐形”，可能导致晶圆氧化、薄膜层间剥离、金属电极腐蚀等严重问题，直接影响产品良率。该系列气体采用全程干燥的生产、包装与输送系统，气瓶内壁经特殊处理，防止水分吸附，输送管路配备在线监测仪，实时监控气体干燥度，确保终端使用点的始终符合要求。某显示面板企业应用低超高纯氨气后，OLED 面板的薄膜层间附着力提升 30%，因水汽导致的黑斑缺陷率从 1.5% 降至 0.05%；某精密电子元件厂使用后，产品的耐湿热性能测试通过率从 85% 提升至 99.5%。氪气超高纯气体芯片制造
上海弥正气体有限公司在同行业领域中，一直处在一个不断锐意进取，不断制造创新的市场高度，多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准，在上海市等地区的电工电气中始终保持良好的商业口碑，成绩让我们喜悦，但不会让我们止步，残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志，和谐温馨的工作环境，富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新，勇于进取的无限潜力，上海弥正气体供应携手大家一起走向共同辉煌的未来，回首过去，我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜，相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围，我们更要明确自己的不足，做好迎接新挑战的准备，要不畏困难，激流勇进，以一个更崭新的精神面貌迎接大家，共同走向辉煌回来！
