工业烤箱图片

HMDS预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。工业烤箱的优点体现在哪？工业烤箱图片

工业烤箱设备的热风循环系统功能非常强大，其是由三部分组成的，分别为电热器、送风马达和风轮，工作时，送风马达带动风轮将冷风送出，冷风再经过电热设备的加热，经风道进入到工业烤箱设备的烘箱工作室。工业烤箱设备在工作时，大家可以通过仪表和感温器来得到工业烤箱设备内的温度，再通过控制系统来操作。工业烤箱设备的热风循环加热方式，有着更好的气体流动性，可以使物料的干燥速度加快。由于在工业烤箱设备在开关门运送物料的过程中，温度会受到一定的影响而发生变化，而热风循环系统，可以让空气的温度非常均匀。工业烤箱销售价格合肥真萍工业烤箱的运用领域！

箱体结构：1烘箱总体由箱体部分，电气控制柜部分，电加热部分，风道部分，尘埃物过滤部分，N2进气排气及风冷部分等组装而成，结构合理，功能实用。2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘，内胆材料：采用进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。3保温材料：采用正厂玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充，防止了热能浪费。4电热部分：采用覆套式电热器（SHEATHEDHEATER）无尘无氧化电热发生器5风道部分:整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A,(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100；

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。柜体规格、配备：1.左右双开门，3mm钢化玻璃，1mm厚不锈钢板，气密式隐藏锁把手。2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭，脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。3.附高载重不锈钢隔板，柜体加装高载重煞车轮。4.上掀式气密盖，方便FFU保养及维修。5.回风循环设计，单向氮气循环不产生紊流。6.背面气密开门式设计，方便洁净清理与保养。合肥真萍告诉您工业烤箱的应用范围。

HMDS真空烤箱整机尺寸、真空腔体尺寸：1.内胆尺寸：650*650*650;450*450*450mm;300*300*300mm;2.载物托架：2块3.室温+10℃-250℃控温范围：温度分辨率：0.1℃温度波动度：±0.5℃4.真空泵：油泵或无油真空泵。真空度：133pa，5.加热方式：腔体下部及两侧加温。加热器为外置加热板（防止一侧加热使的HMDS液进入箱体内不能完本转成气态）6.可放2寸晶圆片或4寸晶圆片；6寸晶圆片；8寸晶圆片等。7.开箱温度可以由user自行设定来降低process时间（正常工艺在50分钟-120分钟（按产品所需而定烘烤时间），为正常工作周期不含降温时间（因降温时间为常规降温）。设备适用于产品或材料及电气、仪表、电子、电工及汽车、航空在恒温条件下作干燥和各种恒温适应性试验。工业烤箱图片

工业烤箱的运用领域有哪些？工业烤箱图片

工业烤箱始终贯穿在众多产品的生产过程中，应用于电子、光学、半导体、通讯、电镀、PCB、LED、新能源、光伏、家电和光学玻璃等众多方面，进行精密烘烤、固化、回火、预热和定型等工序。工业烤箱对温度、清洁度等方面有较高的要求，其质量直接影响到对整个产品的生产过程。工业烤箱属于干燥设备之一，由于每个烘烤产品的特性不同，导致对工业烤箱的要求也不同。每种工业烤箱装置都有其特定的适用范围，而每种物料都可找到若干种能满足基本要求的干燥装置，但更适合的只能有一种。如没有选好合适的设备，除了要承担不必要的高昂采购成本，还将影响到物料烘烤效果，诸如效率低、耗能高、运行成本高、产品质量差、甚至装置根本不能正常运行等。工业烤箱图片