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三极管基本参数
  • 品牌
  • 盟科,MENGKE
  • 型号
  • 三极管
  • 应用范围
  • 功率,放大,达林顿,开关
  • 材料
  • 硅(Si),锗(Ge)
  • 封装形式
  • 贴片型,直插型,功率型
  • 极性
  • NPN型,PNP型
  • 频率特性
  • 高频,中频,低频
  • 功率特性
  • **率,小功率
  • 营销方式
  • 厂家直销,现货,库存
三极管企业商机

三极管极限参数 集电极大允许电流ICM当集电极电流超过一定值时,β就要下降,当β值下降到线性放大区β值的2/3时,所对应的集电极电流称为集电极大允许电流ICM。当IC>ICM时,并不表示三极管会损坏。 集电极大允许功率损耗PCM集电极电流通过集电结时所产生的功耗, PCM= ICUCB≈ICUCE,因发射结正偏,呈低阻,所以功耗主要集中在集电结上。在计算时往往用UCE取代UCB。反向击穿电压U(BR)CEO反向击穿电压U(BR)CEO,U(BR)CEO——基极开路时集电极和发射极间的击穿电压。开关三极管因功率的不同可分为小功率开关管、中型率和大功率开关管。硅管三极管分类

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三极管的特性有流控特性、放大功能特性;要想让三极管完全导通,必须要让两端加一个大于0.7V的电压,三极管才完全导通。三极管,全称应为半导体三极管,也称双极型晶体管、晶体三极管,是一种控制电流的半导体器件。其作用是把微弱信号放大成幅度值较大的电信号,也用作无触点开关。三极管是半导体基本元器件之一,具有电流放大作用,是电子电路的重点元件。三极管是在一块半导体基片上制作两个相距很近的PN结,两个PN结把整块半导体分成三部分,中间部分是基区,两侧部分是发射区和集电区,排列方式有PNP和NPN两种。泰州硅管三极管参数三极管放大电路主要利用三极管或场效应管的控制作用放大微弱信号。

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三极管电路组成:共射组态基本放大电路是输入信号加在基极和发射极之间,耦合电容器C1和Ce视为对交流信号短路。输出信号从集电极对地取出,经耦合电容器C2隔除直流量,将交流信号加到负载电阻RL之上。放大电路的共射组态实际上是指放大电路中的三极管是共射组态。在输入信号为零时,直流电源通过各偏置电阻为三极管提供直流的基极电流和直流集电极电流,并在三极管的三个极间形成一定的直流电压。由于耦合电容的隔直流作用,直流电压无法到达放大电路的输入端和输出端。当输入交流信号通过耦合电容C1和Ce加在三极管的发射结上时,发射结上的电压变成交、直流的叠加。放大电路中信号的情况比较复杂,各信号的符号规定如下:由于三极管的电流放大作用,ic要比ib大几十倍,一般来说,只要电路参数设置合适,输出电压可以比输入电压高许多倍。

制造三极管时,有意识地使发射区的多数载流子浓度大于基区的,同时基区做得很薄,而且,要严格控制杂质含量,这样,一旦接通电源后,由于发射结正偏,发射区的多数载流子(电子)及基区的多数载流子(空穴)很容易地越过发射结互相向对方扩散,但因前者的浓度基大于后者,所以通过发射结的电流基本上是电子流,这股电子流称为发射极电流子。由于基区很薄,加上集电结的反偏,注入基区的电子大部分越过集电结进入集电区而形成集电极电流Ic,只剩下很少(1-10%)的电子在基区的空穴进行复合,被复合掉的基区空穴由基极电源Eb重新补给。 三极管用作开关的选型表。

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在制造三极管时,有意识地使发射区的多数载流子浓度大于基区的,同时基区做得很薄,而且,要严格控制杂质含量,这样,一旦接通电源后,由于发射结正偏,发射区的多数载流子(电子)及基区的多数载流子(空穴)很容易地越过发射结互相向对方扩散,但因前者的浓度基大于后者,所以通过发射结的电流基本上是电子流,这股电子流称为发射极电子流。由于基区很薄,加上集电结的反偏,注入基区的电子大部分越过集电结进入集电区而形成集电极电流Icn,只剩下很少(1-10%)的电子在基区的空穴进行复合,被复合掉的基区空穴由基极电源Eb重新补给,从而形成了基极电流Ibn。 晶体三极管是在一块半导体基片上制作两个相距很近的PN结。珠海低压三极管哪里买

两个PN结把整块半导体分成三部分,中间部分是基区。硅管三极管分类

三极管放大电路的原理:共发射极放大电路共发射极放大器是应用普遍的放大器。所谓的共发射极放大器就是信号输入和信号输出都要依靠发射极完成的放大器。是一种典型的共发射极放大器。在该放大器内,VT是放大管,C1是输入信号耦合电容,C2是输出信号耦合电容,R1、R2是VT基极的直流偏置电阻,R3是VT的集电极负载电阻,VCC是供电电压,Ui是输入信号,Uo是输出信号。直流偏置供电电压VCC通过R1、R2分压后,加到VT的基极,为基极提供直流偏置电压,基极电压Ub≈VCCR2/(R1+R2)。流过R1的电流分两路到地:一路通过R2到地,另一路通过VT的发射极到地。硅管三极管分类

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