四川真空镀膜设备有用吗

【光谱分光不良的补救（补色）之其他情况】：分光不良分为二种情况：一是全部膜系镀制完成后，经测试分光不良，此类不良主要按六节所述方法处理，一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断（包括发现错误中断）造成的分光不良，一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确，补救成功率比较高。中断的原因形式之其他情况：对于用错程序，错误操作（预熔未关闭挡板等）人为中断需要补救的；以及反光膜、滤光膜镀后需要补救的情况处理方案：模拟：将实测分光数据输入计算机膜系设计程序的优化目标值。通过计算机模拟（一般是Zui后一层的膜厚确认），找到与实现测试值结果相应的膜系数据。真空镀膜设备品牌有很多，你如何选择？四川真空镀膜设备有用吗

【真空镀膜二极溅射与磁控溅射对比】： 靶材利用率（TU）：是指发生溅射的靶材质量占原靶材质量的比率。 公式表示：靶材利用率={原靶材质量（Kg）—溅射后靶材质量}/原靶材质量 注：①：磁控溅射靶材利用率稍低，电压要求低，电流会高，溅射率提高，增加生产效率，降低成本。 ②：靶材使用寿命结素之前必须及时更换新靶材，防止靶材周围物质发生溅射（金属箔片、连接片、阴极） 两种溅射技术的区别： ①：靶材利用率不同 ②：溅射腔室和阴极设计要求不同 ③：放电电流和放电电压不同 ④：溅射率不同：磁控溅射有更短的沉积时间，更高的沉积量和更短沉积周期。四川真空镀膜设备有用吗真空镀膜设备真空度多少？

【真空镀膜设备之真空的测量】： 真空计： A、热偶规、皮拉尼规、对流规： 用来测粗真空的真空计，从大气到1E&5Torr，精度一般在10%，皮拉尼规精度高的可到5%, 反应较慢，受温度变化的影响较大。 B、离子规： 用来测高真空或超高真空的真空计，热灯丝的离子规测量范围一般从1E&4到1E&9Torr，特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr，精度在10%~20%，灯丝在工作时遇到大气会烧毁；冷阴极的离子规一般可以测到1E&11Torr，精度在20%~50%，特别是超高真空下测量精度很差，需要高压电源，探头内有磁铁，使用时不能用于某些无磁的场合。 C、电容式压力计： 探头Zui大压力从25000Torr到0.1Torr，动态范围大约104范围，比如，1Torr量程的Zui低是5E&4Torr，通常精度在读数的0.25%，可以高到0.15%。 D、宽量程真空计： 皮拉尼规和热灯丝离子规的组合，两个规可以自动切换，在低真空时切换到皮拉尼规，高真空时可切换到离子规。

【真空镀膜真空溅射法】： 真空溅射法是物理qi相沉积法中的后起之秀。随着高纯靶材料和高纯气体制备技术的发展，溅射镀膜技术飞速发展，在多元合金薄膜的制备方面显示出独到之处。其原理为：稀薄的空气在异常辉光放电产生的等离子体在电场的作用下，对阴极靶材料表面进行轰击，把靶材料表面的分子、原子、离子及电子等溅射出来，被溅射出来的粒子带有一定的动能，沿一定的方法射向基体表面，在基体表面形成镀层。特点为：镀膜层与基材的结合力强；镀膜层致密、均匀；设备简单，操作方便，容易控制。 主要的溅射方法有直流溅射、射频溅射、磁控溅射等。目前应用较多的是磁控溅射法。真空镀膜设备机组介绍。

【真空镀膜改善基片与膜的结合】： 1. 加强去油去污处理，如是超声波清洗，重点考虑去油，若是手擦，考虑先用碳酸钙粉擦再清擦； 2. 加强镀前烘烤； 3. 有条件时，机组安装冷凝及（POLYCOLD）； 4. 提高真空度； 5. 有条件时，机组安装离子源； 6. 膜料的去潮； 7. 保持工作环境的干燥； 8. 对于多层膜，在膜系设计时，就要考虑第yi层膜与基片的匹配； 9. 采取研磨液复新去除镜片表面的腐蚀层； 10. 有时候适当降低蒸发速率对膜强度的提高有帮助，对提高膜表面光滑度有积极意义。 真空镀膜设备升级改造。河南北仑真空镀膜设备

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【真空镀膜设备的分类】： 这个问题如果在十年之前，其实是很容易回答的，就是两个大类，物理沉积设备和化学沉积设备。现在这样回答也是没错的，但现在再这样回答就没办法把事情说清楚了，所以从应用领域上可以分成以下几类： 传统光学器件（镜片，滤光片）所用的镀膜设备：单腔体或多腔体蒸发式镀膜设备，溅射式镀膜设备。 新材料领域的柔性设备：卷对卷柔性镀膜设备。 光通讯行业：离子束溅射镀膜设备。 半导体及相似工艺：化学气相沉积设备。 功能膜：多弧离子镀设备，溅射设备，蒸发设备 玻璃工艺：溅射式连续线 其余的就得归到“工艺定制设备”这个范围里面了，例如车灯镀膜设备，太阳能的共蒸发设备，光纤镀膜设备，太阳能管设备等等 四川真空镀膜设备有用吗