中高温气氛炉图片

超高真空烘箱广泛应用于航空、航天、电子、通讯等科研及生产单位。确定仪器仪表、电工产品、材料、零部件、设备等在低气压、高温单项或同时作用下的环境适应性与可靠性试验。下面为大家介绍一下超高真空烘箱的主要技术指标。1.工作室温度范围：常温～+300℃用户使用温度260℃2.温度波动度：±1.0℃（空载）；3.温度偏差：常压温度试验：常温～200℃时±2℃200～300℃时±5.0℃低气压高温综合试验:≤100℃时±2.0℃，100℃～200℃时±5.0℃200℃～300℃时±7.0℃气氛炉常见的用途有哪些？合肥真萍告诉您。中高温气氛炉图片

下面为大家介绍一下石墨盘真空烤盘炉的技术指标。1.使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；2.绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；3.加热元件：石墨加热棒；4.冷却方式：气冷+循环风冷降温；5.控温稳定度：2℃，具有PID参数自整定功能；6.炉膛温度均匀度：5℃（恒温1500℃）；7.气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；8.极限真空:10-3torr级；9.抽气速率：空载下，30min达到10-2torr10.升温功率：170kW；11.升温速率：15℃/min（空载）；12.降温速率：1450℃至80℃,240分钟13.腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高）宿迁气氛炉参考价格气氛炉的品牌哪个好？合肥真萍科技告诉您。

电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的技术参数。产品类型：数显微电脑控制电源电压：AC220V10％50Hz2％温控范围：室温+10℃-250℃温度分辨率：0.1℃温度波动率：≤0.5℃温度均匀度：≤2℃输入功率：500W内胆尺寸(mm)：W300D300H270外形尺寸(mm)：W580D480H440载物托架：2块定时范围：0-9999分钟

密封性为了控制炉内的气氛，维持炉内的压力，炉内工作空间始终要与外界空气隔绝，尽量避免漏气和吸入空气，故要求炉壳，砌体，炉门及所有外界连接零件如风扇，热电偶，辐射管，推拉料机等采用密封装置；气氛控制为了维持炉内的一定碳势，除了控制气氛成分的稳定性外，还要对炉内气氛进行自动控制。因此，需要设有各种控制仪表（如图1），以便对炉内气氛连续或定期测定并调整炉内的供气量。气氛炉的特点是在某一既定温度下，向炉内通入一定成分的人工制备气氛，以达到某种热处理的目的，如气体渗碳，碳氮共渗及光亮淬火，退火，正火等。气氛炉制作原理是什么呢？合肥真萍科技为您专业解答。

本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱，首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。气氛炉厂家直销定制，价格从优。制造气氛炉规格尺寸

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电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的箱体结构。1.工作室与外箱之间的保温材质是优良超细玻璃纤维保温棉，保温厚度：＞70mm，隔温效果好，高性能的绝缘结构。从内到外有内腔、外壳、超细玻璃纤维、铝制反射铝箔片、空气夹层，内胆热量损失少。内胆外箱及门胆结构独特，极大减少了内腔热量的外传。2.门与门框之间采用高性能密封材料及独特的橡胶密封结构，密封、耐高温性、抗老化性好。3.箱内风道采用双循环系统，不锈钢多翼式离心风轮及循环风道组成，置于箱体背部的电加热器热量通过侧面风道向前排出，经过干燥物后再被背部的离心风轮吸入，形成合理的风道，能使热气充分对流，使箱内温度相当大限度达到均匀。提高了空气流量加热的能力，大幅改善了干燥箱的温度均匀性。4.加热器用不锈钢电加热管，升温快，寿命长。中高温气氛炉图片

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