企业商机
蚀刻液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 产品名称
  • 钼铝钼蚀刻液
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类别
  • 无机酸
  • 产品性状
  • 液态
蚀刻液企业商机

铜蚀刻液近期成为重要的微电子化学品产品,广泛应用于平板显示、LED制造及半导体制造领域。随着新技术的不断进步,对该蚀刻液也有了更高的要求。并且之前市场上的铜蚀刻液成分普遍存在含氟、硝酸或高浓度双氧水的情况。在此基础上我司自主进行了无氟,无硝酸,低双氧水浓度铜蚀刻液的研发,并可兼容于不同CuMo镀膜厚度之工艺。产品特点:1.6%双氧水浓度的铜蚀刻液lifetime可至7000ppm。2.末期铜蚀刻液工艺温度(32)下可稳定72H,常温可稳定120H;无暴沸现象。3.铜蚀刻液CD-Loss均一性良好,taper符合制程要求。4.铜蚀刻液可兼容MoCu结构不同膜厚度的机种。苏州博洋化学您正确的选择,欢迎咨询。广州格林达蚀刻液费用是多少

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步骤一s1:设置一挡液板结构10,其中该挡液板结构10设置有复数个宣泄孔121;该挡液板结构10包括有一***挡板11、一与该***挡板11接合的第二挡板12,以及一与该第二挡板12接合的第三挡板13,其中该第二挡板12具有复数个贯穿该第二挡板12且错位设置的宣泄孔121,该复数个宣泄孔121呈千鸟排列的直通孔态样,且位于同一列的宣泄孔121之间具有相同的距离,其中该宣泄孔121的孔径a0比较好小于3mm,以使该宣泄孔121的孔洞内产生毛细现象,若该第二挡板12的该上表面123有水滴出现时,则该水滴不至于经由该宣泄孔121落至下表面122,但仍旧可以提供空气宣泄的管道,以借由该宣泄孔121平衡该第二挡板12上、下二端部的压力。步骤二s2:使用一设置于该挡液板结构10下方的输送装置30输送一基板20,以经过一喷洒装置50进行一药液51喷洒;在本实用新型其一较佳实施例中,该喷洒装置50设置于该挡液板结构10的一端部,且该基板20设置于该挡液板结构10的下方约8毫米至15毫米之间,其中该喷洒装置50用以喷洒一药液51至该基板20上,以对该基板20进行一湿式蚀刻制程,该挡液板结构10的设置即是为了避免该喷洒装置50的药液51继续对已经完成蚀刻步骤的基板20再进行蚀刻制程。合肥蚀刻液哪里买蚀刻液可以用在哪些行业当中?

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为本实用新型挡液板结构其二较佳实施例的宣泄孔排列示意图,以及其三较佳实施例的宣泄孔排列示意图,在本实用新型其二较佳实施例中,开设于该第二挡板12上的宣泄孔121亦呈千鸟排列的直通孔态样,且位于同一列的宣泄孔121之间具有相同的距离,例如:图4中所示的w1,其中w1大于图3的w或图5的w2,其中w2大于w,而该宣泄孔121的一孔径a0亦小于3mm,以使该宣泄孔121的孔洞内产生毛细现象,若该第二挡板12的该上表面123有水滴出现时,则该水滴不至于经由该宣泄孔121落至下表面,但仍旧可以提供空气宣泄的管道,以借由该宣泄孔121平衡该第二挡板12上、下二端部的压力。此外,请参阅图6与图7所示,为本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的整体结构示意图,以及挡液板结构运作局部放大图,其中本实用新型的蚀刻设备1设置于一湿式蚀刻机的一槽体(图式未标示)内,该蚀刻设备1包括有一如上所述的挡液板结构10、一输送装置30、一基板20,以及一风刀装置40,其中本实用新型主要借由具有复数个宣泄孔121的挡液板结构10搭配该风刀装置40的硬体设计,有效使该风刀装置40吹出的气体43得以由该复数个宣泄孔121宣泄。

