【真空镀膜的膜层结构分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等树脂类均可成型真空电镀,要求底材为纯原料,电镀级别更佳,不可加再生材;底漆:UV底漆,对基材表面做预处理,为膜层的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情况可酌情加厚;膜层:靶材蒸发的结果,VM膜层可导电,NCVM镀层不导电,且抗干扰性效果很好,膜层厚度0.3um以下。面漆:面漆利用三基色原理可与色浆搭配出各类顏色,同時对真空膜层起保护作用,再加上UV、PU的表面装饰,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚。成都真空镀膜机的生产厂家。湖北离子束溅射射频离子源制造生产厂家
【真空镀膜设备设计原则及常用技术指标】真空设备设计原则:(1)先功能,后结构。先给出指标参数、生产要求、功能;(2)先核xin后辅助。由内向外。先决定靶尺寸、靶基距;(3)先局部,后整体。再由整体,定局部。(4)先设计,后校核。由粗到细。镀膜机常用技术指标:镀膜方法:CVD,PVD(蒸发、溅射、离子镀、复合镀);被镀工件的形状、尺寸;工件架尺寸;真空室尺寸;生产方式:连续、半连续、周期式。生产周期。生产量。生产速率。技术参数;设备极限真空度、工作本底真空度工作真空度、工作气氛;漏率、抽空时间、恢复真空时间。工作(烘烤)温度;(热处理炉、冻干机)膜厚不均匀程度;功率;高电压。湖北光学薄膜射频离子源批发价格国产真空镀膜机厂商推荐。
【真空镀膜机常见故障之旋片泵故障及处理方法】1、未做保养导致灰尘太多。真空镀膜设备在镀膜过程中容易产生da量灰尘,这些灰尘伴随空气容易混杂到泵油中,时间久了容易对转子及泵腔造成磨损及破坏。处理方法:如果灰尘不多,可以油过滤系统除掉灰尘;如果灰尘过多可以用除尘器配合油过滤系统除掉灰尘。2、旋片式真空泵冒烟和喷油:指旋片式真空泵在运转中排气口冒烟或者喷油,冒烟。处理方法:冒烟阐明泵的进气口外,包括管道、阀门、容器有修理的状况。3、喷油,阐明进气口外有da量的漏点,以至是进气口暴露da气。处理方法:封住泵的进气口使泵运转,假如不喷油的话,阐明有漏点;排气阀片损坏,检查排气阀片能否损坏,改换坏的排气阀片。4、被抽气体的温度可能过高。处理方法:降低被抽气体的温度,或能够加一个相应的换热器。5、配合的间隙改da。这是长期被抽气体内含有粉尘等,形成旋片和定子之间磨损后的间隙增da。处理方法:检查间隙能否过da,改换新的零部件。6、泵内的油路不通或者不畅,泵腔内没有坚持一定量的油量。处理方法:检查油路能否畅通,并加同类型的真空泵油。
直流电源电压纹波做了二次滤波处理,高压输出的纹波小于50mV,离子源束流的稳定性和重复性较好,镀膜的产品的折射率更稳定。国泰真空射频离子源采用通用的LC高频谐振原理,使用可调电容快速调谐,使整个负载阻抗匹配到50Ώ,从而使功率输出比较大,电离化效率比较高,调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位,并带锁止和记忆功能,以满足负载在不同的真空环境、不同国泰射频离子源采用通用的LC高频谐振原理,使用可调电容快速调谐,使整个负载阻抗匹配到50Ώ,从而使功率输出比较大,电离化效率比较高,调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位,并带锁止和记忆功能,以满足负载在不同的真空环境、不同阻抗快速点火。真空镀膜机的主要应用。
【真空镀膜机真空检漏方法之静态升压法】静态升压法属于真空检漏法中的一种,也是简单易行的真空系统检漏方法,因为它不需要用额外特殊的仪器或者特殊物质,通过测量规管就可以检测真空系统的总漏率,从而确定真空系统或部件是否满足工作要求。虽然胜在简单,但也存在局限。如果真空系统或容器存在漏孔的话,静态升压法是无法确定漏孔所在的。因此在确定系统是否有漏孔的同时还需要确定其位置的话,就需要配合其他方法来进行了。静态升压法的操作只要将被检容器抽空至相应的压力范围,再关闭阀门,隔离真空泵与真空容器,然后用真空计测量记录真空容器中压力随时间的变化过程,即可得出泄漏数据。《真空系统抽气达不到工作压力有哪些原因》中,螺杆真空泵厂家介绍的判断方法即是通过静态升压法实现的,比较方便。当然在应用过程中,要提高准确性就要减少其他因素干扰,需要在检测之前对容器进行净化清洗并烘干,或者用氮气进行冲洗。更严格一点可以在测量规管与容器之间设置冷阱,处理释放的可凝气体,而对可能存在的漏孔所漏进的空气不会造成影响。真空镀膜机的主要用途?贵州离子束辅助沉积射频离子源
真空镀膜机真空四个阶段。湖北离子束溅射射频离子源制造生产厂家
【真空镀膜之磁控溅射镀膜】磁控溅射对阴极溅射中电子使基片温度上升过快的缺点加以改良,形成了电场和磁场方向相互垂直的特点。在正交的电磁场的作用下,电子以摆线的方式沿着靶表面前进,从而xianzhu地延长了电子的运动路程,增加了同工作气体分子的碰撞几率,提高了电子的电离效率。由于电子每经过一次碰撞损失一部分动能,经过多次碰撞后,丧失了能量成为“终电子”进入离阴极靶面较远的弱电场区,后到达阳极时已经是能量消耗殆尽的低能电子,也就不再会使基片过热。同时高密度等离子体被束缚在靶面附近,又不与基片接触,这样电离产生的正离子能十分有效地轰击靶面,而基片又可免受等离子体的轰击,因而基片温度又可降低。在溅射仪起辉以后,并不把样品转入阳极的生长位置,也不通循环水,使样品随放电的热能而逐渐升高至一定温度后,才开始生长,以减小应力,获得牢固度较高的薄膜。另外在样品盘中还安装了温控仪(精度小于1℃)以监控薄膜生长过程中的样品温度。湖北离子束溅射射频离子源制造生产厂家
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