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射频离子源基本参数
  • 品牌
  • 锦成国泰
  • 型号
  • 射频离子源
射频离子源企业商机

【真空镀膜技术专业词汇】真空镀膜vacuumcoating:在处于真空下的基片上制取膜层的一种方法。基片substrate:膜层承受体。试验基片testingsubstrate:在镀膜开始、镀膜过程中或镀膜结束后用作测量和(或)试验的基片。镀膜材料coatingmaterial:用来制取膜层的原材料。蒸发材料evaporationmaterial:在真空蒸发中用来蒸发的镀膜材料。溅射材料sputteringmaterial:有真空溅射中用来溅射的镀膜材料。膜层材料(膜层材质)filmmaterial:组成膜层的材料。蒸发速率evaporationrate:在给定时间间隔内,蒸发出来的材料量,除以该时间间隔溅射速率sputteringrate:在给定时间间隔内,溅射出来的材料量,除以该时间间隔。沉积速率depositionrate:在给定时间间隔内,沉积在基片上的材料量,除以该时间间隔和基片表面积。镀膜角度coatingangle:入射到基片上的粒子方向与被镀表面法线之间的夹角。真空镀膜机的升级改造。四川真空镀膜射频离子源生产厂家

国泰真空GTRF-17/GTRF-23射频离子源直流源网灭弧采用特殊保护方式,可以在有效的保护网板的时候不停机,不会导致客户产品报废。栅网采用独特的加工工艺,确保栅网之间的曲率和平行度,网孔的中心距也做精密的调整,使得投射出来的离子束更均匀。射频中和器采用L型接法匹配:匹配速度快,效率高,点火更优。源头和中和器结构经常拆解部分的内六角进行电镀及消气处理,防止拆卸过程卡死,备件及耗品重复利用率高。射频电源及控制部分单独装配在一个电柜内,RF线缆做防辐射和泄漏处理,避免对通讯、控制信号的干扰,同时也做良好的散热处理。黑龙江真空镀膜射频离子源怎么选真空镀膜机故障维修技巧有哪些?

【如何减少真空镀膜的灰尘】1、使用的源材料要符合必要的纯度要求。2、样品取出后放置环境要注意清洁的问题。3、镀膜一段时间后,真空室内壁必须要清洁处理。4、清洗衬底材料,必须要做到严格合乎工艺要求。5、工作人员有专门的服装,操作要戴手套、脚套等。6、适当的增加环境的湿度,有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。7、技术上明确允许的较da颗粒尺寸和单位面积颗粒物的数量的上限da致是多少。8、室内空气流动性低、地面干净,如果是裸露的水泥地,需要覆盖处理。墙壁、屋顶不能使用一般的灰质涂料粉刷。

【真空镀膜机清洗工艺之真空加热清洗】将工件放置于常压或真空中加热.促使其表面上的挥发杂质蒸发来达到清洗的目的,这种方法的清洗效果与工件的环境压力、在真空中保留时间的长短、加热温度、污染物的类型及工件材料有关。其原理是加热工件.促使其表面吸附的水分子和各种碳氢化合物分子的解吸作用增强。解吸增强的程度与温度有关。在超高真空下,为了得到原子级清洁表面,加热温度必高于450度才行.加热清洗方法特别有效。但有时,这种处理方法也会产生副作用。由于加热的结果,可能发生某些碳氢化合物聚合成较da的团粒,并同时分解成碳渣。真空镀膜机的培训资料。

【真空镀膜机之卷绕机构设计中应考虑的问题】①提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度,它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min,现在也只有80m/min~120m/min,在国外日本的EW系列产品中,其卷绕速度已达到300m/min,德国L.H公司生产的镀膜机已达到600m/min,可见随着镀膜技术的发展,卷绕速度有待提高。②带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要,因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定,才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜(如电容器膜)尤为重要。③带状基材的跑偏和起褶问题。随着卷绕速度的提高,带状基材在卷绕镀膜过程中,起褶和发生偏斜,严重时会造成基材的断裂,使生产中断,既影响生产效率,又浪费材料。因此,在卷绕机构的设计中应充分考虑这一问题。真空镀膜机参数怎么调?黑龙江光学薄膜射频离子源生产厂家

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【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面,使其溅射出进入气相,可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快,以Cu,Au,Ag等高,Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生,在10-1—10Pa真空度,在两极间加高压产生放电,正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材,而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜,即使高熔点材料也容易溅镀,但对非导体靶材须以射频(RF)或脉冲(pulse)溅射;且因导电性较差,溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属<5W/cm2。四川真空镀膜射频离子源生产厂家

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