传统工业用碱操作流程复杂,液碱、片碱需专业人员佩戴防护装备进行操作,避免腐蚀伤害;石灰需提前破碎、溶解、搅拌,耗时耗力,人力成本高昂。新型离子碱充分考虑操作便捷性,固体形态便于定量称重、投放,无需复杂预处理流程,溶解过程温和无大量放热,操作人员无需特殊防护装备,普通工人经简单培训即可上手。操作流程的简化大幅降低人力成本,减少操作失误概率,... 【查看详情】
制药行业的反应釜因生产含硫药物,易形成硫垢,若混入药品会导致纯度不达标,面临 GMP 检查处罚风险。传统清洗剂因残留高,清洗后需反复冲洗 10 次以上,耗时耗水。森纳斯硫垢清洗剂采用医药级原料,残留量低于 0.001%,符合 GMP 要求,清洗后只需冲洗 2-3 次即可达标。某抗生su生产企业使用后,反应釜内硫垢去除率达 99%,药品纯度... 【查看详情】
传统工业用碱操作流程复杂,液碱、片碱需专业人员佩戴防护装备进行操作,避免腐蚀伤害;石灰需提前破碎、溶解、搅拌,耗时耗力,人力成本高昂。新型离子碱充分考虑操作便捷性,固体形态便于定量称重、投放,无需复杂预处理流程,溶解过程温和无大量放热,操作人员无需特殊防护装备,普通工人经简单培训即可上手。操作流程的简化大幅降低人力成本,减少操作失误概率,... 【查看详情】
废水零排放(ZLD)系统在浓缩与结晶阶段常出现硫酸钙结垢堵塞问题,尤其在高硬度、高盐废水中更为突出。森纳斯硫酸钙清洗剂通过复合分子络合技术,打破CaSO₄晶体间结合键,实现快速溶垢。适合常规硫酸钙垢环境,温和中性,不伤材质;专为复杂垢层场景设计,能同时分散油垢与硅垢,兼具除垢与防垢双重效果。产品比较大优势在于“溶解彻底、不堵设备”,清洗过... 【查看详情】
膜结垢是制约系统能效与寿命的主要因素,其中硅垢尤为顽固。高硅地下水及浓缩废水在膜端形成的硅垢,不只清洗困难,还常导致膜元件提前更换,增加运维负担和能耗成本。对于企业而言,防垢比清垢更具价值。森纳斯高硅阻垢剂以其优异的分散稳定性能,帮助用户有效延长膜系统清洗周期,实现明显的节能与成本优化。其独特配方可使反渗透膜在二氧化硅浓度300ppm条件... 【查看详情】
制药行业蒸发器常处理含有机物和盐分的废液,结垢成分复杂、附着牢固,传统酸洗无法彻底溶解,反而可能腐蚀设备表面。森纳斯针对制药蒸发器结垢“清不净、洗不透”的痛点,研发出一套自研化学清洗剂体系,配合物理冲洗和精细循环控制技术。我们结合300+垢样研究成果,对各类有机垢、钙镁垢、混合硫垢均能实现高效剥离。森纳斯拥有专业团队与精密清洗设备,能在不... 【查看详情】