光子相关光谱法就根据特定方向的光子涨落起伏分析其颗粒大小。算法:采用除符合GB/T19627-2005/IS013321:1996标准的累积法外,还有R-R算法,可以算出纳米粒子样品的D50、D10及D90,并给出分布曲线。高灵敏度与信噪比:探测器采用专业级进口光电倍增管(PMT),对光子信号具有较高的灵敏度和信噪。纳米粒度仪分辨能力:中心部件采用CR-70-1-245数字相关器,具有识别5ns的光子脉冲分辨率。运算功能:采用高速数字相关器CR-70-1-245有245个通道进行数据采集与实时相关运算。稳定的光路系统:采用635nmLD激光光源和光纤技术搭建而成的光路系统。驰光机电科技有限公司是您可信赖的合作伙伴!贵州二氧化钛粒度分析仪厂家

CPS纳米粒度分析仪样本分散系统:自动液体循环、干粉分散器、粉料送样器、温度控制器、气溶胶控制器。粒度仪的较佳选择:EyeTech可以提供颗粒系统粒径、形状和浓度等方面的总体信息。具有多样化的功能,可以:监测动力学过程;提供标准的体积和数量分布的结果。激光和图像通道的结合:对球形、非球形及细长颗粒的精确定性分析;可同时测量粒径、粒形和浓度;多种模块配置可满足不同类型的干法及湿法检测需求;测量过程中可实时观察样品颗粒。贵州二氧化钛粒度分析仪厂家驰光机电科技品牌价值不断提升。

驰光机电小编温馨提示:为了准确地测量颗粒直径,EyeTech必须区分在焦点中心的和离开焦点中心的交互作用,因为只有在焦点中心的交互信号才能提供真实的颗粒直径。这个可以采用脉冲形状过滤器可以实现。只有衍生信号窄的脉冲才被认为是在中心的交互信号,然后被加到粒径分布数据中。颗粒互相作用产生光阻:可记录每个颗粒数据,直接测量真实粒径,与光学及其他性质无关,粒径浓度均可检测,无需校正;仪器的光学测量系统(主机)与样品分散系统完全单独的。
磨料的粒度测量:以上我们了解到磨料在CMP工艺中起到了关键性的作用,CMP磨料颗粒的典型尺寸范围是50-250纳米,典型的过大聚集体为1-10微米,并出现在ppm范围内。颗粒表征的挑战来自于精确确定纳米级颗粒尺寸,同时还识别出相对较少的微米级聚集体。CPS纳米粒度分析仪表征磨料颗粒粒度的有力工具。它可以分析任何粒度分布介于0.005和75微米的颗粒,提供比其他粒度分析方法好2到10倍的分辨率。较小峰值宽度可小至峰值直径的2%,粒径差别在大于3%的窄峰可以被完全分辨出来。驰光机电科技以诚信为根本,以质量服务求生存。

C-Quand在线EDXRF分析仪在PTA工艺中的应用,产品综述:精对苯二甲酸,英文名简称为PTA,它是聚酯生产链的重要组成部分,是中国重要的化工原料。PTA可用于生产聚酯,合成纤维和增塑剂等,它们大量用于工业塑料,薄膜,涂料和其他领域。作为纺织化纤和石油化工两大行业的重要中间体,PTA起着重要的承上启下作用。测量的必要性:通过添加醋酸钴和醋酸锰以及四溴乙烷催化剂,对二甲苯氧化可以制取苯二甲酸(TA)。如果能够对催化剂元素含量(钴、锰和溴Br)进行连续在线分析,可以更好地控制工艺驰光机电科技有限公司以创百年企业、树百年品牌为使命,倾力为客户创造更大利益!福建粒度分析仪厂家
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CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展,电子器件尺寸缩小,要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分,其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm,其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸,因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用!欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题!贵州二氧化钛粒度分析仪厂家
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下面是一些指导原则和步骤,帮助您正确选择实验室分析仪。确定实验需求,要明确实验的需求和目的。考虑需要测定的样品类型、分析的元素或化合物、以及实验要求的精度和重复性。了解实验流程和样品处理要求,以便选择适合的分析方法。确定所需的分析性能,分析性能包括精度、灵敏度、线性范围和重现性等。根据实验需求,确定所需的分析性能要求,以便选择能够满足这些要求的仪器。同时,考虑仪器的测量范围,以确保能够处理实验中可能遇到的样品浓度范围。驰光机电科技的行业影响力逐年提升。浙江CPS高精度纳米粒度分析仪仪器精度下降,故障表现:仪器测量结果与实际值偏差较大,精度下降。可能原因:传感器故障、校准误差、环境条件变化等。排...