内蒙古光电行业超纯水设备方案

电子行业超纯水设备特点目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。电子行业超纯水设备中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素。这种级别的超纯水是一般工艺很难达到的程度，如水的电阻率大于18MΩ*cm，接近于18.3MΩ*cm则称为超纯水。目前，超纯水设备的方法通常采用反渗透，去离子或电渗析(EDI)等工艺进行制备。精细过滤器：精细过滤器的设置主要是为了对处理过的污水中可能还存在的漂浮颗粒进行隔离。内蒙古光电行业超纯水设备方案

软化水处理是一个必不可缺的设备，不论是生产还是生活当中都可以用到软化水设备，由于现在工业发展逐渐迅速发展起来，对于水污染问题也越来越严重了，现在国家普遍地下水质硬度逐年增高，严重影响着工业生产，因此很多企业采用软化水设备对水进行处理。

1、自动运行：采用液晶显示多路控制阀，实现全自动控制运行，质量可靠，产水稳定。2、高效低能：设备的水、电、盐耗量约为同类产品的30~60%，高效低耗，节省运行费用。3、质量材料：控制阀体材质为无铅黄铜，耐腐、抗污染。交换罐材质有玻璃钢、不锈钢等。盐桶材质有PE塑料，可满足各类需求。4、经济实用：设备结构紧凑、占地面积极小，安装位置灵活。5、安装简单：安装时按图连接管道，无须固定，简单易行。设备自动运行，无需人工操作。 工厂用超纯水设备供应净水:利用净水技术除去水中大量的有机成分、重金属离子、有害杂质及细菌。

化工厂用的纯水水质要求相对于其他的工业要求不是很高，但是如水质要求达不到要求也将会直接影响到产品的使用，化工纯水电导率范围在0.1uS/cm-20uS/cm之间，因此采用的水处理工艺也是不一样的。化工厂去离子水设备根据工业所需水质分为去离子水技术、离子交换技术、二级反渗透技术、EDI超纯水工艺等，用户只需要根据自己所需的用水水质进行选择水处理系统即可。化工去离子水设备是通过阴、阳离子交换树脂对水中的各种阴、阳离子进行置换的过程，如所需的纯水水质要求更高的可以与混床系统进行相结合，混床系统也可以跟反渗透技术一起制取的超纯水。

三、制药超纯水设备的清洗要点在正常运行条件下，制药超纯水设备的反渗透膜也可能被无机物垢、胶体、微生物、金属氧化物等污染，这些物质沉积在膜表面上会引起制药超纯水设备的反渗透装置出力下降或脱盐率下降、压差升高，甚至对膜造成不可恢复的损伤，因此，为了恢复良好的透水和除盐性能，需要对膜进行化学清洗。制药超纯水设备一般3～12个月清洗一次，如果每个月不得不清洗一次，这说明应该改善的预处理系统，调整的运行参数。如果1～3个月需要清洗一次，则需要提高设备的运行水平，是否需要改进预处理系统较难判断。3、在冲洗操作中，检查所有阀门和管道连接处是否有渗漏点。

小型的EDI高纯水制取设备一小时制取多少吨？

EDI纯水设备采用的水处理工艺是将离子交换和电渗析这两种相结合的膜分离脱盐工艺，因出水的水质范围能够大领域的达到工业所需的要求、稳定且可实现24小时不间断的产水，制取纯水后也不会造成二次的污染，这也是很多工业优先选择的原因。

纯水的电阻率会随着放置的时间而变化，因此设备的大小规模需根据工业每小时的用水量进行定制，设备的大小小的有一小时几十升的，大的设备一小时上吨的，因此小型的EDI高纯水制取设备一个小时制取多少的纯水量主要根据用户的需求进行定制。EDI高纯水设备可制取出水质电阻率在10~18.2MΩ·CM的水质，不同的出水水质采用的工艺不同，如需制取高纯度的纯水则需进行水处理工艺相结合的方法： 制备纯化水的设备应定期清洗，并对清洗效果验证。工业双级纯水设备原理

工业废水造成的污染主要有：有机需氧物质污染，化学毒物污染，无机固体悬浮物污染，重金属污染，酸污染。内蒙古光电行业超纯水设备方案

无锡反渗透水处理设备管道设计要求

随着各行业用水犯难的问题，很多企业都纷纷使用反渗透水处理设备，可以有效去除水中的溶解盐类、有机物及预处理未去除的颗粒物等。然而管道作为连接设备的重要部分，只有符合设计要求，才能保证出水质量。1、反渗透水处理设备连接部分推荐焊接、其次是卡接，不能使用丝牙连接。2、在纯净水吧接触出水的过滤器、RO膜壳、紫外线杀菌器都必须使用卫生级卡箍连接。3、整套设备采用一面焊两面工艺。与纯水接触使用自动焊接，焊完之后要进行钝化处理，并做好检测。4、各压力段要分设取样点，方便对水质进行监测。 内蒙古光电行业超纯水设备方案

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