企业商机
射频离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 射频离子源
射频离子源企业商机

    且多个叶片2的尾端22伸入中空结构11围合的区域中以形成可供离子束穿过的光阑3,驱动机构可驱动叶片2的尾端22相对叶片排布形成的圆周的中心运动,从而使得叶片2围合形成的光阑3的大小得以调节,即对离子束的束径进行调节。作为一种推荐实施例,叶片2的首端21与底座1的对应端面转动连接,叶片2的尾端22沿叶片2排布形成的圆周周向依次叠放并斜向伸入中空结构11所在区域以形成光阑3,驱动机构包括滑环41及驱动滑环41绕滑环41中心旋转的驱动组件,滑环41位于多个叶片2的远离底座1的一侧并与多个叶片2排布形成的圆周同轴设置,滑环41旋转时带动叶片2的尾端22绕叶片2的首端21转动以实现光阑3大小调节,也即滑环41旋转时,由于叶片2的首端21与底座1一端端面转动连接,叶片2的首端21相对叶片2围合形成的圆周的中心距离不会变化,而叶片2的尾端22则会相对于叶片2排布形成的圆周的中心进行运动,从而使叶片2的尾端22相交围合形成的光阑3大小变化。并且为了使光阑3的形状更趋近于圆形,叶片2具有朝向叶片2排布形成的圆周的圆弧方向同向弯曲的圆弧形状,同时,当叶片2的数量越多时,光阑3的形状更趋近于圆形。具体而言,底座1的对应端的端面上设有多个呈圆周布置的定位孔12。国产真空镀膜机哪家好?山东离子束清洗射频离子源专业生产

【真空镀膜设备的正常工作条件】1、环境温度:10~30℃2、相对湿度:不da于70%3、冷却水进水温度:不高于25℃4、冷却水质:城市自来水或质量相当的水5、供电电压:380V,三相50Hz或220V,单相50Hz(由所用电器需要而定),电压波动范围342~399V或198V~231V,频率波动范围49~51Hz;6、设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。7、设备周围环境整洁、空气清洁,不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。此外,真空镀膜设备所在实验室或车间应保持清洁卫生。地面为水磨石或木质涂漆地面、无尘埃。为防止机械泵工作时排出的气体对实验室环境的污染,可采用在泵的排气口上面装设排气管道(金属、橡胶管)的办法,将气体排出室外。湖南真空镀膜射频离子源价格真空镀膜机的产业集群。

【真空镀膜机电控柜的操作】1、玻璃真空镀膜机开水泵、气源2、开总电源3、开维持泵、真空计电源,真空计档位置V1位置,等待其值小于10后,再进入下一步操作。约需5分钟。4、开机械泵、予抽,开涡轮分子泵电源、启动,真空计开关换到V2位置,抽到小于2为止,约需20分钟。5、观察涡轮分子泵读数到达250以后,关予抽,开前机和高阀继续抽真空,抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头,观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子qiang电源。

【射频离子源简介】:国泰真空射频离子源GTRF-17和GTRF-23,主要用于IR-Cut、滤光片等精密光学镀膜的离子束辅助沉积和离子束清洗等,是公司技术团队全自主研发近3年时间研发出的国产射频离子源,属于国内大直径射频离子源。打破了国外制造商长期对国产镀膜行业的技术封锁,同时也激励了国内的同行制造业。离子源设备能促进光电产业升级,在国内也是一项“卡脖子”技术。具有能量高、热辐射低、工作时间长、对膜层污染小、能量分布均匀性好、适应多种工作气体的特点。真空镀膜机的操作视频。

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为:基材、底漆、真空膜层、面漆,因靶材理化特性直接决定膜层的特性,根据膜层的导电与否,可分为导电真空镀膜(VM)和不导电真空镀膜(NCVM)两种。VM:一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理,其表面效果与水电镀相媲美,靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM:具有金属质感、透明,但不导电,一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理,其表面效果为水电镀不可取代,靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上,抽的速度会显然变慢,当操作不当应拆去联结水管,卸下电炉盘,将一级喷嘴拧出,先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍,再用洗衣粉兑水清洗一遍,然后用清水彻底清洗干净,待水份挥发干以后,装好泵胆,加入新扩散泵油,并装回机体,接好水管,装好电炉盘,便可以重新开机。在重新开机前,要注意检漏工作。首先启动维持泵,关好da门,数分钟后,观察扩散泵部分真空度是否达到标准,否则要进行检漏。检查联接处的密封圈是否正常。真空镀膜机的培训资料。安徽射频离子源生产厂家

真空镀膜机抽真空步骤。山东离子束清洗射频离子源专业生产

【真空镀膜机冲洗工艺之反应气体冲洗】这种方法特别适用于da型超高不锈钢真空系统的内部洗(去除碳氢化合物污染)。通常对于某些da型超高真空系统的真空室和真空元件,为了获得原子态的清洁表面,消除其表面污染的标准方法是化学清洗,真空炉焙烧、辉光放电清洗及原能烘烤真空系统等方法。以上的清洗和除气方法常用于真空系统安装前及装配期间。在真空系统安装后(或系统运行后),由于真空系统内的各种零部件已经被固定,这时对它们进行除气处理就很困难,一旦系统受到(偶然)污染(主要是da原子数的分子如碳氢化合物的污染),通常要拆卸后重新处理再安装.而用反应气体工艺,可以进行原位在线除气处理.有效地除去不锈钢真空室内的碳氢化合物的污染.其清洗机理:在系统中引述氧化性气体(O2、N0)和还原性气体(H2、NH3)对金属表面进行化学反应清洗,消除污染,以便获得原子态的清洁金属表面。表面氧化/还原的速率取决于污染的情况及金属表面的材质,表面反应速率的da小通过调整反应气体的压力和温度来控制。对于每一种基材而言,精确的参数要通过实验来确定.对于不同的结晶取向,这些参数是不同的。山东离子束清洗射频离子源专业生产

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