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  • 江西华源光学镀膜机

    江西华源光学镀膜机

    【溅射镀膜的特点】溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅镀具有电镀层与基材的结合力强,电镀层致密,均匀等优点。溅射粒子几不受重力影响,靶材与基板位置可自由安排,薄膜形成初期成核密度高,可生产10nm以下的极薄连续膜,靶材的寿命长,可长时间自动化连续生产。靶材可制作成各种形状,配合机台的特殊设计做更好的控制及*有效率的生产 溅镀利用高压电场做发生等离子镀膜物质,使用几乎所有高熔点金属,合金和金属氧化物,如:铬,钼,钨,钛,银,金等.但加工成本相对较高。光学镀膜机的主要应用。江西华源光学镀膜机 四、光学镀膜机的保养(一)定期更换扩散泵油扩散泵油使...

    发布时间:2023.07.11
  • 中国台湾中一光学镀膜机

    中国台湾中一光学镀膜机

    【光学镀膜机维护与保养之光路的检修与维护】光路调整的先决条件是:确保直流稳定电源、调制光源头、光纤、光栅单色仪、光电转换放大器、光学膜厚仪及各专yong电缆的完好和正确接入。特别是光电转换放大器、光学膜厚测量仪的接地点,必须单独归至主机接点牢固接地。 导磁板及扫描圈的维护:导磁板及永磁铁是不需要经常拆卸维护,如需拆卸,请注意永磁铁的极向,及导磁板的方向。线圈由于安装的空间密实,请不要使用硬尖的东西撬动,否则有可能会造成损坏。光学镀膜机使用时,需要注意哪些问题?中国台湾中一光学镀膜机【溅射镀膜的特点】溅射镀膜不受膜材熔点的限制,可溅射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等难熔物质。溅镀具有电镀层与基...

    发布时间:2023.07.11
  • 天津进口光学镀膜机转架设计

    天津进口光学镀膜机转架设计

    【光学镀膜之蒸发源的类型和特点】 ①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质 。电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 ②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。 ③电子束加热源:用电子束轰击材料使其蒸发。适用于蒸发温度较高(不低于2000℃)的材料。 特点:能在金属、半导体、绝缘体甚至塑料、纸张、织物表面上沉积金属、半导体、绝缘体、不同成分比的合金、化合物及部分有基聚合物等的薄膜,其适用范围之广是其它方法无法与之比拟的。可以不同的沉积速率、不同的基板温度和不同的蒸气分子入射角蒸镀成膜,因而可得...

    发布时间:2023.07.06
  • 河北光学镀膜机是怎么样监控厚度的

    河北光学镀膜机是怎么样监控厚度的

    【镀膜玻璃的主要产生法之化学沉积法】化学气相沉积(chemicalvapourdeposition,CVD)是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物或单质气体,供给基板,利用气相反应,在基板表面上反应沉积出所需固体薄膜的工艺技术,该技术已成为镀膜玻璃生产的主要制备技术。在线CVD法镀膜技术,是在浮法玻璃生产过程中,连续沉积化合物薄膜的CVD工艺技术,是目前世界上比较先进的镀膜玻璃生产技术。它是以洁净、高速牵引(8-15m/min)、高温(600℃)的浮法玻璃为沉积衬底。换言之,薄膜沉积前,玻璃衬底即将离开锡槽但尚未进人退火窑,且未被处理净化。国外*早采用在线CVD法连续沉积Sn02薄...

    发布时间:2023.07.06
  • 浙江光学镀膜机观察窗玻璃

    浙江光学镀膜机观察窗玻璃

    【镀膜玻璃的主要产生法之真空磁控溅射法】磁控溅射法的生产方式包括间歇式和连续式生产法,其中连续式生产法又可分为水平和垂直连续式生产两种。其中,水平连续式生产法是玻璃基片在水平输送过程中完成全部加工工艺的生产方式,以具有3个溅射室的双端机。 磁控溅射镀膜的优点主要有:①对靶材的面积和形状不作要求,且可实现大面积镀膜,且膜层均匀性好、膜厚可控、溅射工艺重复性好;②可用的膜材广fan,只要能做成靶材的任何材料都可实现溅射,因此可制备绝大多数材料的薄膜,包括合金和化合物等;③薄膜与基片的附着力强,膜层纯度高、致密;④成膜速度快,生产效率高。光学镀膜机大概多少钱一台?浙江光学镀膜机观察窗玻璃【镀膜玻璃的...

    发布时间:2023.06.19
  • 北京光学镀膜机参数

    北京光学镀膜机参数

    【光学真空镀膜之电子qiang蒸镀系统注意事项】 光学真空镀膜机电子qiang蒸镀法比传统热电阻式加热法的热转换效率高而秏能少,对蒸镀材料的选择方面受限较少。以纯元素之蒸镀而言,电阻式蒸镀受限于加热温度,多半只从事铝、铬、金、银等少数几种薄膜,电子束蒸镀则可制镀高熔点材料如钨、钼等金属和活性甚强的钛、铌等金属,即便是很难使用溅镀技术制备的磁性材料如铁、钴、镍等金属,亦能够蒸镀出品质良好的薄膜。为了顾及薄膜纯度,在操作技巧上纯元素之蒸镀通常采取高真空度与高蒸镀速率的镀膜条件。化合物材料如氧化物、硫化物、氮化物及氟化物等皆可使用电子qiang蒸镀方式,部份材料在被电子束加热蒸发过程中会因高热而发生...

    发布时间:2023.06.19
  • 江苏卧式光学镀膜机厂家供应

    江苏卧式光学镀膜机厂家供应

    一、电子枪安装与维护电子枪蒸发源控制系统是由电子枪灯丝电源、高压电源、扫描电源、坩埚驱动电源、蒸发源等组成一个电子枪控制电柜。电子枪控制电柜内含有高压,在工作前必须保证柜门各个联锁装置正常工作,非专业人员不得打开电柜门,电子枪在工作时不得打开电柜门,整个电柜必须有良好的接地并与机台接地连接。电子枪蒸发源安装在真空室底板上,必须与底板有良好的接地效果,安装蒸发源必须使用不锈钢螺丝来固定,周边200mm以内不得有导磁的物体,否则会影响到电子枪的光斑成表,造成电子性能的不良。电子枪档板应尽量装在蒸发源坩埚的中心上30mm处,以不影响电子束的发射为好。电子枪蒸发源是一个精密机械加工体,在工作时必须保证...

    发布时间:2022.12.05
  • 山西大型光学镀膜机厂家

    山西大型光学镀膜机厂家

    【光学滤光片相关名词解释】 中心波长(CWL): 滤光片在实际应用中所使用的波长,如光源主峰值是850nm led灯,那需求的中心波长就是850nm。 峰值透过率(TP): 假设光初始值为100%,通过滤光片后有部分损耗了,通过光谱测量得出只有85%了,那就可以把这个滤光片的光学透过率定为(Tp)>80%。 半带宽(FWHM): 简单说就是*高透过率的1/2处所对应的波长,左右波长值相减,例如,峰值*好是90%,1/2就是45%,45%所对应的左右波长是875nm和825nm,那半带宽就是50nm。 截止率(Blocking): 截止区所对应的透过率.由于要想透过率达到零,那是非常难的事情,只...

    发布时间:2022.11.08
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