绍兴手自一体金相磨抛机企业

金相磨抛机：抛好光后的试样，若直接放在显微镜下观察，只能看到一片亮光，能观察某些非金属夹杂物、灰口铸铁中的石墨、粉末冶金制品中的孔隙等，无法辨别出各种组成物及其形态特征。为了把磨面的变形层除去，同时还要把各个不同的组成地区分开来，得到有关显微组织的信息，就要进行显微组织的显示工作。按金相组织显示方法的本质可以分为化学、物理二类。化学方法主要是浸蚀方法，包括化学浸蚀，电化学浸蚀及氧化法，是利用化学试剂的溶液借化学或电化学作用显示金属的组织。本课程实验使用的全部试样均采用化学浸蚀方法制作。金相试样表面的化学浸蚀可以是化学溶解作用，也可以是电化学溶解作用。这取决于试样材料的组成相的性质及它们的相对量。金相磨抛机还可把前一道工序的磨痕除去。绍兴手自一体金相磨抛机企业

金相磨抛机抛光案例： 打磨：240# 600# 1200# ，转速：300转左右，转盘方向：顺时针，压力：30N即可，每道砂纸时间：1分钟左右（划痕均匀，没有多面出现）打磨：4000# 沿着一个方面手磨，抛光：转速：300转左右，转盘方向：顺时针 ，压力：30N即可。 抛光：真丝绸布，纹路均匀，进口硬质背基金刚石喷雾抛光剂/金刚石悬浮抛光液：5微米 420毫升 时间：5-10分钟（喷2-3次溶液）防氧化抛光润滑液防止过于干燥过热，抛光过程中用雾状喷水壶湿润。注：抛光前，抛光布保持干净，完全湿润；1、精抛短绒，进口硬质背基，2、进口工艺氧化铝抛光液：0.05微米， 3、防氧化抛光液时间：5-10分钟（喷2-3次溶液）会出现模糊氧化层，需要进行氧化抛光，同时去除表面细小划痕防止过于干燥过热，抛光过程中用雾状喷水壶湿润。注：抛光前，抛光布保持干净，完全湿润 绍兴手自一体金相磨抛机企业金相磨抛机（全自动）本机采用PLC控制。

金相磨抛机：将研磨好的试样用力持住，并轻轻靠近抛盘，先将试样按向磨抛盘的中心位置，边抛光边向外平移试样。在抛光过程中，要随时补充抛光剂以保持一定湿度太干干则使磨面产生变形层和暗斑，过湿会减弱抛光作用，适宜的湿度是试样磨面附着的湿膜在3~5秒内挥发完，抛光时间不宜过长，一般是在磨面的划痕消除，而不产生麻点；试样抛光好后，应关闭电源。注意停机时应先关闭给水阀后停机，避免水溢入电机内，损坏电机，影响设备的正常使用。

金相磨抛机：抛光目的是消除细磨留下的磨痕，获得光亮无痕的镜面。方法有机械抛光、电解抛光、化学抛光和复合抛光等，常用的是机械抛光。（1）机械抛光是在抛光机上进行抛光，靠极细的抛光粉和磨面间产生的相对磨削和滚压作用来消除磨痕的，分为粗抛光和细抛光两种1）粗抛光粗抛光一般是在抛光盘上铺以细帆布，抛光液通常为Cr2O3、Al2O3等粒度为1-5μ的粉末制成水的悬浮液，一般一升水加入5-10克，手握样品在常用的抛光机上进行。边抛光边加抛光液，一般的钢铁材料粗抛光可获得光亮的表面。2）细抛光是在抛光盘上铺以丝绒，丝绸等，用更细的Al2O3、Fe2O3粉制成水的悬浮液，与粗抛光的方法相同。金相磨抛机（全自动）采用8寸触摸屏操作控制，直观的触摸屏界面，自动调压力。

金相磨抛机：手工磨光主要使用干砂纸，机械磨光要求使用水砂纸。这两种砂纸的主要区别在纸基和粘结剂上。水砂纸自然要求纸基＝粘结剂都能防水。它们的磨料基本相同，主要有人造刚玉、碳化硅及氧化铝。按照磨料颗粒粗细尺寸砂纸分为各种规格，分别编号。磨料尺寸一般用“粒度”单位。对用筛选法获得的磨粒来说，粒度号是用1英寸长度上有多少个孔眼的筛网来确定的。例如10号粒度是指1英寸长度上有10个孔眼的筛网；如果磨粒的粒度以它的实际尺寸来表示，就用“W”单位，这种磨粒也称为微粉。如28微米的微粉其粒度号为W28。金相磨抛机通过不同的研磨抛光介质来实现用户的粗磨、精磨、粗抛、精抛光制样过程。绍兴手自一体金相磨抛机企业

金相磨抛机（全自动）采用西门子变频器和日本SMC气动元件。绍兴手自一体金相磨抛机企业

金相磨抛机（全自动）日常维护：用湿布清洁所有可接触到的表面；经常检查碗状衬垫；如已积攒了很多磨屑，则清洁或更换；清理转换盘上的磨料及残渣避免腐蚀转换盘系统；防粘盘每次使用完成后应取下晾干。每周维护：用湿软布和普通家用清洁剂清洁喷漆表面。（不要使用干布擦拭，表面会产生划痕，油脂可以用乙醇或异丙醇去除。不要用苯或类似的溶剂。）定期清理排水管道保持排水畅通。定期清理槽里的污物，不能使用坚硬物体，避免损坏水槽。清理水槽时应注意不能将水及污物罐如槽中心的孔内，会损坏转动装置。按下放泄阀释放以使水/油过滤器清空。用湿软布和普通家用防静电清洁剂清洁触摸屏。 绍兴手自一体金相磨抛机企业