企业商机
镀膜机基本参数
  • 品牌
  • BLLVAC
  • 型号
  • 1350
  • 是否定制
镀膜机企业商机

光学真空镀膜机安装要求

1光学真空镀膜机重量较大,要求其安置场所(操作间)以及搬运通道的地面必须有足够的承载强度。如果不能满足要求,请进行必要的改建。.2使用本机,需要提供5.5Kg-6.5Kg的压缩空气、三相五线380V/50Hz的电力、接地电阻小于10Ώ,电阻率为5Ώ.cm的清洁冷却水(水温18℃-25℃,冷却水压:入口0.3MPa-0.4MPa/出口OKg-1Kg)。3真空室内有人时,不得关闭真空室门。否则,可能出现的误操作(如抽真空)将在极短的时间内导致真空室内的人员死亡,造成无法挽回的严重后果。.4本机不能进行含自燃性、可燃性及爆性气体的排放,不能在含有自燃性、可燃性及B性气体的环境中使用。5禁止使用有毒气体、放射性气体等有害气体。对于使用此类气体的光学真空镀膜机,本公司拒绝任何检查、维修及改造。6对于产生故障、破损或异常声音的设备,请立即停止使用。否则可能造成事故甚至人身伤害。7不得在户外、水或酸碱性气体能波及到的场所、尘埃较多的场所及储藏有危险物品的场所使用本机。8本机使用的真空泵不能进行凝缩性、凝固性气体或粉尘的排放,9在真空室门打开或限位开关处于开锁状态下时,禁止运行设备 光学真空镀膜机是一种高精度的设备,用于在光学元件表面上制备高质量的薄膜。河南PVD真空镀膜机批发价格

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多弧离子真空镀膜机BLL-1350PVD型常规配置;

真空系统真空泵:2X-70SV300E2M275增压泵:ZJP600WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低温泵扩散泵真空室加热系统:最高温度:0到200℃型号:不锈钢管装加热器基片架盘型号:12轴公转或公自转,转速:0到30转数/分软启,软停,可调速电器控制系统:PC和PLC控制VAC系统:进口复合真空计MFC系统:进口质量流量控制器;进口电磁阀APC系统偏压电源:直流脉冲电源溅射电源:直流脉冲电源电源;中频电源弧源:多弧,平面,孪生,柱靶深冷系统:DW-3全程自动控制镀膜,保障生产产品的一致性,重复性,稳定性。 河北手机镀膜机批发价格光学真空镀膜机可以在不同波长范围内进行镀膜,如紫外、可见、红外等。

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中频热蒸发双门真空镀膜机BLLVAC-1600S型常规配置;

真空系统真空泵:HG-150SV630E2M275增压泵:ZJP1200/1800WAU2001EH2600高真空泵:扩散泵基片架盘型号:公自转转速:0到30转数/分软启,软停,可调速电器控制系统:触膜屏面板或PC和PLC控制全程自动控制镀膜以达到终产品所需要求VAC系统:进口真空计硅油系统:德国进口流量控制器:1进口电磁阀:1APC系统辅助源:意大利10KW中频电源,AE电源,直流电源蒸发源:40KW电阻热蒸发深冷系统:真空室麦斯纳阱扩散泵冷阱,真空硅油桶

磁控溅射真空镀膜机BLL-1660RS型常规配置;

真空系统真空泵:2X-70SV300E2M275增压泵:ZJP600/1200WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低温泵扩散泵真空室加热系统:最高温度:0到200℃型号:不锈钢管装加热器基片架盘型号:12轴公转或公自转,转速:0到30转数/分软启,软停,可调速电器控制系统:PC和PLC控制VAC系统:进口复合真空计MFC系统:进口质量流量控制器;进口电磁阀APC系统偏压电源溅射电源:HUTTINGER电源或AE电源深冷系统:DW-3全程自动控制镀膜,保障生产产品的一致性,重复性,稳定性。 光学真空镀膜机广泛应用于光学、电子、航空航天等领域。

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真空镀膜的厚度可以通过以下几种方式来控制:1.时间控制法:通过控制镀膜时间来控制膜层的厚度,一般适用于单层膜的制备。2.监测法:通过在真空室内安装监测仪器,如晶体振荡器、光学膜厚计等,实时监测膜层厚度,从而控制镀膜时间和速率,适用于多层膜的制备。3.电子束控制法:通过控制电子束的功率和扫描速度来控制膜层的厚度,适用于高精度、高质量的膜层制备。4.磁控溅射控制法:通过控制磁场和溅射功率来控制膜层的厚度,适用于制备金属、合金等材料的膜层。以上方法可以单独或结合使用,根据不同的材料和工艺要求选择合适的控制方法。磁控溅射真空镀膜机可以制备出具有高透磁率、高磁饱和度等特性的薄膜材料。山东手机镀膜机价位

真空镀膜机的镀膜效果稳定,镀层均匀。河南PVD真空镀膜机批发价格

光学真空镀膜机是一种利用真空技术进行薄膜制备的设备。其工作原理是将待镀膜的基材放置在真空室内,通过抽气系统将真空室内的气体抽出,使得真空室内的压力降低到一定的范围内,然后通过加热系统将镀膜材料加热至一定温度,使其蒸发成气体,然后通过控制系统将气体引导到基材表面,形成一层薄膜。在真空室内,为了保证薄膜的均匀性和质量,通常会采用多种手段进行辅助,如旋转基材、倾斜镀膜源、使用多个镀膜源等。此外,为了保证薄膜的光学性能,还需要对真空室内的气体进行精确控制,以避免气体对薄膜的影响。光学真空镀膜机广泛应用于光学、电子、航空航天等领域,可以制备出具有高透过率、高反射率、高耐磨性等特性的薄膜,为现代科技的发展提供了重要的支持。 河南PVD真空镀膜机批发价格

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在使用多弧离子真空镀膜机时,提高薄膜的均匀性和附着力是至关重要的。以下是一些关键措施:1.优化基板位置与运动:通过调整基板与靶材的相对位置和角度,以及使用旋转、摇摆或行星式旋转的基板架,可以增加薄膜的均匀性。2.调节工艺参数:精确控制溅射气压、气体种类和流量、弧电流以及基板偏压,可以改善薄膜的结构和性能。3.预处理基板:在镀膜前,对基板进行彻底的清洁和必要时的活化处理(如氩气或氮气轰击),以增强薄膜与基板的附着力。4.使用中间层或缓冲层:在基板和目标薄膜之间沉积一层或多层与两者都有良好结合力的中间层,可以明显提升薄膜的附着力。5.后处理薄膜:镀膜后进行适当的热处理或化学处理,可以改善薄膜的...

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