辽宁射频离子源制造生产厂家

【真空镀膜机常见故障之旋片泵故障及处理方法】1、未做保养导致灰尘太多。真空镀膜设备在镀膜过程中容易产生da量灰尘，这些灰尘伴随空气容易混杂到泵油中，时间久了容易对转子及泵腔造成磨损及破坏。处理方法：如果灰尘不多，可以油过滤系统除掉灰尘；如果灰尘过多可以用除尘器配合油过滤系统除掉灰尘。2、旋片式真空泵冒烟和喷油：指旋片式真空泵在运转中排气口冒烟或者喷油，冒烟。处理方法：冒烟阐明泵的进气口外，包括管道、阀门、容器有修理的状况。3、喷油，阐明进气口外有da量的漏点，以至是进气口暴露da气。处理方法：封住泵的进气口使泵运转，假如不喷油的话，阐明有漏点；排气阀片损坏，检查排气阀片能否损坏，改换坏的排气阀片。4、被抽气体的温度可能过高。处理方法：降低被抽气体的温度，或能够加一个相应的换热器。5、配合的间隙改da。这是长期被抽气体内含有粉尘等，形成旋片和定子之间磨损后的间隙增da。处理方法：检查间隙能否过da，改换新的零部件。6、泵内的油路不通或者不畅，泵腔内没有坚持一定量的油量。处理方法：检查油路能否畅通，并加同类型的真空泵油。真空镀膜机怎么保养？辽宁射频离子源制造生产厂家

【真空镀膜机详细资料】系统概述真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。常用于对半导体、光伏、电子、精密光学等行业的纳米级表面处理。系统原理通过电子枪发射高压电子轰击坩埚中的待镀靶材，使其在高真空下蒸发并沉积在被镀基片上以获得镀膜。系统配置*自动化控制器:e-ControlPLC，是控制系统的硬件平台。人机界面硬件:TPC1503工业级15寸触摸式平板电脑，稳定可靠。人机界面软件:NETSCADA组态软件开发平台，提供真空镀膜机的控制和监视。广东离子束清洗射频离子源厂家真空镀膜机机组是怎样的？

    且多个叶片2的尾端22伸入中空结构11围合的区域中以形成可供离子束穿过的光阑3，驱动机构可驱动叶片2的尾端22相对叶片排布形成的圆周的中心运动，从而使得叶片2围合形成的光阑3的大小得以调节，即对离子束的束径进行调节。作为一种推荐实施例，叶片2的首端21与底座1的对应端面转动连接，叶片2的尾端22沿叶片2排布形成的圆周周向依次叠放并斜向伸入中空结构11所在区域以形成光阑3，驱动机构包括滑环41及驱动滑环41绕滑环41中心旋转的驱动组件，滑环41位于多个叶片2的远离底座1的一侧并与多个叶片2排布形成的圆周同轴设置，滑环41旋转时带动叶片2的尾端22绕叶片2的首端21转动以实现光阑3大小调节，也即滑环41旋转时，由于叶片2的首端21与底座1一端端面转动连接，叶片2的首端21相对叶片2围合形成的圆周的中心距离不会变化，而叶片2的尾端22则会相对于叶片2排布形成的圆周的中心进行运动，从而使叶片2的尾端22相交围合形成的光阑3大小变化。并且为了使光阑3的形状更趋近于圆形，叶片2具有朝向叶片2排布形成的圆周的圆弧方向同向弯曲的圆弧形状，同时，当叶片2的数量越多时，光阑3的形状更趋近于圆形。具体而言，底座1的对应端的端面上设有多个呈圆周布置的定位孔12。

【真空镀膜机操作工艺流程】首先开水、电、气→总电源→开维持泵→开扩散泵加热→开粗抽泵→开预抽阀→关预抽阀→开粗抽阀→开罗茨泵→如有离子轰击，开轰击30秒，关轰击→开真空计→当真空到，关粗抽阀→开前置阀→开精抽阀，当真空达到7x10-3pa，开转架→开始镀膜操作→镀膜完毕后，关闭真空计、离子源→关精抽阀，前置阀→关罗茨泵→开抽气阀，取件→上料，反复开始操作。特别注意：1.设备停用时，镀膜室要保持真空状态，减少内表面气体的吸附，防止氧化。2.冷却水通道场下才能对扩散泵进行加热，未经充分冷却的泵不得与da气接触，防止氧化。3.要保证机器内扩散泵和机械泵的油定期检查和更换。4.设备运行中遇有停电或其它事故发生，须先停扩散泵，关精抽阀，前置阀和真空计。5.产品做完下班后，关了扩散泵后须待温度降低至60℃后才能关维持泵。真空镀膜机为什么会越来越慢？

【真空镀膜设备设计原则及常用技术指标】真空设备设计原则：(1)先功能，后结构。先给出指标参数、生产要求、功能；(2)先核xin后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距；(3)先局部，后整体。再由整体，定局部。(4)先设计，后校核。由粗到细。镀膜机常用技术指标：镀膜方法：CVD，PVD（蒸发、溅射、离子镀、复合镀）；被镀工件的形状、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生产方式:连续、半连续、周期式。生产周期。生产量。生产速率。技术参数;设备极限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作气氛;漏率、抽空时间、恢复真空时间。工作(烘烤)温度;(热处理炉、冻干机)膜厚不均匀程度;功率;高电压。真空镀膜机参数怎么调？辽宁离子束辅助沉积射频离子源怎么选

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【真空镀膜之离子束溅射镀膜】离子束溅射沉积法在离子源内由惰性气体(通常为氩)产生具有较高能量的离子轰击靶材料，把靶材料沉积到基片上的方法。离子束溅射沉积法的一da优点是基片相对于离子源和靶是du立的，它的温度可以单独控制。基片通常接地位，它和靶与高频电路无关，不会象阴极溅射镀膜那样受到高能电子的轰击，因而温度较低。所以只要配置一台较好的恒温循环器(如HX1050型，控温范围为-10℃~50℃，精度≤0。5℃)，实现对样品台的单独控温，就可以根据不同样品的要求以及薄膜生长不同阶段的温度需要进行适当调节。根据现有离子束溅射设备的构造，设计、加工了专门的金属样品架，放上样品后盖上金属压片，用螺丝紧密地固定在镀膜腔体的样品台上，可使样品和控温的样品台有良好的热接触。并在样品架中放置了一个测温铂电阻，用螺丝把金属压片连同其下的铂电阻一起固定压紧，再用导线引出与高精度的万用表相连，以监测薄膜生长过程中的样品温度。辽宁射频离子源制造生产厂家

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