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【光学镀膜之蒸发源的类型和特点】 ①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质 。电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 ②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。 ③电子束加热源：用电子束轰击材料使其蒸发。适用于蒸发温度较高（不低于2000℃）的材料。 特点：能在金属、半导体、绝缘体甚至塑料、纸张、织物表面上沉积金属、半导体、绝缘体、不同成分比的合金、化合物及部分有基聚合物等的薄膜，其适用范围之广是其它方法无法与之比拟的。可以不同的沉积速率、不同的基板温度和不同的蒸气分子入射角蒸镀成膜，因而可得到不同显微结构和结晶形态（单晶、多晶或非晶等）的薄膜； 薄膜的纯度很高；易于在线检测和控制薄膜的厚度与成分；厚度控制精度*高可达单分子层量级。光学镀膜机可以制造出具有高透过率或低透过率的薄膜，可以用于制造滤光片或光学器件。黑龙江光学镀膜机阔算磅

    【光学薄膜新进展之太阳能选择性吸收膜和高功率激光膜】太阳能选择性吸收膜：根据黑体辐射通用曲线可以求得太阳约有98%的辐射能分布在～，其中有90%的辐射能位于～、近红外范围。随着人们对太阳能的充分利用，用于太阳能光热转换的太阳能选择性吸收膜具有很大的研究价值和广fan的应用前景，引起科研人员的极大兴趣。高功率激光膜：准分子激光正在广fan应用于分析化学、光谱学、半导体工艺、激光泵浦、激光聚变、光化学、医学和空间技术等领域。紫外反射镜是准分子激光器的重要光学元件，但所选用的膜料比可见光区和近红外区膜料非常有限，制备工艺特别复杂。而金属反射镜已经不能满足技术的要求，所以必须研制低损耗的全介质反射镜。 辽宁光学镀膜机扩机泵的工作原理光学镀膜机真空度多少？

    【镀膜玻璃的主要产生法之化学沉积法】化学气相沉积(chemicalvapourdeposition,CVD)是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物或单质气体，供给基板，利用气相反应，在基板表面上反应沉积出所需固体薄膜的工艺技术，该技术已成为镀膜玻璃生产的主要制备技术。在线CVD法镀膜技术，是在浮法玻璃生产过程中，连续沉积化合物薄膜的CVD工艺技术，是目前世界上比较先进的镀膜玻璃生产技术。它是以洁净、高速牵引(8-15m/min)、高温(600℃)的浮法玻璃为沉积衬底。换言之，薄膜沉积前，玻璃衬底即将离开锡槽但尚未进人退火窑，且未被处理净化。国外*早采用在线CVD法连续沉积Sn02薄膜，而我国*早是用该法生产硅质镀膜玻璃。目前，我国已基本掌握了在线CVD法镀膜技术，能够稳定地生产硅质镀膜玻璃、在线Low-E玻璃和在线自洁净玻璃。在线镀膜玻璃生产线包括：原料→熔窑→锡槽→退火窑→切割→装箱。

    【光学薄膜的研究新进展之金刚石薄膜及类金刚石薄膜】金刚石被认为是自然界中较硬的物质。在自然界中，碳以3种同位素异型体的形式存在，非晶态的炭黑、六方片状结构的石墨和立方体的金刚石。金刚石薄膜具有高硬度、高密度、热导率高、全波段透光率高、高绝缘、抗辐射、化学惰性强和耐高温、弹性模量大，摩擦系数jin为。金刚石薄膜的高热导率、高摩擦系数和良好的透光性也使其常作为导弹的整流罩材料。类金刚石(diamond-likecarbon，DLC)薄膜是碳的一种非晶态，它含有大量的sp3键，硬度超过金刚石硬度20%的绝缘硬质无定形碳膜，被称为类金刚石膜，类金刚石膜具有高硬度、高电阻率、热传导率高、化学惰性强、良好的光学性能等，同时又具有自身独特摩擦学特性的非晶碳膜。随着人们研究的深入，人们发现类金刚石膜具有很大的研究价值和广fan的应用前景，引起学术界极大兴趣。美国已经将类金刚石薄膜材料作为国家21世纪的战略材料之一。 光学镀膜机可以制造出具有高耐磨性或高耐腐蚀性的薄膜，可以用于制造工业用途的光学器件。

【光学镀膜为什么需要镀减反射膜之镜面反射和“鬼影”】1）镜面反射：光线通过镜片的前后表面时，不但会产生折射，还会产生反射。这种在镜片前表面产生的反射光会使别人看戴镜者眼睛时，看到的却是镜片表面一片白光。拍照时，这种反光还会严重影响戴镜者的美观。 2）"鬼影"：眼镜光学理论认为眼镜片屈光力会使所视物体在戴镜者的远点形成一个清晰的像，也可以解释为所视物的光线通过镜片发生偏折并聚集于视网膜上，形成像点。但是由于屈光镜片的前后表面的曲率不同，并且存在一定量的反射光，它们之间会产生内反射光。内反射光会在远点球面附近产生虚像，也就是在视网膜的像点附近产生虚像点。这些虚像点会影响视物的清晰度和舒适性。光学镀膜机品牌有很多？广东光学镀膜机生产

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    【光学镀膜之何为化学气相蒸镀，主要的优缺点有哪些】化学气相蒸镀乃使用一种或多种气体，在一加热的固体基材上发生化学反应，并镀上一层固态薄膜。优点:(1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如热喷覆(2)沉积速率快，大气CVD可以达到1μm/min(3)与PVD比较的话。化学量论组成或合金的镀膜较容易达成(4)镀膜的成份多样化，如金属、非金属、半导体、光电材料、钻石薄膜等等(5)可以在复杂形状的基材镀膜，甚至渗入多孔的陶瓷(6)厚度的均匀性良好，低压CVD甚至可以同时镀数十芯片缺点:(1)热力学及化学反应机制不易了解或不甚了解(2)需要在高温下进行，有些基材不能承受，甚至和镀膜产生作用(3)反应气体可能具腐蚀性、毒性或baozha性，处理时需小心(4)反应生成物可能残余在镀膜上，成为杂质。 黑龙江光学镀膜机阔算磅

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