连云港光电净化工程

    必要时需管制作业人员；素地处理完成后需严格管制进出人员，非工作人员严禁进入管制区域。（2）底涂层的施工：施工前需计算材料使用量，依照施工方向及区域选定材料搅拌区和材料配置；依比例将主剂及固化剂充分搅拌均匀；将搅拌好的材料送至施工区域内；涂布底涂时采用毛刷及滚筒，将材料均匀涂布；搅拌后的材料应在可规定使用时间内使用，以免材料固化；施工中发现沙粒或杂质应立即去除；施工期间及养护时间内管制人员进出，养护时间为8小时。（3）中涂层的施工：中涂材料石英砂石英粉1．施工前计算材料的使用量，依照施工方向及区域，配合施工路径选定搅拌区；2．依照比例将主剂及固化剂充分搅拌均匀；3．材料混合后，依正确比例将石英砂缓慢加入，并搅拌均匀；4．搅拌均匀的材料需尽快送到施工区域内，百级净化工程，依照施工程序施工；5．涂布中涂材料时，净化工程，采用镘刀等工具，将材料均匀涂布；6．施工涂布时应尽量减少施工结合缝；7．施工涂布时应注意施工温度，低于5℃时环氧树脂不能固化；混合后的材料应在规定使用时间内涂布完毕，并注意前后组材料的衔接；施工中发现杂质应立即去除；施工期间及养护时间内管制人员进出，如施工时温度在10℃—15℃时。净化工程的规划应考虑未来技术的发展和升级。连云港光电净化工程

随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了，所以必须有±，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。江苏无菌室净化工程高效过滤器是净化工程中常用的设备之一。

近几年来，由于技术之创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型积体电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目，而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于地位。 光学微电子净化工程一般包括： 1、 洁净生产区 2、 洁净辅助间（包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等） 3、 管理区（包括办公、值班、管理和休息） 4、 设备区（包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房） 材料 1. 净化厂房墙、顶板材一般多采用50mm厚的夹芯彩钢板制造，其特点为美观、刚性强。圆弧墙 角、门、窗框等一般采用氧化铝型材制造。

对要求洁净室的悬浮粒子浓度或微生物浓度更低的场合，就使用单向气流。以前称这类洁净室为“层流”洁净室。单向流和层流的名称均说明了其气流的状况：气流以一个方向流动（或是垂直的或是水平的），并以一般是0.3米/秒至0.5米/秒（60英尺/分钟至100英尺/分钟）的均速流过整个空间。由满布洁净室吊顶的高效过滤器向室内送风。气流有如一个空气活塞，向***经室内，带走污染物，然后从地面排出。又在与外部的一些新鲜空气混合后，再循环至高效过滤器。净化工程的设计应考虑到设备的能耗和运行成本。

    无菌操作室注意事项：1.安全注意事项严格无菌操作，防止微生物污染；操作人员进入无菌室应先关掉紫外灯。2.无菌室应设有无菌操作间和缓冲间，无菌操作间洁净度应达到10000级，室内温度保持在20-24℃，湿度保持在45-60%。超净台洁净度应达到100级。3.无菌室应保持清洁，严禁堆放杂物，以防污染。严防一切灭菌器材和培养基污染，已污染者应停止使用。4.无菌室应定期用适宜的消毒液灭菌清洁，以保证无菌室的洁净度符合要求。5.需要带入无菌室使用的仪器，器械，平皿等一切物品，均应包扎严密，万级净化工程标准，并应经过适宜的方法灭菌。6.工作人员进入无菌室前，必须用肥皂或消毒液洗手消毒，然后在缓冲间更换工作服，鞋，帽子，口罩和手套(或用70%的---再次擦拭双手)，方可进入无菌室进行操作。7.无菌室使用前必须打开无菌室的紫外灯辐照灭菌30分钟以上，并且同时打开超净台进行吹风。操作完毕，应及时清理无菌室，再用紫外灯辐照灭菌20分钟。8.供试品在检查前，应保持外包装完整，不得开启，以防污染。检查前，用70％的酒精棉球消毒外表面。9.凡带有活菌的物品，必须经消毒后，万级净化工程造价，才能在水龙头下冲洗，严禁污染下水道。净化工程的实施需严格遵守相关行业标准。上海电子厂净化工程设备

净化工程中，静电控制是防止微电子污染的关键。连云港光电净化工程

用风速可以正确地表示出单向流，因为风速越高室内就越洁净。而每小时换气次数与房间的体积有关，如吊顶的高低，因此不适合用来表示单向流。单向流室内的送风量是紊流室的很多倍（10到100倍）。 净化工程控制 编辑 洁净室中的温湿度控制 洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。连云港光电净化工程