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这样就可以及时打开密封门，将基板取出准备下一次镀膜，能够有效防止镀膜材料喷溅，且省去坩埚降温的时间，提高了工作效率。(2)、该高分子等离子表面真空镀膜设备，通过腔体左侧的顶部固定连接有电机，并且电机输出轴的一端固定连接有双向螺纹杆，双向螺纹杆表面的两侧且位于腔体的内部均螺纹连接有活动块，两个活动块的底部均固定连接有限位板，电机工作能够调整两个限位板之间的距离，使限位板能够固定不同大小的基板，扩大了适用范围，适用性更强，提高了实用性。附图说明图1为本实用新型结构的立体图；图2为本实用新型结构的剖视图；图3为本实用新型图2中a处的局部放大图；图4为本实用新型宝来利真空密封盖结构的立体图；图5为本实用新型第二密封盖结构的立体图。图中：1腔体、2基板、3坩埚、4支撑腿、5密封门、6支撑板、7防护框、8宝来利真空滑轨、9活动板、10宝来利真空伸缩杆、11第二伸缩杆、12宝来利真空密封盖、13第二密封盖、14加热板、15降温板、16电机、17双向螺纹杆、18活动块、19限位板、20第二滑轨、21抽风机、22风管。具体实施方式下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然。宝来利真空镀膜机性能稳定，膜层均匀耐磨，钟表镀膜，有需要可以咨询！浙江化妆盒真空镀膜机设备厂家

本实用新型涉及真空设备领域，尤其涉及一种真空反应腔室和真空镀膜设备。背景技术：目前，真空设备，例如，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition，等离子体增强化学气相沉积）和pvd（physicalvaporde****ition，物宝来利相沉积）设备已被广泛应用于各种产品的生产过程中，如光伏电池、半导体器件等等。真空设备中(如pecvd设备、pvd设备)的宝来利真空反应室通常为单个反应腔室，传动部件和升降部件等机械模块部件以及溅射靶材等工艺模块部件均设置于该单个反应腔室内，这就造成反应腔室内的工艺环境不够封闭，容易造成工艺环境污染。另外，设置单个反应腔室时，由于工艺反应区域较大，容易造成工艺所需原料的浪费，同时，还会造成工艺反应过程中温度波动大，不可控因素较多，从而影响工艺过程。技术实现要素：本实用新型的宝来利真空目的在于提供一种真空反应腔室，以解决现有真空设备中由于只设置一个反应腔室造成的工艺环境易被污染、工艺原料易被浪费、环境温度可控性低等问题。本实用新型的第二目的在于提供一种包含本实用新型真空反应腔室的真空镀膜设备。为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：一种真空反应腔室，包括：用于提供真空环境的外腔体。手机面板真空镀膜机现货直发宝来利真空镀膜机性能稳定，膜层均匀耐磨，七彩氧化钛，有需要可以咨询！

通孔41从上至下向外倾斜，通孔41的内部固定安装有喷头42。铰接的前罐体2和后罐体3方便开合，驱动装置5能带动清理装置4中的u形架44、刮板43转动，使刮板43剐蹭后罐体3、前罐体2的内表面，从上至下向外倾斜通孔41能够与喷头42配合，将清洗液喷洒在后罐体3、前罐体2的内表面。驱动装置5包括半圆板52，前罐体2的前表面上侧开设有与半圆板52匹配的半圆槽51，半圆板52的上表面开设有转轴通孔53，半圆板52的上表面固定安装有防护罩55和减速电机54，防护罩55罩接在减速电机54的外侧，减速电机54的输出轴转动安装在转轴通孔53的内部，减速电机54输出轴的下端与u形架44固定装配。驱动装置5中的半圆板52起支撑作用，与半圆槽51配合不妨碍后罐体3和前罐体2的盖合，减速电机54能够带动u形架44、刮板43在后罐体3和前罐体2的内部转动，防护罩55能够保护内部的减速电机54，起防尘、保护作用。前罐体2的下表面后侧安装有集料盒7，集料盒7包括出料口71，出料口71的下侧固定安装有外螺管72，外螺管72的外侧螺接有收集盒73。集料盒7能够通过出料口71、外螺管72、收集盒73，方便收集并清理清理装置4剐蹭下来的碎屑。控制箱1的内部左侧固定安装有清洗箱8和泵6，清洗箱8固定安装在泵6的右侧。

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进一步地，所述第二底板内和所述第二侧壁内均设有用于穿设温控管的通道，所述温控管埋设于所述通道内。一种真空镀膜设备，包括机械模块部件、工艺模块部件和本实用新型所述的真空反应腔室，所述工艺模块部件位于所述内反应腔内，部分所述机械模块部件位于所述外腔体内。本实用新型实施例提供的上述技术方案与现有技术相比具有如下***：本实用新型提供的真空反应腔室，包括用于提供真空环境的外腔体，以及位于所述外腔体内的用于进行工艺反应的内反应腔；并且，内反应腔的侧壁上设有自动门，工件自外腔体经自动门进入内反应腔中。其中，外腔室和内反应腔为嵌套结构，其内反应腔位于外腔室内。该结构中，相当于设置了两个腔室，其中外腔体用于提供真空环境，而工艺反应则在内反应腔中进行。由于采用双腔室结构，可以将工艺模块部件设置于内反应腔中，而与工艺反应无直接关系的机械模块部件则被设置于外腔室中。经抽真空处理后，位于外腔体中的工件再经自动门进入内反应腔中进行工艺反应，可以有效避免设备杂质和工件杂质进入内反应腔中。该结构可以避免工艺环境外的污染源进入工艺反应区域，避免工艺污染，提供工艺质量。由于设置双腔室，作为工艺反应区的内反应腔相对较小。宝来利多弧离子真空镀膜机性能稳定，膜层均匀耐磨，细腻有光泽，有需要可以来咨询！靶材真空镀膜机参考价

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使用高真空多层精密光学真空镀膜设备时，必须注意以下事项：清洁度要求：由于任何微小的尘埃或污染都可能导致镀膜质量下降，因此在操作前后需要确保设备的清洁。这包括定期清洗真空室、支架和夹具，以及使用无尘布和适当的清洁剂。真空环境维护：为保证镀膜质量，必须维持稳定的高真空环境。操作人员应检查真空泵的工作状态，确保没有泄漏，并定期更换泵油以保持其较好性能。薄膜材料准备：根据所需镀制的薄膜类型，选择恰当的薄膜材料，并对其进行预处理，比如加热去气，以避免在镀膜过程中产生杂质。镀膜过程监控：使用膜厚监控仪实时监测薄膜的沉积速率和厚度，确保每层薄膜都能达到预定的精度要求。浙江化妆盒真空镀膜机设备厂家