湖南AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源专业生产

【真空镀膜设备捡漏需注意】真空镀膜设备检漏是保证真空镀膜设备真空度的一项检查措施，简称检漏，真空度的高低是直接影响到镀膜效果的，所以检漏是必不可少的。一、要确认漏气到底的虚漏还是实漏。因为工件材料加热后都会在不同程度上产生气体，有可能误以为是从外部流进的气体，这就是虚漏，要排除这种情况。二、测试好真空室的气体密封性能。确保气密性能符合要求。三、检查漏孔的da小，形状、位置，漏气的速度，制备出可解决方案并实施。四、确定检测仪器的小可检漏率和检漏灵敏性，以da范围的检测出漏气情况，避免一些漏孔被忽略，提高检漏的准确性。五、把握检漏仪器的反应时间和消除时间。把时间掌握好，保证检漏仪器工作到位，时间少了，检漏效果肯定差，时间长了，浪费检漏气体和人工电费。六、还要避免漏孔堵塞。有时由于操作失误，检漏过程中，一些灰尘或液体等把漏孔堵塞了，以为在该位置没有漏孔，但当这些堵塞物由于内外压强差异提高或其他原因使漏孔不堵了，那漏气还是存在的。为真空镀膜设备做好检漏工作是很重要的，造成真空度下降的原因多种多样，我们要一一的解决这些原因，稳定镀膜的效果。真空镀膜机的操作培训。湖南AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源专业生产

【真空镀膜之离子束溅射镀膜】离子束溅射沉积法在离子源内由惰性气体(通常为氩)产生具有较高能量的离子轰击靶材料，把靶材料沉积到基片上的方法。离子束溅射沉积法的一da优点是基片相对于离子源和靶是du立的，它的温度可以单独控制。基片通常接地位，它和靶与高频电路无关，不会象阴极溅射镀膜那样受到高能电子的轰击，因而温度较低。所以只要配置一台较好的恒温循环器(如HX1050型，控温范围为-10℃~50℃，精度≤0。5℃)，实现对样品台的单独控温，就可以根据不同样品的要求以及薄膜生长不同阶段的温度需要进行适当调节。根据现有离子束溅射设备的构造，设计、加工了专门的金属样品架，放上样品后盖上金属压片，用螺丝紧密地固定在镀膜腔体的样品台上，可使样品和控温的样品台有良好的热接触。并在样品架中放置了一个测温铂电阻，用螺丝把金属压片连同其下的铂电阻一起固定压紧，再用导线引出与高精度的万用表相连，以监测薄膜生长过程中的样品温度。云南光学薄膜空心阴极霍尔离子源专业生产真空镀膜机品牌有很多，你如何选择？

【真空镀膜机常见故障之旋片泵故障及处理方法】1、未做保养导致灰尘太多。真空镀膜设备在镀膜过程中容易产生da量灰尘，这些灰尘伴随空气容易混杂到泵油中，时间久了容易对转子及泵腔造成磨损及破坏。处理方法：如果灰尘不多，可以油过滤系统除掉灰尘；如果灰尘过多可以用除尘器配合油过滤系统除掉灰尘。2、旋片式真空泵冒烟和喷油：指旋片式真空泵在运转中排气口冒烟或者喷油，冒烟。处理方法：冒烟阐明泵的进气口外，包括管道、阀门、容器有修理的状况。3、喷油，阐明进气口外有da量的漏点，以至是进气口暴露da气。处理方法：封住泵的进气口使泵运转，假如不喷油的话，阐明有漏点；排气阀片损坏，检查排气阀片能否损坏，改换坏的排气阀片。4、被抽气体的温度可能过高。处理方法：降低被抽气体的温度，或能够加一个相应的换热器。5、配合的间隙改da。这是长期被抽气体内含有粉尘等，形成旋片和定子之间磨损后的间隙增da。处理方法：检查间隙能否过da，改换新的零部件。6、泵内的油路不通或者不畅，泵腔内没有坚持一定量的油量。处理方法：检查油路能否畅通，并加同类型的真空泵油。

【真空镀膜机清洗工艺之紫外线辐照清洗】利用紫外辐照来分解表面上的碳氢化合物。例如，在空气中照射15h就可产生清洁的玻璃表面。如果把适当预清洗的表面放在一个产生臭氧的紫外线源中．要不了几分钟就可以形成清洁表面（工艺清洁)。这表明臭氧的存在增加了清洁速率。其清洗机理是：在紫外线照射下，污物分子受激并离解，而臭氧的生成和存在产生高活性的原子态氧。受激的污物分子和由污物离解产生的自由基与原子态氧作用．形成较简单易挥发分子．如H203、CO2和N2．其反应速率随温度的增加而增加。红外真空镀膜机制造商。

【如何减少真空镀膜的灰尘】1、使用的源材料要符合必要的纯度要求。2、样品取出后放置环境要注意清洁的问题。3、镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理。4、清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求。5、工作人员有专门的服装，操作要戴手套、脚套等。6、适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。7、技术上明确允许的da颗粒尺寸和单位面积颗粒物的数量的上限da致是多少。8、室内空气流动性低、地面干净，如果是裸露的水泥地，需要覆盖处理。墙壁、屋顶不能使用一般的灰质涂料粉刷。离子真空镀膜机是什么？陕西光学薄膜空心阴极霍尔离子源厂家

真空镀膜机日常怎么维护？湖南AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源专业生产

【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材须以射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属＜5W/cm2。湖南AR/IR镀膜空心阴极霍尔离子源专业生产

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