企业商机
反应基本参数
  • 品牌
  • 杜斯仪器
  • 型号
  • 齐全
  • 产地
  • 上海
  • 可售卖地
  • 全国
  • 是否定制
  • 材质
  • 不锈钢
  • 配送方式
  • 物流
反应企业商机

光化学反应仪技术参数,光源功率可连续调节大小。杜斯集成式光源控制器,可供汞灯、氙灯、金卤灯等多种光源使用。超温保护系统,冷阱温度高于45度,将启动自动断电保护系统。汞灯功率调节范围:200~1000W可连续调节。光化学专业控制器(500W/1000W可选)氙灯功率调节范围:200~1000W可连续调节。金卤灯功率调节范围:200~500W可连续调节。石英试管规格:30ml、50ml(或定做)。可同时处理8个样品(或定做)。八位磁力搅拌装置可同步调节8个样品的搅拌速度,可选同时旋转搅拌反应器。冷却水循环装置制冷量:>1650W冷却水循环装置设有脚轮和底部排液阀,温度范围-20°-100°光化学反应仪产品配置冷水循环装置:光化学 低温恒温循环器1台,反应暗箱:1台,杜斯仪器 光源控制器:1台,石英冷阱:1支,汞灯:1000W1支,氙灯:1000W1支,金卤灯:500W1支,八位磁力搅拌装置:1台,石英试管:8支(30ml,50ml可选8支),防紫外眼睛1个,移动推车:1个。光化学反应仪成功案例,咨询上海杜斯仪器有限公司。九江光化学反应器多少钱一台

光化学反应仪,

光催化利用光照来激发电子引发化学反应,能够在温和条件下实现化学键的断裂与重组。相比于传统的加热反应,具有绿色清洁、安全环保和易于控制等优点。近年来,光催化反应在合成化学领域不断取得突破,一系列光催化反应体系被发现,并成功应用于各种复杂化合物的合成中,展现出突出的合成价值和应用潜力。然而,目前光催化剂主要为贵金属配合物(Ir、Ru等)和有机染料,催化体系通过吸收可见光来激发电子从基态跃迁到激发态,进而与底物发生单电子转移(SET)实现催化循环(图1-1)。而这种可见光诱导的分子内电荷转移需要分子中含有大π离域结构或者金属-配体络合共轭产生带隙,才能在低能量可见光范围内具有吸收效应,因此为了实现可见光激发的电子跃迁,需要引入复杂分子结构, 新乡生产型光学反应仪厂家购买光化学反应器请找上海杜斯仪器有限公司。

光催化反应随着工业技术的进步,印染废水也成为水污染现象中不可忽视的重要污染源。据统计,在纺织业印染过程中,总共有15%的染料被丢失,随着印染废水被排人水体中,水污染日趋严重。而在染料生产过程中,投入的原料大部分是芳烃化合物和杂环化合物,副反应多,产品收率低,因而使染料生产过程中排放的染料废水具有成分复杂、色度高、排放量大、毒性大、可生化性差的特点,染料废水一直是废水处理中的难题。而光催化氧化法的诞生,开创了染料废水降解的新局面,用光催化氧化法降解染料废水,可使其彻底矿化,不产生二次污染,是一种很有前途的水处理技术。

汞灯光源,是专门针对紫外区的催化实验、光刻蚀、光催化、光降解、化学合成的研究级汞灯光源;光源内部安装350W/500W高压短弧球形汞灯,在高频高压激发下形成弧光放电,辐射出强而稳定的紫外区强烈光谱,能量密度高,输出稳定,适用于紫外区的光化学研究和光电的各种实验,特别适用于强光催化(如光降解及其他光催化研究)。光源可兼容多种规格、品牌、进口及国产滤光片及透镜(25.4mm,50.8mm,,M52,M62等),常用滤光片规格(紫外带通滤光片):254nm,313nm,334nm,350nm,365nm,380nm,400nm,405nm。我公司可以提供各种规格石英滤光片、反光片、K9光学滤光片等。超声波材料乳化分散器DS-3000,咨询上海杜斯仪器有限公司。

光诱导分子间的电荷转移可以通过非共价键的方式在电子给体和受体之间发生,并不限定每一个底物(给体或受体)都要在特定波长范围内具有吸收效应,只需要满足给体和受体结合形成的复合物在特定波长的范围内具有吸收即可,这样就可以简化光催化体系构成,降低催化剂成本。虽然这种光能利用方式已广泛应用于光伏器件中,但以催化还原催化循环的机制应用于合成领域仍是未被提出过的新概念。基于可见光激发的分子间电荷转移用于光氧化还原催化的新概念,发现了一种简单易得、高效环保的非金属阴离子复合物光催化体系,成功实现了温和条件的脱羧偶联反应,突破了传统反应需要贵金属光催化剂或有机染料的限制。新款超声波细胞粉碎机使用方法,咨询上海杜斯仪器有限公司。日照光学反应器厂商

超声波细胞粉碎机型号,咨询上海杜斯仪器有限公司。九江光化学反应器多少钱一台

光催化合成安息香**微反应器中二氧化钛/过氧化氢协同光催化降解[5]。在长为210 mm,宽为0.57 mm,深为0.12 mm的玻璃微流控芯片中(图3),将TiO2粉末(用0.1mol/L HNO3配成5%的TiO2粉末溶胶)用注射器在微流控芯片通道口注入溶胶,待通道内完全充满溶胶后,用注射泵以300μL/h的流速将多余溶胶推出,将芯片置于烘箱内100℃烘干。冷却后按照上述方法涂覆5层,将芯片置于马弗炉内(420℃)维持6 h。冷却后取出,则在微通道内壁制备了约2μm厚的多孔TiO2 薄膜。用环氧胶将聚四氟乙烯管(i.d. 0.5 mm, o.d. 2.1 mm,L=30 mm)与微通道的各个出口端连接。九江光化学反应器多少钱一台

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