ITO显影液的浓度是指显影剂的相对含量,即NaOH、Na2SiO3总含量。市场上销售的显影液多是浓缩型液体,使用时需要按比例稀释,显影液的浓度多以显影液的稀释比来表示。在其他条件不变的前提下,显影速度与显影液浓度成正比关系,即显影液浓度越大,显影速度越快。当温度22℃,显影时间为60秒时,PD型显影液浓度对PS版性能的影响。当显影液浓度过... 【查看详情】
ITO显影液是一种化学用品的成分,主要是用硫酸、硝酸及苯、甲醇、卤化银等硼酸、对苯二酚配合组成的一种特殊的用材。像对苯二酚对皮肤、粘膜有强烈的腐蚀作用,吸入、食入、经皮吸收均会影响。常用的黑白显影剂是硫酸对甲氨基苯酚(米吐尔)、对苯二酚(几奴尼)等。常用的彩色显影剂有CD-2、CD-3、CD-4等。在使用中,显影剂与保护剂、促进剂、阻止剂... 【查看详情】
影响ITO碱性氯化铜蚀刻液蚀刻速率的因素:溶液pH值的影响。蚀刻液的pH值应保持在8.0~8.8之间,当pH值降到8.0以下时,一方面对金属抗蚀层不利;另一方面,蚀刻液中的铜不能被完全络合成铜氨络离子,溶液要出现沉淀,并在槽底形成泥状沉淀,这些泥状沉淀能在加热器上结成硬皮,可能损坏加热器,还会堵塞泵和喷嘴,给蚀刻造成困难。如果溶液pH值过... 【查看详情】
废水浓缩设备的密封环材料选择,由于反应釜大多密封气体,选材上,除考虑介质的腐蚀作用外,还要考虑材料本身无渗漏。当直径较大时,应采用整体表面复合材料;当压力较高时,宜采用较高的机械强度的高pv值组对材料,当介质压力在10MPa以下时,推荐用硬质合金或碳化硅与碳石墨材料组对。当介质压力大于10MPa时,推荐用硬质合金与硬质合金、硬质合金与铜合... 【查看详情】
废水浓缩设备的反应罐内设有搅拌桨,底座及支撑架,沉淀池右侧侧壁设有出水管道,管道上均设有阀门,阀门,pH计及电机均与控制箱电路连接;通过设置控制箱及pH计,使得含氟废水在处理过程中可以根据检测的pH值实时控制加入的碱性溶液或者酸性溶液的量,减少了溶液的浪费,提高含氟废水的处理效率,减小对环境的污染。废水浓缩设备,包括两个竖向的支撑架,支撑... 【查看详情】
脱硫废水利用废水浓缩设备实现“零排放”,是一条经济效益与生态效益兼备的途径,需要不断开发新工艺、不断完善、创新。高浓度有机废水因为其特殊的性质及来源,一直是工业废水处理的难题。通常单一的处理手段很难试排放达标。现阶段有一些处理技术。高浓度有机废水,如酒精废液、制药行业废水、垃圾渗滤液等,是指COD浓度在2000mg/L以上的废水,其特点是... 【查看详情】
IC封装药液起着把金属与腐蚀介质完全隔开的作用,防止金属与腐蚀介质接触,从而使金属基本停止溶解形成钝态达到防腐蚀的作用。防变色剂一般分为两种:一种为有机封闭剂,一种为油性封闭剂。有机封闭剂:闪点高(110度),可水溶性,不易燃烧,使用安全,环保,无铬,无排放;使用简单,常温浸泡,封闭前无需干燥产品;使用寿命长,平时操作一般只需添加,无需更... 【查看详情】
IC除锈剂不伤害皮肤,长期接触时,应采取适当的劳动保护措施(眼镜、橡胶手套、劳动防护服、胶鞋),确保操作员的安全。IC除锈剂不能接触眼睛,如果意外接触液体,必须立即用水冲洗或接受疗养。请不要误食IC除锈剂。IC除锈剂的使用方法:根据被除锈的材质不同,除锈时的要求不同,IC除锈剂的使用方法也不同,必须按照正确的使用要求,才能达到好的除锈效果... 【查看详情】
影响ITO酸性氯化铜蚀刻液蚀刻速率的因素:1、Cu+含量的影响:根据蚀刻反应机理,随着铜的蚀刻就会形成一价铜离子。较微量的Cu+就会明显的降低蚀刻速率。所以在蚀刻操作中要保持Cu+的含量在一个低的范围内。2、Cu2+含量的影响:溶液中的Cu2+含量对蚀刻速率有一定的影响。一般情况下,溶液中Cu2+浓度低于2mol/L时,蚀刻速率较低;在2... 【查看详情】
ITO显影液主要应用于半导体、显示面板、太阳能电池等行业,对应的终端产品为芯片、智能终端、太阳能电池板。ITO显影液是一种重要的湿电子化学品,也是半导体、显示面板、太阳能电池制作过程中关键的原材料之一。显影液质量的优劣,直接影响电子产品的质量,电子行业对显影液的一般要求是超净和高纯。半导体、显示面板、太阳能电池等行业发展速度快,属于国家大... 【查看详情】