本实用新型有关于一种挡液板结构与以之制备的蚀刻设备,尤其是指一种适用于湿式蚀刻机的挡液排液功能且增加其透气性以降低产品损耗的挡液板结构与以之制备的蚀刻设备。背景技术:请参阅图1所示,为传统挡液板结构的整体设置示意图,其中一实心pvc板态样的挡液板结构a设置于一湿式蚀刻机(图式未标示)内,主要用以阻挡一蚀刻药液(图式未标示)对设置于该挡液板结构a下方的基板(图式未标示)的喷溅而造成蚀刻不均匀的现象,并且在湿式蚀刻的制程步骤中,该基板设置于二风刀b之间,当该基板设置于一输送装置(图式未标示)而由该挡液板结构a的左方接受蚀刻药液蚀刻后移动至风刀b之间,该等风刀b再喷出一气体c到该基板的表面以将该基板表面残留的蚀刻药液吹除;然而,当在该等风刀b进行吹气的状态下,容易在该挡液板结构a下方形成微小的真空空间而形成涡流并造成真空吸板的问题;因此,如何有效借由创新的硬体设计,确实达到保有原始挡液板的挡液效果,以及增加透气性以破除真空以减少因真空吸板导致的基板刮伤或破片风险,仍是湿式蚀刻机等相关产业开发业者与相关研究人员需持续努力克服与解决的课题。剥离液是用于光刻胶剥离用的化学品。

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etchingamount)的相互关系的图表。具体实施方式本发明人确认了用于氮化物膜去除工序用蚀刻液组合物的具有防蚀能力的添加剂在满足特定参数值时能够使在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性去除氮化物膜且不损伤氧化物膜的效果极大化,从而完成了本发明。本发明包括选择在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*将氮化物膜选择性去除的能力优异的添加剂的方法、由此选择的添加剂、包含上述添加剂的蚀刻液组合物以及利用上述蚀刻液组合物的蚀刻方法。本发明中,蚀刻对象膜可以为氮化物膜,保护对象膜可以为氧化物膜。此外,本发明的上述添加剂可以为硅烷(silane)系偶联剂。<蚀刻液组合物>具体而言,本发明可以包含磷酸、添加剂和水,上述添加剂可以为硅烷(silane)系偶联剂。本发明的上述添加剂的特征在于,使上述添加剂的反应位点(activesite)的数量除以上述添加剂的水解(hydrolysis)了的形态的分子量之后乘以(参照以下数学式)满足。本发明中,各添加剂的反应位点(activesite)的数量和添加剂的水解(hydrolysis)了的形态的分子量的例子示于表3中。此外,由此计算的各添加剂的aeff值和与此有关的蚀刻程度的例示示于表2中。参照上述结果,可以确认到上述添加剂的aeff值推荐满足。哪家的蚀刻液配方比较好?江苏蚀刻液按需定制

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装置主体1的顶部另一端固定连接有硝酸钾储罐21,装置主体1的内部中间部位固定连接有连接构件11,装置主体1的内部底部中间部位固定连接有常闭式密封电磁阀10,连接构件11的内侧固定连接有过滤部件9,装置主体1的内部底端另一侧固定连接有收集仓8,收集仓8的另一侧底部固定连接有密封阀门7,过滤部件9的顶端两侧活动连接有滑动盖24,过滤部件9的内部中间两侧固定连接有收缩弹簧管25,连接构件11的内侧两端嵌入连接有螺纹管27,连接构件11的内部中间两侧活动连接有活动轴28,连接构件11的内侧中间两侧嵌入连接有密封软胶层29。推荐的,硝酸钾储罐21的顶部嵌入连接有密封环22,在将制备蚀刻液储罐加入制备材料的时候,需要将储罐进行密封,密封环22能将硝酸钾储罐21和其他储罐的顶盖与储罐主体连接的位置进行密封,使硝酸钾储罐21和其它储罐的内部形成一个密闭的空间,避免环境外部的杂质进入储罐内,有效的提高了装置使用的密封性。推荐的,连接构件11的两侧嵌入连接有海绵层12,在使用装置制备蚀刻液的时候,需要通过连接构件11将装置主体1内部的部件进行连接,在旋转连接构件11的两侧时,操作人员的手会与连接构件11接触,海绵层12可以将操作人员手上的水分进行吸收。广州格林达蚀刻液费用是多少

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