黑龙江硅基氮化镓器件及电路芯片定制开发

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南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司专注于光电器件及电路技术开发，具备先进的光电器件及电路制备工艺。公司为客户提供定制化的技术开发方案和工艺加工服务，致力于满足客户在光电器件及电路领域的多样化需求。研究院致力于研发光电集成芯片，以应对新体制微波光子雷达和光通信等领域的发展需求。光电集成芯片是当前光电子领域的重要发展方向，具有广阔的应用前景。通过不断的技术创新和工艺优化，研究院在光电集成芯片的研发方面取得了较大成果，为通信网络和物联网等应用提供了强有力的支撑。在技术研发方面，研究院始终秉持高标准，追求专业。通过引进国际先进的技术和设备，以及培养高素质的研发团队，研究院在光电器件及电路技术领域取得了多项突破性成果。同时，研究院不断加强与国内外企业和研究机构的合作与交流，共同推动光电器件及电路技术的创新与发展。在工艺制备方面，研究院严谨务实，注重细节。通过对制备工艺的不断优化和完善，研究院成功制备出了高质量的光电器件及电路产品，满足了客户对性能、可靠性和稳定性的要求。同时，研究院不断探索新的制备工艺和技术，为未来的技术进步和市场拓展奠定了坚实的基础。

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芯谷高频公司拥有芯片研发与制造能力，能够高效地完成芯片流片，包括太赫兹、异质异构集成等领域芯片。黑龙江硅基氮化镓器件及电路芯片定制开发

南京中电芯谷高频器件产业技术研究院有限公司对外提供异质异构集成技术服务，可进行以下先进集成材料制备和研发：1)单晶AlN、LiNbO3压电薄膜异质晶圆，用于SAW、BAW、XBAR等高性能射频滤波器；2)厚膜LiNbO3、薄膜LiNbO3异质晶圆，用于低损耗光学平台；3)AlGaAs-on-insulator，绝缘体上AlGaAs晶圆，用于光量子器件等新一代片上光源平台；4)Miro-Cavity-SOI，内嵌微腔的绝缘体上Si晶圆，用于环栅GAA，MEMS等器件平台；5)SionSiC/Diamond，解决传统Si衬底功率器件散热低的瓶颈；6)GaNonSiC，解决自支撑GaN衬底高性能器件散热低的瓶颈；7)支持特定衬底功能薄膜材料异质晶圆定制研发。黑龙江硅基氮化镓器件及电路芯片定制开发