325：是用于环氧树脂的环氧固化剂。它是一种粉碎级的双氰胺，其中含有3％的惰性流量控制添加剂，可抑制结块并改善处理效果。它提供了高含量的惰性流量控制添加剂，可防止结块并有助于分散到液态树脂中。在无溶剂体系中，与未粉碎级相比，它具有更高的反应活性。325用于娱乐和工业预浸料复合材料。它的保质期为12个月。推荐用量为4-15 phr。 ...

我司代理日本三井合成蜡（聚乙烯蜡、氧化聚乙烯蜡、聚丙烯蜡和特种改性蜡），产品型号众多，性价比高，用于塑料、涂料、颜料、纺织助剂、碳粉、墨粉、薄膜电容器、热熔胶等行业。主要型号有：三井PE蜡：420P、220P、110P、110P、NL100、NL500、NL800；三井高密度PE蜡：400P、100P、200P、800P三井OPE蜡：42...

日本三井(Mitsui)蜡粉Hi-WAX 4202E、Hi-WAX 420P、CHEMIPEARL W410系列全介绍 三井Hi-WAX4202E：是一种高度结晶、可乳化、低分子量、高酸值的聚烯烃蜡。作为防滑剂。它是基于齐格勒聚合技术通过直接聚合制造的。具有较低的硬度和软化点以及良好的电绝缘性能。具有出色的耐热性和耐化学性以及良...

Hi-WAX 210MP：是一种高度结晶、可乳化、低分子量、高酸值的聚烯烃蜡。它是基于齐格勒聚合技术通过直接聚合制造的。具有较低的硬度和软化点以及良好的电绝缘性能。具有出色的耐热性和耐化学性以及良好的热稳定性。易于粉碎，对极性聚合物、无机化学品和金属具有良好的亲和力。Hi-WAX 210MP的可能应用包括印刷油墨和颜料分散应用。 ...

325：是用于环氧树脂的环氧固化剂。它是一种粉碎级的双氰胺，其中含有3％的惰性流量控制添加剂，可抑制结块并改善处理效果。它提供了高含量的惰性流量控制添加剂，可防止结块并有助于分散到液态树脂中。在无溶剂体系中，与未粉碎级相比，它具有更高的反应活性。325用于娱乐和工业预浸料复合材料。它的保质期为12个月。推荐用量为4-15 phr。 ...

HI-WAX405MP 聚乙烯蜡HI-WAX是聚合蜡，改性蜡和热裂解蜡的不同等级的聚乙烯蜡。蜡由于其分子结构而可用作增滑剂，分散剂，树脂改性剂和脱模剂，从而使其性能优于天然蜡。合成蜡的性能特征和特性包括：室温下为固体或半固体低熔点，在室温〜150°C熔化囊状低分子树脂分子量：300〜10,000（低分子）.各种等级的HI-WAX可用于多种...

让人闻风丧胆的ECHA（欧洲化学品管理局）将常用的苯并三氮唑系列紫外吸收剂UV320/UV326/UV327/UV328/UV329都已禁用，这些紫外线吸收剂将在欧盟被逐步禁用，因此，更环保是CHIGUARD@GA403的一个附赠优点。如果您需要在保持制品无色透明情况下保护内容物，如眼球的晶状体、紫外敏感的维生素（如vitaminA/C/...

NylostabS-EED尼龙用多功能助剂一种为尼龙量身定做的独特的多功能助剂，（与尼龙分子识别而相容）。>改善尼龙熔融加工性能在尼龙中添加Nylostab可以提高其熔融加工性>增强长期热稳定性和光稳定性,这种高度相容、持久有效的添加剂可以赋予尼龙极大地稳定作用，这是其他传统光稳定系统所不能提供的。将NylostabS-EED与oxala...

透明PC/PET/PMMA紫外线吸收剂HostavinB-CAPCAS:6337-43-5透明PC/PET/PMMA紫外线吸收剂HostavinB-CAP是苯亚甲基丙二酸酯型无色紫外光吸收剂。该产品所具有的物理网状结构可使其吸收高能量UV射线，起到物理屏障的作用，即使在严酷的气候条件和苛刻的应用环境中（如汽车照明灯），也能有效抵挡阳光对涂...

三嗪类长效性紫外光稳定剂Chiguard106使用范围：PE:膜、扁丝、注塑和滚塑制品、片材、茂金属。PP:膜、扁丝、纤维、注塑制品、TPO。聚缩醛、尼龙、PET、PBT、ASA、ABS、HIPS、PMMA和PUR。三嗪类长效性紫外光稳定剂Chiguard106应用范围：聚乙稀薄膜、EVA、棚膜、聚丙烯纤维聚烯烃等薄制品领域。应用指引：在...

Chiguard100G紫外光稳定剂Chiguard100G可带来如下好处：·提高摩擦静电喷涂中上粉率，减少粉末的回收量·提高粉末涂料和工件之间的附着力。·提高喷涂中对工件的‘包敷性’。紫外光稳定剂Chiguard100G可能会和涂料体系中的酸性成分如：酸类催化剂发生反应。所以在此类条件下使用，请加以测试。建议用量（相对于树脂固体份）清漆...

与酸性材料低反应性的低碱性光稳定剂Chiguard228中性受阻胺紫外光稳定剂Chiguard228是一种非聚合型高分子量的受阻胺类类光稳定剂。其相较于其他受阻胺类光稳定剂优点明显，可以增强着色聚烯烃制品的色度。由于它的大分子结构，它适用于所有要求低挥发性和高抗迁移性的领域。由于一般受阻胺类光稳定剂偏碱性，在酸性体系（如溴系阻燃体系中）会...