企业商机
剥离液基本参数
  • 品牌
  • 博洋化学
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 类型
  • 醇,醚
  • 产品性状
  • 液态
剥离液企业商机

    利用提升泵将一级过滤罐中滤液抽取到搅拌釜内;再向搅拌釜中输入沉淀剂,如酸性溶液,与前述滤液充分搅拌混合再次析出沉淀物,即二级线性酚醛树脂,打开二级过滤罐进料管路上的电磁阀,带有沉淀物的混合液进入二级过滤罐中,由其中的过滤筒过滤得到二级线性酚醛树脂,废液二级过滤罐底部的废液出口流出,送往剥离成分处理系统。上述过滤得到的一级线性酚醛树脂可用于光刻胶产品的原料,而二级线性酚醛树脂可用于其他场合。综上,实现了对光刻胶树脂的充分的回收利用,回收率得到提高。附图说明图1是本实用新型的结构示意图;图2是过滤筒的结构示意图。具体实施方式如图1、图2所示,该光刻胶废剥离液回收装置,包括搅拌釜10和与搅拌釜10连通的过滤罐,所述过滤罐的数量为两个,由一级过滤罐16和二级过滤罐13组成。所述一级过滤罐16和二级过滤罐13在垂直方向上位于搅拌釜10下方,一级过滤罐16和二级过滤罐13的进料管路15、14分别与搅拌釜10底部连通,且进料管路15、14上分别设有电磁阀18、17。所述一级过滤罐16的底部出液口19连接有提升泵6,所述提升泵6的出料管路末端与搅拌釜10顶部的循环料口7连通。搅拌釜10顶部另设有废剥离液投料口5和功能切换口3。上海和辉光电用的哪家的剥离液?浙江半导体剥离液

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本发明涉及化学制剂技术领域:,特别涉及一种用于叠层晶圆的光刻胶剥离液。背景技术::随着半导体制造技术以及立体封装技术的不断发展,电子器件和电子产品对多功能化和微型化的要求越来越高。在这种小型化趋势的推动下,要求芯片的封装尺寸不断减小。3d叠层粉妆技术的封装体积小,立体空间大,引线距离短,信号传输快,所以能够更好地实现封装的微型化。晶圆叠层是3d叠层封装的一种形式。叠层晶圆在制造的过程中会对**外层的晶圆表面进行显影蚀刻,当中会用到光刻胶剥离液。浙江半导体剥离液剥离液的价格哪家比较优惠?

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    图3是一现有技术光刻胶剥离去除示意图二,其离子注入步骤。图4是一现有技术光刻胶剥离去除示意图三,其显示离子注入后光刻胶形成了主要光刻胶层和第二光刻胶层。图5是一现有技术光刻胶剥离去除示意图四,其显示光刻胶膨胀。图6是一现有技术光刻胶剥离去除示意图五,其显示光刻胶炸裂到临近光刻胶。图7是一现有技术光刻胶剥离去除示意图六,其显示光刻胶去除残留。图8是本发明光刻胶剥离去除示意图一,其显示首先剥离去除主要光刻胶层。图9是本发明光刻胶剥离去除示意图二,其显示逐步剥离去除第二光刻胶层的中间过程。图10是本发明光刻胶剥离去除示意图三,其显示完全去除光刻胶后的衬底。图11是采用现有技术剥离去除光刻胶残留缺陷示意图。图12是采用本发明剥离去除光刻胶残留缺陷示意图。具体实施方式以下通过特定的具体实施例说明本发明的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所公开的内容充分地了解本发明的其他优点与技术效果。本发明还可以通过不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点加以应用,在没有背离发明总的设计思路下进行各种修饰或改变。需说明的是,在不的情况下,以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。

    单片清洗工艺避免了不同硅片之间相互污染,降低了产品缺陷,提高了产品良率。可选择的,清洗液采用氧化硫磺混合物溶液和过氧化氨混合物溶液。可选的,进一步改进,清洗液采用h2so4:h2o2配比范围为6:1~4:1且温度范围为110℃~140℃的过氧化硫磺混合物溶液;以及,nh4oh:h2o2:h2o配比为1:℃~70℃的过氧化氨混合物溶液。本发明采用等离子体氮氢混合气体能与主要光刻胶层和第二光刻胶层反应生成含氨挥发性化合物气体,且与主要光刻胶层和第二光刻胶层反应速率相等能更高效的剥离去除光刻胶,能有效减少光刻胶残留。进而避免由于光刻胶残留造成对后续工艺的影响,提高产品良率。附图说明本发明附图旨在示出根据本发明的特定示例性实施例中所使用的方法、结构和/或材料的一般特性,对说明书中的描述进行补充。然而,本发明附图是未按比例绘制的示意图,因而可能未能够准确反映任何所给出的实施例的精确结构或性能特点,本发明附图不应当被解释为限定或限制由根据本发明的示例性实施例所涵盖的数值或属性的范围。下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细的说明:图1是本发明的流程示意图。图2是一现有技术光刻胶剥离去除示意图一,其显示衬底上形成介质层并旋图光刻胶。天马微电子用的哪家的剥离液?

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    按照玻璃基板传送方向从当前腔室101开始逐级由各腔室10向玻璃基板供给剥离液以进行剥离制程。剥离液从当前腔室101进入相应的存储箱20,在剥离液的水平面超过预设高度后流入过滤器30,再经过过滤器30的过滤将过滤后的剥离液传送至下一级腔室102内。其中,薄膜碎屑70一般为金属碎屑或ito碎屑。其中,如图2所示,图2为本申请实施例提供的剥离液机台100的第二种结构示意图。阀门开关60设置在管道40及第二管道50上。在过滤器30被阻塞时,关闭位于过滤器30两侧的管道40及第二管道50上的阀门开关60,可以保证当前级腔室101对应的存储箱20内剥离液不会流出,同时下一级腔室102内的剥离液也不会流出。在一些实施例中,请参阅图3,图3为本申请实施例提供的剥离液机台100的第三种结构示意图。过滤器30包括多个并列排布的子过滤器301,所述管道40包括多个子管道401,每一所述子管道401与一子过滤器301连通,且所述多个子管道401与当前级腔室101对应的存储箱20连通。在一些实施例中,第二管道50包括公共子管道501及多个第二子管道502,每一所述第二子管道502与一子过滤器301连通,每一所述第二子管道502与所述公共子管道501连通,所述公共子管道501与所述下一级腔室102连通。其中。剥离液的作用和使用场景。芜湖中芯国际用剥离液主要作用

剥离液中加入特有添加剂可有效保护对应金属;浙江半导体剥离液

本技术通过以下技术方案来实现上述目的:一种印刷品胶面印刷剥离复合装置,包括主支撑架、横向支架、伺服变频电机、电机减速箱、印刷品放置箱、表面印刷结构、胶面剥离结构,所述主支撑架上方设置有所述横向支架,所述横向支架上方设置有所述伺服变频电机,所述伺服变频电机上方设置有所述电机减速箱,所述电机减速箱上方安装有印刷品传送带,所述印刷品传送带一侧安装有所述印刷品放置箱,所述印刷品放置箱一侧安装有所述表面印刷结构,所述表面印刷结构上方设置有油墨放置箱,所述油墨放置箱下方安装有油墨加压器,所述油墨加压器下方安装有高压喷头,所述高压喷头一侧安装有防溅射挡板。浙江半导体剥离液

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