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LCD清洗剂光学镜片清洗剂芯片模块清洗剂清洗剂的清洗对象,包括各种电子元器件、CCD和CMOS图像感应芯片及模块、半导体生产装置零件和腔体、医疗设备零部件、LCD/OLED显示器、光学件、镜片、精密加工零部件等。由于HFEs清洗剂与HCFC-141b性能接近,使用氢氟醚清洗剂进行替代的一个好处是可直接使用原有设备和工艺,无须增加太多的投资,对生产的扰动也较小。但目前我国市场上的HFEs清洗剂几乎均为进口,价格相对较高。目前主要用于高附加值零件的清洗和一些特殊要求的清洗场合。可从以下两个方面着手,提高HFEs清洗剂使用的经济性。一是通过完善清洗工艺加强对HFEs清洗剂的蒸馏回收和再生,提高重复利用率;二是利用与其他溶剂的良好相溶性,添加一些价廉易得、清洗性能强的溶剂进行复配,或与其他一些相对便宜的清洗剂,如碳氢溶剂、醇醚类溶剂等组合实现清洗操作,这样既可有效降低HFEs的消耗,减少运行成本,也可提高清洗效果。目前我司提供清LCD清洗剂光学镜片清洗剂芯片模块清洗剂型号有以下:ENASOLV2004清洗剂ENASOLV365az精密电子清洗剂ENASOLV氢氟醚系列清洗剂产品具体数据资料请联系下方人员。
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图1为本发明实施例提供的一种抛光减薄装置的结构示意图;图2为本发明实施例提供的一种托盘和待加工部件的键合固定方式示意图;图3为本发明实施例提供的一种磁转子的结构示意图;图4为本发明实施例提供一种磁转子的旋转方式的示意图;图5为本发明实施例提供的一种抛光减薄方法的流程示意图。具体实施方式以上是本发明的思想,为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。本发明实施例提供了一种抛光减薄装置,用于对inp基晶圆等部件进行抛光减薄,如图1所示,包括托盘10、喷头11和磁转子12,当然,本发明实施例中的抛光减薄装置还包括反应室13等,托盘10、喷头11和磁转子12等在反应室13内进行抛光和减薄反应。其中,托盘10,可选为石英托盘,用于固定待加工部件20,待加工部件20包括inp基晶圆。喷头11用于向待加工部件20的待加工表面喷涂抛光液110,以对待加工表面进行抛光。选择专业减薄用清洗剂,为您的产品质量保驾护航。广东市面上哪家减薄用清洗剂溶剂
减薄用清洗剂的适用人群有哪些?南京中芯国际用减薄用清洗剂销售公司
可有效稳定所述固定板423的竖直放置位置。同时,值得指出的时,所述竖直平板421上所述侧支撑件44的固定方式也可采用板加槽的方式,具体的,所述竖直平板421上设置有若干竖槽,所述竖槽单侧竖直有若干定槽,对应所述定槽设置有带有固定块的安装板,所述安装板对应所述竖槽的侧边设置有至少2个所述固定块,所述安装板远离所述竖槽的侧边设置有所述侧支撑件44,通过将所述固定块分别设置于所述定槽内,从而实现所述侧支撑件44在所述竖直平板421上的固定。通过所述竖直平板421和所述侧板422上的所述侧支撑件44的设置,从而实现对所述玻璃加工治具4上玻璃的侧边位置固定,同时,通过所述侧板422上所述调节槽的设置,可实现所述侧板422上所述侧支撑件44的位置调节,从而使所述玻璃加工治具4适用于不同尺寸的玻璃,并可根据具体玻璃尺寸同时放置不同尺寸的玻璃进行减薄处理。实施例五一般的,对于实施例四中的所述玻璃加工治具4结构,可通过调节所述底支撑件43位置使所述底支撑件43适用于不同尺寸的玻璃。如图7、图8所示,图7为所述底支撑件的结构正视图;图8为所述底支撑件的结构侧视图;所述底支撑件43包括支撑条431、第二支撑条432、连接部433和接触部434。南京中芯国际用减薄用清洗剂销售公司