湖南光学镀膜机操作学习资料

    【光学薄膜新进展之太阳能选择性吸收膜和高功率激光膜】太阳能选择性吸收膜：根据黑体辐射通用曲线可以求得太阳约有98%的辐射能分布在～，其中有90%的辐射能位于～、近红外范围。随着人们对太阳能的充分利用，用于太阳能光热转换的太阳能选择性吸收膜具有很大的研究价值和广fan的应用前景，引起科研人员的极大兴趣。高功率激光膜：准分子激光正在广fan应用于分析化学、光谱学、半导体工艺、激光泵浦、激光聚变、光化学、医学和空间技术等领域。紫外反射镜是准分子激光器的重要光学元件，但所选用的膜料比可见光区和近红外区膜料非常有限，制备工艺特别复杂。而金属反射镜已经不能满足技术的要求，所以必须研制低损耗的全介质反射镜。 光学镀膜机为什么会越来越慢？湖南光学镀膜机操作学习资料

【光学镀膜之什么是蒸发镀】通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。 薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。中国台湾光学镀膜机各部位介绍光学镀膜机的工作原理和构成。

【光学镀膜的好处】光学镀膜由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广fan用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。 主要的光学薄膜器件包括反射膜、减反射膜、偏振膜、干涉滤光片和分光镜等等。它们在国民经济和**建设中得到了广 fan的应用，获得了科学技术工作者的日益重视。例如采用减反射膜后可使复杂的光学镜头的光通量损失成十倍地减小，采用高反射比的反射镜可使激光器的输出功率成倍提高，利用光学薄膜可提高硅光电池的效率和稳定性。

    （一）电子枪头电子枪的***头安装好坏直接影响到工作的正常进行，其发生的故障有90%同电子枪***头有关。电子枪***头有使用一段时间后，会因为组件的污染而影响电子束的成型及功率，需要拆卸清洁。（二）坩埚的维护拆坩埚之前，请先关掉水路用压缩空气把电子枪冷却管内的水分尽可能吹干净。蒸发源装卸顺序：1.拆落两条冷却水连接管。2.拧出电子枪***头连接高压线两个螺丝。3.拆坩埚传动连接座、联轴器。4.拧落蒸发源四个固定螺丝。5.把蒸发源搬运到一个稳定平整的工作台。6.拆落坩埚盖板四个螺丝，取下盖板打磨干净。7.检查盖板上面两个密封圈是否需要更换。8.把蒸发源反转过来倒置，用木板垫住坩埚部分。9.拧下固定坩埚转动四个螺丝10.抬起蒸发源，取下坩埚11.把坩埚倒置，拧下坩埚底盖的八个螺丝，清洗干净里面的污垢，检查是否需要近密封圈。12.拧下导水管的一个螺丝13.拧下坩埚转动机构与坩埚盖板连接的四个螺丝14.拨出坩埚转动轴，检查转动轴的油封是否需要换件15.把坩埚清洁干净安装。安装按上面的倒过顺序来进行。（三）导磁板及扫描圈的维护导磁板及永磁铁是不需要经常拆卸维护，如需拆卸，请注意永磁铁的极向，及导磁板的方向。线圈由于安装的空间密实。 光学镀膜机的升级改造。

【光学薄膜的特点】表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割；膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的；可以是透明介质，也可以是吸收介质；可以是法向均匀的，也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为：制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射；膜层之间的相互渗透形成扩散界面；由于膜层的生长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性；膜层具有复杂的时间效应。不同物质对光有不同的反射、吸收、透射性能，光学薄膜就是利用材料对光的这种性能，并根据实际需要制造的。真空镀膜机真空四个阶段。山西好用的光学镀膜机

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【光学真空镀膜之电子qiang蒸镀系统注意事项】 光学真空镀膜机电子qiang蒸镀法比传统热电阻式加热法的热转换效率高而秏能少,对蒸镀材料的选择方面受限较少。以纯元素之蒸镀而言,电阻式蒸镀受限于加热温度,多半只从事铝、铬、金、银等少数几种薄膜，电子束蒸镀则可制镀高熔点材料如钨、钼等金属和活性甚强的钛、铌等金属,即便是很难使用溅镀技术制备的磁性材料如铁、钴、镍等金属,亦能够蒸镀出品质良好的薄膜。为了顾及薄膜纯度,在操作技巧上纯元素之蒸镀通常采取高真空度与高蒸镀速率的镀膜条件。化合物材料如氧化物、硫化物、氮化物及氟化物等皆可使用电子qiang蒸镀方式,部份材料在被电子束加热蒸发过程中会因高热而发生解离现象,这也是蒸镀法的主要缺点,通常是采用反应式蒸镀方式解决,为了确保薄膜形成时缺乏的部份能利用基板高温在反应过程将其补足,在操作上镀膜速率必须适切地降低。部分属于绝缘性的化合物在连续被电子轰击时会有负电荷累积问题,使得后续电子受负电位排斥而无法完全抵达待镀材料表面,因此坩埚座在电路设计上是使其呈接地电位,以协助累积之负电荷顺利导出,这在小型坩埚是相当有效,但对大型坩埚则很难避免有些许镀膜速率不稳定情形。湖南光学镀膜机操作学习资料

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