比起常规干燥技术具备以下优势:真空环境降低了需要驱逐的液体的沸点,所以真空干燥可以轻松应用于热敏性物质;对于不容易干燥的样品,例如粉末或其他颗粒状样品,使用真空干燥法可以有效缩短干燥时间;各种构造复杂的机械部件或其他多孔样品经过清洗后使用真空干燥法,完全干燥后不留任何参与物质;使用更安全――在真空或惰性条件下,完全消除氧化物遇热膨胀的可能;与依靠空气循环的普通干燥相比,粉末状样品不会被流动空气吹动或移动。控制特点:具有因停电、死机造成状态数据和保存的参数记忆丢失,来电恢复功能。产品材料及特点:采用流线型圆弧设计,外壳采用冷轧钢板制造,表面静电喷塑;本机温控系统采用微电脑单片机设计,具有温控、定时、超温报警功能;这款真空烘箱采用双屏高亮度数码管显示,示值准确直观,性能优越,触摸式按键设定调整参数;温度具有定时功能,定时时间长达9999分钟;内胆均为3mm厚不锈钢材料制成,半圆形四角设计更方便清洁;外箱采用,钢板外表面采用精密双层粉体烤漆处理,与通常的外表喷涂处理相比外观更加美观大方及增强了其防腐防生锈性能;加热方式为镍铬合金电加热器,均匀分布在工作室四周外壁,保证箱体内部温度均匀。依据真空泵的性能,抽到压力表为真空泵的极限值为准;舟山真空烘箱规格尺寸
从结构上分析,一般的干燥箱外壳都是采用冷轧钢板制造,但是从厚度上将,差别却很大。由于真空干燥箱里面的真空环境,为防止大气压压坏箱体,其外壳厚度要较鼓风干燥箱大些许,一般是选择钢板越厚质量越好,使用寿命也越长。为便于观察,在干燥箱的箱门都设有玻璃窗,一般有钢化玻璃和镶嵌门上的普通玻璃,杭州宏誉智能科技有限公司生产干燥箱箱门全部采用钢化玻璃,虽价格稍贵,但是外观漂亮,对于操作人员的安全更是有力的保障。衢州内置泵体真空烘箱真空泵要停止使用时,先关闭闸阀、压力表,然后停止电机。
为获得平坦而均匀的光刻胶涂层并使光刻胶与晶片之间有良好的黏附性,通常在涂胶前对晶片进行预处理。预处理第一步常是脱水烘烤,在真空或干燥氮气的机台中,以150~200℃烘烤。工艺目的是除去晶片表面吸附的水分,在此温度下,晶片表面大约保留了一个单分子层的水。涂胶后,晶片须经过一次烘烤,称之软烘或前烘。工艺作用是除去胶中大部分溶剂并使胶的曝光特性固定。通常,软烘时间越短或温度越低会使得胶在显影剂中的溶解速率增加且感光度更高,但对比度会有降低。实际上软烘工艺需要通过优化对比度而保持可接受感光度的试凑法用实验确定,典型的软烘温度是90~100℃,时间从用热板的30秒到用烘箱的30分钟。在晶片显影后,为了后面的高能工艺,如离子注入和等离子体刻蚀,也须对晶片进行高温烘烤,称之后烘或硬烘。这一工艺目的在于:减少驻波效应;激发化学增强光刻胶PAG产生的酸与光刻胶上的保护基团发生反应并移除基团使之能溶解于显影液。
真空烘箱专为干燥热敏性、易分解和易氧化物质而设计,能够向内部充入惰性气体,特别是一些成分复杂的物品也能进行快速干燥。该产品有以下特点: 1、长方体工作室,使有效容积达到比较大,微电脑温度控制器,精确控温。温度控制器2、钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体,一目了然。3、箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。关紧箱门,放气阀,箱门上有螺栓,可使箱门与硅胶密封条紧密结合;
真空干燥箱先抽真空再升温加热的原因1)工件放入真空箱里抽真空是为了抽去工件材质中可以抽去的气体成分。如果先加热工件,气体遇热就会膨胀。由于真空箱的密封性非常好,膨胀气体所产生的巨大压力有可能使观察窗钢化玻璃爆裂。这是一个潜在的危险。按先抽真空再升温加热的程序操作,就可以避免这种危险。2)如果按先升温加热再抽真空的程序操作,加热的空气被真空泵抽出去的时候,热量必然会被带到真空泵上去,从而导致真空泵温升过高,有可能使真空泵效率下降。3)加热后的气体被导向真空压力表,真空压力表就会产生温升。如果温升超过了真空压力表规定的使用温度范围,就可能使真空压力表产生示值误差。正确的使用方法应该先抽真空再升温加热。待达到了额定温度后如发现真空度有所下降时再适当加抽一下。这样做对于延长设备的使用寿命是有利的。真空箱应在相对湿度≤85%RH,周围无腐蚀性气体、无强烈震动源及强电磁场存在的环境中使用。衢州内置泵体真空烘箱
双层钢化玻璃观察窗,工作状态一目了然。舟山真空烘箱规格尺寸
烘箱在电子行业的应用:组件,预热,烘烤,干燥,热分解,固化,退火,回流焊接。数据存储:对录音磁头以及铝制和玻璃磁盘介质磁头以及铝制和玻璃磁盘介质。光纤:黏合剂粘合与固化,Telcordia测试与预烧。半导体组装/圆片级包装:密封剂、BCB,CMOS光学和底胶固化传感器处理,芯片黏着和BGA,B阶黏着剂固化,稳定性测试,配向膜烘烤,预烧和测试,热冲击。半导体前端:磁性退火,圆片级预烧,金属薄膜退火,配向膜烘烤,光阻固化,稳定性测试。舟山真空烘箱规格尺寸