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薄膜和涂层分析采用的原理与XRPD相同，不过进一步提供了光束调节和角度控制功能。典型示例包括但不限于相鉴定、晶体质量、残余应力、织构分析、厚度测定以及组分与应变分析。在对薄膜和涂层进行分析时，着重对厚度在nm和µm之间的层状材料进行特性分析（从非晶和多晶涂层到外延生长薄膜）。D8ADVANCE和DIFFRAC.SUITE软件可进行以下高质量的薄膜分析：掠入射衍射X射线反射法高分辨率X射线衍射倒易空间扫描由于具有出色的适应能力，使用D8ADVANCE，您就可对所有类型的样品进行测量：从液体到粉末、从薄膜到固体块状物。D8 DISCOVER配备了MONTEL光学器件的IµS微焦源可提供更大强度小X射线束，非常适合小范围或小样品的研究。广东布鲁克XRD衍射仪推荐咨询

D8DISCOVER特点：微焦源IµS配备了MONTEL光学器件的IµS微焦源可提供小X射线束，非常适合小范围或小样品的研究。1.毫米大小的光束：高亮度和很低背景2.绿色环保设计：低功耗、无耗水、使用寿命延长3.MONTEL光学器件可优化光束形状和发散度4.与布鲁克大量组件、光学器件和探测器完全兼容。5.提供各种技术前列的全集成X射线源，用于产生X射线。6.工业级金属陶瓷密封管，可实现线焦斑或点焦斑。7.专业的TWIST-TUBE（旋转光管）技术，可快速简便地切换线焦斑和点焦斑。8.微焦斑X射线源（IµS）可提高极小焦斑面积上的X射线通量，而功耗却很低。9.TURBOX射线源（TXS）旋转阳极可为线焦斑、点焦斑和微焦斑等应用提供比较高X射线通量。10.性液态金属靶METALJET技术，可提供无出其右的X射线光源亮度。11.高效TurboX射线源（TXS-HE）可为点焦斑和线焦斑应用提供比较高X射线通量，适用于D8DISCOVERPlus。12.这些X射线源结合指定使用X射线光学元件，可高效捕获X射线，并将之转化为针对您的应用而优化的X射线束。广东微观应变分析XRD衍射仪配件在DIFFRAC.EVA中，进行半定量分析，以现实孔板上不同相的浓度。

药物制剂生产过程中除需添加各种辅料外，往往还需要经过溶解、研磨、干燥(温度)、压片等工艺过程，在此过程中API的晶型有可能发生改变，进而可能影响到药物的疗效。国内外FDA规定多晶型药物在研制、生产、贮存过程中必须保证其晶型的一致性，固体制剂中使用的晶型物质应该与API晶型一致。因此药物制剂中的晶型分析是非常重要的。由于辅料的存在对药物制剂中API的晶型分析增加了干扰，特别是API含量非常少的制剂样品，检测更加困难。XRPD是API晶型分析的有效手段之一，配合高性能的先进检测器，为制剂中微量API的晶型检测提供了有利工具。

粉煤灰中晶态矿相及非晶相定量分析引言粉煤灰，是从煤燃烧后的烟气中收捕下来的细灰，粉煤灰是燃煤电厂排出的主要固体废物。粉煤灰是我国当前排量较大的工业废渣之一。大量的粉煤灰不加处理，就会产生扬尘，污染大气；若排入水系会造成河流淤塞，而其中的有毒化学物质还会对人体和生物造成危害。所以，粉煤灰的再利用一直都是关注的热点。比如，已用于制水泥及制各种轻质建材等。要合理高效的利用粉煤灰，则需要对其元素和矿相组成有详细的了解。粉煤灰的矿相主要莫来石、石英以及大量的非晶态。利用XRD测定非晶态通常采用加入特定含量的标准物质以精确的计算非晶相物质的含量。在实验室中这个方法是可行的，但在实际生产和快速检测过程中，这个方法就现实。目前一种全新的PONKS（PartialOrNoKnowCrystalStructure）方法*，解决了这一难题，实现了粉煤灰样品的无标样定量分析。定性相分析和结构测定 微米应变和微晶尺寸分析 应力和织构分析 粒度和粒度分布测定 微米大小X射线束局部分析。

汽车和航空航天：配备了UMC样品台的D8D的一大优势就是可以对大型机械零件进行残余应力和结构分析以及残余奥氏体或高温合金表征。半导体与微电子：从过程开发到质量控制，D8D可以对亚毫米至300mm大小的样品进行结构表征。制药业筛选：新结构测定以及多晶筛选是药物开发的关键步骤，对此，D8D具有高通量筛选功能。储能/电池：使用D8D,您将能在原位循环条件下测试电池材料，直接了当的获取不断变化的储能材料的晶体结构和相组方面的信息。使用D8D，您将能在原位循环条件下测试电池材料，直截了当地获取不断变化的储能材料和晶体结构和相位信息。深圳点阵参数精确测量XRD衍射仪

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X射线反射率测定引言X射线反射率（XRR：X-RayReflectivity）是一种表面表征技术，是利用X射线在不同物质表面或界面的反射线之间的干涉现象分析薄膜或多层膜结构的工具。通过分析XRR图谱(图1)可以确定各层薄膜的密度、膜厚、粗糙度等结构参数。XRR的特点：1无损检测2对样品的结晶状态没有要求，不论是单晶膜、多晶膜还是非晶膜均可以进行测试3XRR适用于纳米薄膜，要求厚度小于500nm4晶面膜，表面粗糙度一般不超过5nm5多层膜之间要求有密度差广东布鲁克XRD衍射仪推荐咨询